超滑片转移方法以及超滑片转移控制系统技术方案

本发明专利技术提供了一种超滑片转移方法以及超滑片转移控制系统，包括移动超滑片至目标基底上方，并朝向目标基底的目标区域向下移动超滑片；监测超滑片的表面亮度；亮度开始变化则继续下移超滑片；超滑片的亮度停止变化，则停止下移超滑片的步骤，利用超滑片在转移过程中的亮度变化，对超滑片和目标基底的接触度和接触时间进行判断，不需要借助额外的横向显微镜或横向摄像头等设备，既可以实现超滑片和目标基底之间接触度的判断，极大的缩减了设备成本，且降低了控制的难度，更容易实现自动化的控制。

【技术实现步骤摘要】
超滑片转移方法以及超滑片转移控制系统
本专利技术涉及结构超滑的
，具体涉及一种超滑片转移方法以及超滑片转移控制系统。
技术介绍
随着技术的发展和人类的需求，器件的小型化成为了一个发展趋势。对于超滑滑块等超滑片，其通常需要在源基底上进行大批量的生产，然后再转移至目标基底上。目前，将超滑片从源基底转移到目标基底的过程中，必须要判断超滑片是否已经接触上目标基底，以便于及时停止转移机构的下降过程，防止过大的压力使得超滑片受损。对于超滑片和目标基底的接触情况，现有技术中一般需要采用光学显微镜进行横向的精确定位，然后利用侧面的光学显微镜或高分辨率相机进行高度方向上的精确定位，或者，在目标基底上设置压力传感器，通过压力的变化判断超滑片是否与目标基底接触。采用上述方式对超滑片和目标基底的位置进行确定，极大的增加了设备的成本，且控制难度较大，降低了转移效率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种超滑片转移方法以及超滑片转移控制系统，以解决现有技术中对于超滑片是否转移到目标基底需要的设备较多，检测难度较大的技术问题。为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案是：提供一种超滑片转移方法，包括如下步骤：移动超滑片至目标基底上方，并朝向所述目标基底的目标区域向下移动所述超滑片；监测所述超滑片的表面亮度；所述亮度开始变化则继续下移所述超滑片；所述超滑片的亮度停止变化，则停止下移所述超滑片。进一步地，在所述超滑片下移至所述目标基底上时，所述超滑片的一侧先接触所述目标基底，另一侧逐渐下移并置于所述目标基底上。进一步地，在移动并放平所述超滑片时，所述超滑片的亮度逐渐增大，所述超滑片的亮度最亮且停止变化时，所述超滑片平放至所述目标基底上。进一步地，在所述目标基底的上方设置纵向显微镜，所述目标基底位于所述纵向显微镜的视野内。进一步地，在移动所述超滑片前还包括如下步骤：将所述目标基底移动至所述纵向显微镜下，检测所述目标基底是否置于所述纵向显微镜的视野范围内，并测量所述目标基底和所述纵向显微镜之间的间距是否到达阈值。进一步地，在所述目标基底的上设置用于检测所述超滑片对所述目标基底的压力的压力传感器。本专利技术还公开了一种超滑片转移控制系统，包括用于移动所述超滑片的转移单元，设于所述目标基底上方监测所述超滑片的亮度变化的监测单元，以及连接所述转移单元和所述监测单元的控制单元；所述监测单元监测所述超滑片的表面亮度变化，且所述超滑片的亮度停止变化，所述控制单元控制所述转移单元停止移动所述超滑片。进一步地，所述监测单元包括纵向显微镜、成像单元和比对单元，所述成像单元通过所述纵向显微镜拍摄所述超滑片，所述比对单元对所述成像单元拍摄的图片进行比对，并对所述目标基底的亮度变化进行判断。进一步地，还包括驱动所述目标基底移动的载台移动单元。进一步地，还包括用于检测所述超滑片对所述目标基底的压力的压力检测单元。本专利技术提供的超滑片转移方法以及超滑片转移控制系统的有益效果在于：利用超滑片在转移过程中的亮度变化，对超滑片和目标基底的接触度和接触时间进行判断，在超滑片下降至目标基底表面的过程中，若发现视野中的超滑片的亮度发生变化，此时超滑片中的一个点或一条边开始与目标基底接触，当视野中超滑片的亮度达到最大，且超滑片的亮度不再发生改变时，此时超滑片与目标基底完全接触，此时可以抬升用于转移超滑片的转移单元，使得超滑片能够在范德华力和/或目标基底的粘性等作用力下停留在目标基底上，此时转移过程可以完成，不需要借助额外的横向显微镜或横向摄像头等设备，既可以实现超滑片和目标基底之间接触度的判断，极大的缩减了设备成本，且降低了控制的难度，更容易实现自动化的控制。附图说明为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的超滑片转移装置的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的超滑片转移方法的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的超滑片过程对应亮度的示意图。附图标记说明：1、超滑片；2、目标基底；3、监测单元；4、转移单元；5、载台移动单元；31、纵向显微镜；32、成像单元。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。此外，下面所描述的本专利技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。请一并参阅图1至图3，现对本专利技术提供的超滑片转移方法进行说明。所述超滑片转移方法，包括如下步骤：S1，将所述目标基底2移动至所述纵向显微镜31下，检测所述目标基底2是否置于所述纵向显微镜31的视野范围内，通过反馈控制将目标基底2移动至纵向显微镜31的视野范围内，使得可以通过纵向显微镜31对目标基底2进行观测；采用测距仪器测量所述目标基底2和所述纵向显微镜31之间的间距，使得目标基底2和纵向显微镜31之间的间距到达阈值，此时能够清楚的对目标基底2进行观测，且不会存在视角的盲区，若目标基底2和纵向显微镜31之间的间距未到达阈值，则继续对目标基底2和纵向显微镜31之间的高度进行调整，直至达到阈值；S2，采用转移单元4转移超滑片1，使得超滑片1移动至目标基底2的上方的目标区域，并逐渐朝向目标基底2向下移动，在向下移动的过程中，通过监测单元3对超滑片1的亮度变化进行即时的监测；其中，转移单元4一般是指通过机械臂等操作机构驱动微针、探针等转移头对超滑片1进行转移，由于转移单元4本身存在的变形或者范德华接触面积不够，超滑片1的上表面往往与水平面存在一定的夹角，因此在超滑片1转移的过程中：当超滑片1未本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种超滑片转移方法，其特征在于，包括如下步骤：/n移动超滑片至目标基底上方，并朝向所述目标基底的目标区域向下移动所述超滑片；/n监测所述超滑片的表面亮度；/n所述亮度开始变化则继续下移所述超滑片；/n所述超滑片的亮度停止变化，则停止下移所述超滑片。/n

【技术特征摘要】
1.一种超滑片转移方法，其特征在于，包括如下步骤：
移动超滑片至目标基底上方，并朝向所述目标基底的目标区域向下移动所述超滑片；
监测所述超滑片的表面亮度；
所述亮度开始变化则继续下移所述超滑片；
所述超滑片的亮度停止变化，则停止下移所述超滑片。


2.如权利要求1所述的超滑片转移方法，其特征在于：在所述超滑片下移至所述目标基底上时，所述超滑片的一侧先接触所述目标基底，另一侧逐渐下移并置于所述目标基底上。


3.如权利要求2所述的超滑片转移方法，其特征在于：在移动并放平所述超滑片时，所述超滑片的亮度逐渐增大，所述超滑片的亮度最亮且停止变化时，所述超滑片平放至所述目标基底上。


4.如权利要求1所述的超滑片转移方法，其特征在于：在所述目标基底的上方设置纵向显微镜，所述目标基底位于所述纵向显微镜的视野内。


5.如权利要求4所述的超滑片转移方法，其特征在于：在移动所述超滑片前还包括如下步骤：
将所述目标基底移动至所述纵向显微镜下，检测所述目标基底是否置于所述纵向显微镜的视野范围内，并测量所述目标基底和所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑泉水，胡恒谦，杨德智，白玉蝶，
申请(专利权)人：深圳清华大学研究院，清华大学，
类型：发明
国别省市：广东;44