发光二极管晶圆检测装置与方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种发光二极管晶圆检测装置与方法，发光二极管晶圆检测装置包括：一光产生模块、一光过滤模块以及一光检测模块。光产生模块提供一第一光束，第一光束穿过一发光二极管晶圆，以转换成一第二光束。光过滤模块邻近发光二极管晶圆以接收第二光束，第二光束穿过光过滤模块，以转换成一第三光束。光检测模块邻近光过滤模块以接收第三光束。第二光束的波长范围通过光过滤模块而受到限缩，以使得第三光束的波长范围小于第二光束的波长范围。借此，当光检测模块接收第三光束时，光检测模块能对第三光束进行光学检测。

【技术实现步骤摘要】
发光二极管晶圆检测装置与方法
本专利技术涉及一种发光二极管检测装置与方法，特别是涉及一种发光二极管晶圆检测装置与方法。
技术介绍
目前，发光二极管(Light-EmittingDiode，LED)因具备光质佳以及发光效率高等特性而得到广泛的应用。一般来说，为了使得采用发光二极管作为发光组件的显示设备能具有良好的色彩表现能力，现有技术是利用红、绿、蓝三种颜色的发光二极管芯片的相互搭配而组成一全彩发光二极管显示设备，此全彩发光二极管显示设备可利用红、绿、蓝三种颜色的发光二极管芯片分别发出的红、绿、蓝三种的颜色光，然后再通过混光后形成一全彩色光，以进行相关信息的显示。然而，现有技术中对于发光二极管芯片的检测仍有进步空间。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于，针对现有技术的不足提供一种发光二极管晶圆检测装置与方法。为了解决上述的技术问题，本专利技术所采用的其中一技术方案是，提供一种发光二极管晶圆检测装置，其包括：一光产生模块、一光过滤模块以及一光检测模块。所述光产生模块提供一第一光束，所述第一光束穿过一发光二极管本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种发光二极管晶圆检测装置，其特征在于，所述发光二极管晶圆检测装置包括：/n一光产生模块，所述光产生模块提供一第一光束，所述第一光束穿过一发光二极管晶圆，以转换成一第二光束；/n一光过滤模块，所述光过滤模块接收所述第二光束，所述第二光束穿过所述光过滤模块，以转换成一第三光束；以及/n一光检测模块，所述光检测模块接收所述第三光束，并对所述第三光束进行光学检测；/n其中，所述光产生模块、所述光过滤模块以及所述光检测模块设置在一光学路径上，以使得所述第一光束、所述第二光束以及所述第三光束能沿着所述光学路径进行传送；/n其中，所述第二光束的波长范围介于一第一最小值与一第一最大值之间，所述第三光束的...

【技术特征摘要】
20191009 TW 1081364951.一种发光二极管晶圆检测装置，其特征在于，所述发光二极管晶圆检测装置包括：
一光产生模块，所述光产生模块提供一第一光束，所述第一光束穿过一发光二极管晶圆，以转换成一第二光束；
一光过滤模块，所述光过滤模块接收所述第二光束，所述第二光束穿过所述光过滤模块，以转换成一第三光束；以及
一光检测模块，所述光检测模块接收所述第三光束，并对所述第三光束进行光学检测；
其中，所述光产生模块、所述光过滤模块以及所述光检测模块设置在一光学路径上，以使得所述第一光束、所述第二光束以及所述第三光束能沿着所述光学路径进行传送；
其中，所述第二光束的波长范围介于一第一最小值与一第一最大值之间，所述第三光束的波长范围介于一第二最小值与一第二最大值之间，所述第二最小值大于或者等于所述第一最小值且小于所述第二最大值，所述第二最大值小于或者等于所述第一最大值且大于所述第二最小值。


2.根据权利要求1所述的发光二极管晶圆检测装置，其特征在于，所述光产生模块包括一光源产生器、一光反射镜、一光形调整器以及一光面积调整器；其中，所述光源产生器提供一初始光束，所述初始光束通过所述光反射镜的反射而转换成一投向所述光形调整器的反射光束，所述反射光束穿过所述光形调整器而转换成一改变形状的整形光束，所述整形光束穿过所述光面积调整器而转换成一改变面积的所述第一光束；其中，所述光源产生器、所述光反射镜、所述光形调整器以及所述光面积调整器设置在所述光学路径上，以使得所述初始光束、所述反射光束以及所述整形光束能沿着所述光学路径进行传送；其中，所述反射光束投射到所述光形调整器的形状与所述整形光束投射到所述光面积调整器的形状不同，且所述整形光束投射到所述光面积调整器的形状的面积大于所述反射光束投射到所述光形调整器的形状的面积；其中，所述整形光束投射到所述光面积调整器的形状与所述第一光束投射到所述发光二极管晶圆的形状相同，且所述第一光束投射到所述发光二极管晶圆的形状的面积小于所述整形光束投射到所述光面积调整器的形状的面积；其中，所述初始光束与所述反射光束相互垂直，且所述反射光束、所述整形光束、所述第一光束、所述第二光束以及所述第三光束相互平行。


3.根据权利要求1所述的发光二极管晶圆检测装置，其特征在于，所述光产生模块包括一光源产生器、一光形调整器以及一光面积调整器；其中，所述光源产生器提供一初始光束，所述初始光束穿过所述光形调整器而转换成一改变形状的整形光束，所述整形光束穿过所述光面积调整器而转换成一改变面积的所述第一光束；其中，所述光源产生器、所述光形调整器以及所述光面积调整器设置在所述光学路径上，以使得所述初始光束以及所述整形光束能沿着所述光学路径进行传送；其中，所述初始光束投射到所述光形调整器的形状与所述整形光束投射到所述光面积调整器的形状不同，且所述整形光束投射到所述光面积调整器的形状的面积大于所述初始光束投射到所述光形调整器的形状的面积；其中，所述整形光束投射到所述光面积调整器的形状与所述第一光束投射到所述发光二极管晶圆的形状相同，且所述第一光束投射到所述发光二极管晶圆的形状的面积小于所述整形光束投射到所述光面积调整器的形状的面积；其中，所述初始光束、所述整形光束、所述第一光束、所述第二光束以及所述第三光束相互平行。


4.一种发光二极管晶圆检测装置，其特征在于，所述发光二极管晶圆检测装置包括：
一光产生模块，所述光产生模块提供一第一光束，所述第一光束穿过一发光二极管晶圆，以转换成一第二光束；
一光过滤模块，所述光过滤模块邻近所述发光二极管晶圆以接收所述第二光束，所述第二光束穿过所述光过滤模块，以转换成一第三光束；以及
一光检测模块，所述光检测模块邻近所述光过滤模块以接收所述第三光束，并对所述第三光束进行光学检测；
其中，所述第二光束的波长范围通过所述光过滤模块而受到限缩，以使得所述第三光束的波长范围小于所述第二光束的波长范围。


5.根据权利要求4所述的发光二极管晶圆检测装置，其特征在于，所述光产生模块包括一光源产生器、一光反射镜、一光形调整器以及一光面积调整器；其中，所述光源产生器提供一初始光束，所述初始光束通过所述光反射镜的反射而转换成一投向所述光形调整器的反射光束，所述反射光束穿过所述光形调整器而转换成一改变形状的整形光束，所述整形光束穿过所述光面积调整器而转换成一改变面积的所述第一光束；其中，所述光源产生器、所述光反射镜、所述光形调整器以及所述光面积调整器设置在光学路径上，以使得所述初始光束、所述反射光束以及所述整形光束能沿着所述光学路径进行传送；其中，所述反射光束投射到所述光形调整器的形状与所述整形光束投射到所述光面积调整器的形状不同，且所述整形光束投射到所述光面积调整器的形状的面积大于所述反射光束投射到所述光形调整器的形状的面积；其中，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖建硕，张德富，卢俊安，
申请(专利权)人：台湾爱司帝科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71