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一种透射电镜高分辨原位流体扰流加热芯片制造技术

技术编号:28037901 阅读:50 留言:0更新日期:2021-04-09 23:20
本实用新型专利技术涉及一种透射电镜高分辨原位流体扰流加热芯片,其结构为上片和下片通过金属键合层组合,自封闭形成一个超薄的腔室;上片有两个注样口和一个上中心视窗;下片设置有流体入口、流体出口、流体流道、下中心视窗、微扰流柱阵列、加热层和绝缘层;加热层有四个接触电极及螺旋环形加热丝;在以下中心视窗为中心,且在螺旋环形加热丝中心区域内;流体入口与流体出口关于中心视窗对称布置,下中心视窗位于加热层的中心处;下中心视窗上有微扰流柱阵列,该芯片具有快速升降温,分辨率高,流体流向可控,温度控制精准,样品漂移率低的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种透射电镜高分辨原位流体扰流加热芯片
本技术涉及流体芯片领域,具体是涉及一种透射电镜高分辨原位流体扰流加热芯片。
技术介绍
原位透射电子显微镜(TEM)是表征材料的一种强大而不可缺少的工具,它为材料提供了关键的结构和化学信息。近年来,电子显微镜学取得了重大进展,使原子尺度成像成为常规过程。流体TEM具有独特的优势,可以直接观察材料在流体中的转化动态,具有很高的时空分辨率。例如,可以跟踪单个纳米颗粒的生长轨迹,电极材料的电化学沉积和锂化,以及生物材料在液态水中的成像等。流体TEM不仅可以用来原位观察流体环境中纳米材料的行为,还可以在流体TEM芯片和流体杆上集成加热、冷冻元件,用于纳米材料功能性测试,极大地拓宽了透射电镜的研究范围。随着纳米技术的不断发展,研究人员试图将纳米材料结合流体传输来研究新一代高效传热技术,并且已有研究表明将纳米颗粒均匀分布在传热流体中可以明显提高其导热性能。然而,由于纳米尺度下流体运动行为和宏观运动行为差异较大,对于纳米流体的运动行为原位研究还十分缺乏,纳米流体的导热机理尚不清楚。利用原位扰流加热TEM技术,研究本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透射电镜高分辨原位流体扰流加热芯片,包括上基片和下基片,所述上基片的正面和背面上均具有一第一绝缘层,所述下基片的正面和背面上均具有一第二绝缘层,上基片正面的通过一环形的金属键合层键合固定在下基片的正面上,并自封闭形成一个超薄的腔室,其特征在于:/n所述上基片上设置有两个注样口和一个上中心视窗,上中心视窗位于加热区域的中心处,两个注样口关于上中心视窗对称布置;/n所述下基片上设置有流体入口、流体出口、流体流道、下中心视窗、微扰流柱阵列、加热层和第三绝缘层;其中,流体入口和流体出口通过流体流道直线连接;流体流道在下中心视窗处的宽度增加,并包涵整个加热区域;下中心视窗位于流体入口和流体出口中...

【技术特征摘要】
1.一种透射电镜高分辨原位流体扰流加热芯片,包括上基片和下基片,所述上基片的正面和背面上均具有一第一绝缘层,所述下基片的正面和背面上均具有一第二绝缘层,上基片正面的通过一环形的金属键合层键合固定在下基片的正面上,并自封闭形成一个超薄的腔室,其特征在于:
所述上基片上设置有两个注样口和一个上中心视窗,上中心视窗位于加热区域的中心处,两个注样口关于上中心视窗对称布置;
所述下基片上设置有流体入口、流体出口、流体流道、下中心视窗、微扰流柱阵列、加热层和第三绝缘层;其中,流体入口和流体出口通过流体流道直线连接;流体流道在下中心视窗处的宽度增加,并包涵整个加热区域;下中心视窗位于流体入口和流体出口中间;微扰流柱阵列为矩形布设的柱形阵列,其沿下中心视窗的较长边排布并且位于下中心视窗内,且该微扰流柱阵列排布方向与流体流动方向一致;所述加热层中心的螺旋环形加热丝置于下基片正面的第二绝缘层上,并以下中心视窗的中心大致对称分布,加热丝相互间留有间隙,互不连接;该加热层还具有延伸至下基片的边缘并裸露的四个接触电极;该第三绝缘层覆盖除四个接触电极以外的整个加热层区域;
上、下基片上的上、下中心视窗对齐设置,且上、下中心视窗的长边与流体流道方向一致。


2.根据权利要求1所述的透射电镜高分辨原位流体扰流加热芯片,其特征在于:所述下基片上还具有隔绝段和支撑段,所述隔绝段环设于加热区域外,其以下基片正面上绝缘层的载膜为基底;该环形的隔绝段被分割为多段隔绝段单元,相邻两隔绝段单元之间具有一支撑段,该支撑段下方区域的基片本体分别连接相邻的两隔绝段单元。


3.根据权利要求2所述的透射电镜高分辨原位流体扰流加...

【专利技术属性】
技术研发人员:廖洪钢曲密江友红
申请(专利权)人:厦门大学
类型:新型
国别省市:福建;35

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