一种双面微透镜阵列及其制备方法技术

本发明专利技术涉及微光学技术领域，具体涉及一种双面微透镜阵列及其制备方法，其中的制备方法包括以下步骤：S1、在玻璃基板的双侧涂布光刻胶；S2、将涂好光刻胶的玻璃基板放置在光刻平台上；S3、使用光刻机进行曝光；S4、曝光后进行显影操作；S5、将显影后的玻璃基板放入恒温箱中；S6、通过图形转移方式将光刻胶图案转移到玻璃基板上。本发明专利技术的双面微透镜阵列及其制备方法，制作方便，制作成本低，数值孔径大，成像质量好。

【技术实现步骤摘要】
一种双面微透镜阵列及其制备方法
本专利技术涉及微光学
，具体涉及一种双面微透镜阵列及其制备方法。
技术介绍
光刻，指的是利用光照在光刻胶上形成特定形状并将形状转移到玻璃或半导体等其他材料上的一种技术。微透镜镜片薄，可复制，价格低，可以微型化和阵列化，并且可以同微电子器件一起集成化，提供微光电一体的集成器件，在光通讯，光存储，光互连与光交换，光学信息处理和微光学传感器方面有着广泛的应用，配合机器视觉和激光器等部件可以实现各种功能。现有微光学阵列大都是单侧微透镜，在需要大数值孔径的系统中，单侧微透镜是无法满足要求的，而现有制备双面微透镜的方式有以下三种：1、中国专利CN107193064A公开了一种双面复眼透镜成像晶片及其制备工艺，其工艺为将两片单侧微透镜阵列拼接，这种方法制作双面微透镜阵列需要曝光两次，而且在厚度，精准度，成像质量上都劣于单次成形的双面微透镜阵列；2、采用双面光刻的方式，双面光刻需要上下两套光刻成像系统，需要对准以及更高的仪器成本；3、采用压印法制备双面微透镜阵列，使用这种方法制备双面本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双面微透镜阵列，其特征在于，包括玻璃基板，所述玻璃基板的双侧均带有微透镜阵列结构。/n

【技术特征摘要】
1.一种双面微透镜阵列，其特征在于，包括玻璃基板，所述玻璃基板的双侧均带有微透镜阵列结构。


2.根据权利要求1所述的双面微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜阵列结构为平面六边形排列的微透镜阵列结构，所述透镜的边长为29微米至31微米，填充系数为99％至100％。


3.一种双面微透镜阵列制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、在玻璃基板的双侧涂布光刻胶；
S2、将涂好光刻胶的玻璃基板放置在光刻平台上；
S3、使用光刻机进行曝光；
S4、曝光后进行显影操作；
S5、将显影后的玻璃基板放入恒温箱中；
S6、通过图形转移方式将光刻胶图案转移到玻璃基板上。


4.根据权利要求3所述的双面微透镜阵列制备方法，其特征在于，在步骤S1中，所述光刻胶为负性光刻胶。


5.根据权利要求4所述的双面微透镜阵列制备方法，其特征在于，在步...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓轩，周金运，王博，温坤华，雷亮，
申请(专利权)人：广东工业大学，
类型：发明
国别省市：广东;44