一种多用途半导体加工处理设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种多用途半导体加工处理设备，包括加工处理设备，加工处理设备上安装有吸真空泵，吸真空泵的入口端连接有过滤装置，过滤装置包括相互配合的第一罐体和第二罐体，第一罐体和第二罐体的底端均设有开口，第一罐体和第二罐体的底端均螺纹连接有密封底盖，第一罐体和第二罐体顶端的内侧壁上分别固定安装有第一安装框和第二安装框，第一安装框和第二安装框的内侧壁上分别安装有精密滤网和滤膜。本实用新型专利技术中在吸真空泵的入口端设置有过滤装置，可以对被吸入吸真空泵内的气体进行过滤，从而避免切筋时产生的杂质被吸真空泵吸入后导致吸真空泵的工作效果变差和损坏吸真空泵，设计合理，实用效果好。实用效果好。实用效果好。

【技术实现步骤摘要】
一种多用途半导体加工处理设备


[0001]本技术涉及半导体设备
，尤其涉及一种多用途半导体加工处理设备。

技术介绍

[0002]经检索，中国专利号CN210429765U公开了一种多用途半导体加工处理装置，主体包括有半导体处理装置本体、异型真空吸盘、镂空支撑柱、端部微小真空吸盘、半导体切割线、半导体切割线支架、半导体加工平台、加工平台金属隔板，半导体处理装置本体设置有半导体加工平台，半导体加工平台顶部设置有异型真空吸盘，半导体处理装置本体侧面边缘设置有半导体切割线支架，半导体切割线支架头部设置有半导体切割线，异型真空吸盘侧面设置有端部微小真空吸盘，半导体加工平台侧面设置有加工平台金属隔板，半导体加工平台内部设置有镂空支撑柱。
[0003]现有的多用途半导体加工处理装置存在以下不足之处：半导体抽真空和切筋操作整合在一起，由于切筋时会产生较多的杂质，由于未在吸真空泵的入口端设置过滤装置，因此杂质被吸真空泵吸入后不仅会导致吸真空泵的工作效果变差，甚至会损坏吸真空泵，实用效果较差。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多用途半导体加工处理设备，包括加工处理设备，所述加工处理设备上安装有吸真空泵，其特征在于：所述吸真空泵的入口端连接有过滤装置，所述过滤装置包括相互配合的第一罐体(1)和第二罐体(2)，所述第一罐体(1)和第二罐体(2)的底端均设有开口，所述第一罐体(1)和第二罐体(2)的底端均螺纹连接有密封底盖(3)，所述第一罐体(1)和第二罐体(2)顶端的内侧壁上分别固定安装有第一安装框(4)和第二安装框(5)，所述第一安装框(4)和第二安装框(5)的内侧壁上分别安装有精密滤网和滤膜，所述第一罐体(1)上对称安装有第一进气管(6)和第一出气管(7)，且第一进气管(6)和第一出气管(7)分别位于第一安装框(4)的下侧和上侧，所述第二罐体(2)上对称安装有第二进气管(8)和第二出气管(9)，且第二进气管(8)和第二出气管(9)分别位于第二安装框(5)的下侧和上侧，所述第一出气管(7)与第二进气管(8)相互连接，所述第一罐体(1)的顶端安装有与精密滤网相互配合的清理装置。2.根据权利要求1所述的一种多用途半导体加工处理设备，其特征在于：所述第一罐体(1)和...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘雨墨，
申请(专利权)人：刘雨墨，
类型：新型
国别省市：