【技术实现步骤摘要】
阵列基板及阵列基板的制作方法
本专利技术涉及显示
,特别涉及一种阵列基板及阵列基板的制作方法。
技术介绍
随着有机发光二极管(OLED)技术的逐渐成熟,不同技术路线的选择也逐渐被提上日程,例如向上发光(top-emission)相比向下发光(bottom-emission)拥有更好的穿透率,及更简单的光路便于微腔器件的设计等也被定义为更适合开发的路线。相比向下发光的器件其阳极要求更高,不仅需要有较大功函数及粗糙度匹配上层器件,还需作为反射膜的作用,拥有良好的反射性能;例如现用较多的为ITO/Ag/ITO作为OLED阳极就能较好匹配其阳极要求,且上层ITO可做厚来调节光学腔长,提高器件性能,目前工艺上要求在750埃-800埃能得到较好的发光效。如图1所示,为现有的一种阵列基板结构示意图,阵列基板90包括层叠设置的玻璃基板91、阻隔层92、缓冲层93、有源层94、栅极绝缘层95、栅极层96、层间绝缘层97、源漏极层98、钝化层99以及阳极层910。其中阳极层910通常采用下层氧化铟锡、银层、上层氧化铟锡(ITO/A ...
【技术保护点】
1.一种阵列基板,其特征在于,设有阳极层,所述阳极层包括:/n第一导电层;/n反射金属层,设于所述第一导电层上;/n防结晶层,设于所述反射金属层上;以及/n第二导电层,设于所述防结晶层上;/n其中在所述阳极层被蚀刻时,所述防结晶层用于防止所述第二导电层在所述反射金属层上结晶。/n
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,设有阳极层,所述阳极层包括:
第一导电层;
反射金属层,设于所述第一导电层上;
防结晶层,设于所述反射金属层上;以及
第二导电层,设于所述防结晶层上;
其中在所述阳极层被蚀刻时,所述防结晶层用于防止所述第二导电层在所述反射金属层上结晶。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述反射金属层的材质包括银。
3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述防结晶层的材质包括铜;所述防结晶层的厚度为5埃-100埃。
4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一导电层、所述第二导电层的材质包括氧化铟锡。
5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括:
玻璃基板;
阻隔层,设于所述玻璃基板上;
缓冲层,设于所述玻璃基板上并完全覆盖所述阻隔层;
有源层,设于所述缓冲层上并对应所述阻隔层设置;
栅极绝缘层,设于所述有源层上;
栅极层,设于所述栅极绝缘层上;
层间绝缘层,设于所述栅极层上;
源漏极层,设于所述层间绝缘层上;以及
钝化层,设于所述源漏极层上;所述阳极层设于所述钝化层上并与所述源漏极层电连接。
6.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括制作阳极...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄旭,
申请(专利权)人:TCL华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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