一种三维微透镜阵列的制备方法技术

本发明专利技术属于三维微透镜阵列制造相关技术领域，其公开了一种三维微透镜阵列的制备方法，该方法包括：对金属基板进行加工得到三维微透镜阵列的模具；在制备三维微透镜阵列的材料表面制备预设厚度的压印胶，并采用模具对压印胶进行压制固化得到压印胶材质的三维微透镜阵列；采用干法刻蚀对压印胶材质的三维微透镜阵列进行刻蚀直至在制备三维微透镜阵列的材料上得到完整的三维微透镜阵列。本申请首先制备出与待制备的三维微透镜阵列相匹配的模具，然后利用该模具压制出与三维微透镜阵列形状相同的模型，最后对该模型进行干法刻蚀即可获得三维微透镜阵列，操作简单，所用设备简单易得，并且可以批量化制备，非常适用于工业化应用。

【技术实现步骤摘要】
一种三维微透镜阵列的制备方法
本专利技术属于三维微透镜阵列制造相关
，更具体地，涉及一种三维微透镜阵列的制备方法。
技术介绍
微光学元件与传统的光学元件相比，微型器件体积小、重量轻，对于系统的小型化、集成化有着至关重要的作用。微光学元件广泛应用于工业生产、航空航天、国防等众多领域。现有技术中，三维微结构加工方法有灰度掩模光刻、电子束光刻、激光直写、光刻胶热熔法等。传统的光刻方法设备昂贵、加工效率低、加工周期长，不适用于微透镜阵列的大规模批量制作。微纳压印技术是一种低成本、速度快、高分辨率的复制技术，只需要一块模具，就可以大批量重复性地制备微结构。单点金刚石车削加工技术可以实现良好的面型精度与表面粗糙度控制，这种方法难以加工硅等脆性材料。中国专利CN110780365A中提供了一种首先制作铬掩膜版，在光刻机上进行曝光，经显影后在光刻胶上形成微结构，然后利用电镀形成模具，再利用紫外压印的方式得当微结构，但需要制作昂贵的铬掩膜版和使用昂贵的光刻设备。中国专利CN1553222A中提出了一种移动掩膜光刻的方式制作为透镜阵列，同样需要掩膜板和移动光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种三维微透镜阵列的制备方法，其特征在于，所述方法包括：/nS1，对金属基板进行加工得到三维微透镜阵列的模具；/nS2，在制备三维微透镜阵列的材料表面制备预设厚度的压印胶，并采用所述模具对所述压印胶进行压制固化得到压印胶材质的三维微透镜阵列，所述预设厚度大于所述三维微透镜阵列的高度；/nS3，采用干法刻蚀对所述压印胶材质的三维微透镜阵列进行刻蚀直至在制备三维微透镜阵列的材料上得到完整的三维微透镜阵列。/n

【技术特征摘要】
1.一种三维微透镜阵列的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
S1，对金属基板进行加工得到三维微透镜阵列的模具；
S2，在制备三维微透镜阵列的材料表面制备预设厚度的压印胶，并采用所述模具对所述压印胶进行压制固化得到压印胶材质的三维微透镜阵列，所述预设厚度大于所述三维微透镜阵列的高度；
S3，采用干法刻蚀对所述压印胶材质的三维微透镜阵列进行刻蚀直至在制备三维微透镜阵列的材料上得到完整的三维微透镜阵列。


2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S1中采用单点金刚石车削技术对所述金属基板进行加工。


3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S1中包括：
S11，采用等弧长离散方法生成加工点云和螺旋形的加工轨迹；
S12，在精密加工机床上采用XZC三轴联动的慢刀伺服或XC两轴联动的快刀伺服或二维椭圆振动辅助切削加工加工出所述模具。


4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述金属基板的材料为镍、不锈钢或黄铜中的一种。


5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：许剑锋，唐家璇，孙权权，沈丽峰，兰洁，陈肖，焦威，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：湖北;42