一种硅棒磨抛一体装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及磨抛技术领域，具体涉及一种硅棒磨抛一体装置，包括打磨块、第二滑块、蓄液池和第二固定板，所述第二滑块的一端设置有第一连接杆，所述电动伸缩杆的底端设置有打磨块，所述蓄液池的内部放置安装有小型吸水泵，所述小型吸水泵的一端连接有导管，所述第二固定板的顶端通过转轴设置有抛光轮。本实用新型专利技术通过设置有第一连接杆、打磨块、导管和抛光轮，使硅棒打磨装置和硅棒抛光装置一体化，在打磨完成后可在同一工作平台进行抛光处理，节省了工作人员的时间和精力，避免了工作人员在移动硅棒时对其造成损坏的可能，增加了装置的实用性，提升了工作人员的使用体验，增加了装置的工作效率。工作效率。工作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种硅棒磨抛一体装置


[0001]本技术涉及磨抛
，具体为一种硅棒磨抛一体装置。

技术介绍

[0002]随着科技的进步，现代生活中对于硅的利用也越来越广泛，但是硅在使用前需要进行加工打磨处理，最后进行抛光处理，才能使用，硅片打磨是由打磨装置对其进行打磨加工，然后再在抛光装置上进行抛光。
[0003]传统的硅棒打磨抛光处理为单个装置，工作人员在使用时较为费时费力，且操作过程繁琐，且在反复移动硅棒的过程中容易对硅棒造成磨损，不利于硅棒的加工处理，所以需要设计一种硅棒磨抛一体装置来解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种硅棒磨抛一体装置，以解决上述
技术介绍
中提出的传统的硅棒打磨抛光处理为单个装置，工作人员在使用时较为费时费力，且操作过程繁琐，且在反复移动硅棒的过程中容易对硅棒造成磨损，不利于硅棒的加工处理的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种硅棒磨抛一体装置，包括打磨机构、抛光机构和收液机构，所述打磨机构包括基座，所述基座内部的一端设置有第一伺服电机，所述第一伺服本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅棒磨抛一体装置，包括打磨机构（100）、抛光机构（200）和收液机构（300），其特征在于：所述打磨机构（100）包括基座（110），所述基座（110）内部的一端设置有第一伺服电机（111），所述第一伺服电机（111）的转轴一端设置有齿轮（112），所述基座（110）内部的顶端开设有第二滑槽（130），所述第二滑槽（130）的内部滑动安装有第二滑块（131），所述第二滑块（131）的一端设置有第一连接杆（114），所述第一连接杆（114）的一端贯穿基座（110）延伸至外侧，且所述第一连接杆（114）的一端为L状，所述第一连接杆（114）与齿轮（112）通过螺纹相互啮合，所述第一连接杆（114）的顶端通过转轴设置有第二连接杆（115），所述第二连接杆（115）的一端设置有电动伸缩杆（116），所述电动伸缩杆（116）的底端设置有打磨块（117），所述抛光机构（200）包括蓄液池（210），所述蓄液池（210）的内部放置安装有小型吸水泵（211），所述小型吸水泵（211）的数量为两个，所述小型吸水泵（211）的一端皆连接有导管（213），所述基座（110）的顶端设置有第一固定板（212），所述导管（213）皆安装于第一固定板（212）的顶端，所述导管（213）的出水口皆可调节角度，所述基座（110）顶端的两侧设置有第二固定板（214），所述第二固定板（214）的顶端通过转轴设置有...

【专利技术属性】
技术研发人员：李玉才，王营涛，
申请(专利权)人：杞县东磁新能源有限公司，
类型：新型
国别省市：