一种防堵塞的真空排放系统技术方案

技术编号:28027423 阅读:24 留言:0更新日期:2021-04-09 23:07
本实用新型专利技术涉及涉及真空排水领域,特别是一种防堵塞的真空排放系统,其特征在于,包括:水箱、重力排水管,其特征在于,还包括:末端排水系统、气动控制系统,真空站和气压稳定装置,所述重力排水管位于水箱两侧、所述水箱上方设置有末端排水系统,所述气动控制系统通过气管与末端排水系统相连,所述真空站位于末端排水系统右侧,所述气压稳定装置位于水箱上方,本公开通过气动控制,无须传统电路控制阀门开关闭合,结构简单,无需在末端铺设额外电路,并且通过补气装置的设置从而使保证真空末端能够取到足够真空,达到末端能够稳定运行的有益效果。

【技术实现步骤摘要】
一种防堵塞的真空排放系统
本技术涉及涉及真空排水领域,特别是一种防堵塞的真空排放系统。
技术介绍
真空排水技术已在地铁、地下管廊、地下停车场等建筑领域广泛使用,为诸多重力排水无法解决或解决难度很大的情况提供一个新的排水方式,为用户解决排水困难。真空末端正常自动排水时,当末端排水量过大会使管内存留大量,当积累量多时末端在低处无法取到主管内真空,因真空单元需要真空来工作,使真空末端无法正常工作。
技术实现思路
本技术的目的就是提供一种防堵塞的真空排放系统,便于保证真空末端能够取到足够真空,末端能够稳定运行。为解决上述的技术问题,本技术的一种防堵塞的真空排放系统,包括:水箱、重力排水管,其特征在于,还包括:末端排水系统、气动控制系统,真空站和气压稳定装置,所述重力排水管位于水箱两侧、所述水箱上方设置有末端排水系统,所述气动控制系统通过气管与末端排水系统相连,所述真空站位于末端排水系统右侧,所述气压稳定装置位于水箱上方。进一步的,所述末端排水系统包括:真空界面阀、排水管a、排水管b、真空管,所述真空界面阀位于水箱上方,所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防堵塞的真空排放系统,包括:水箱、重力排水管,其特征在于,还包括:末端排水系统、气动控制系统,真空站和气压稳定装置,所述重力排水管位于水箱两侧、所述水箱上方设置有末端排水系统,所述气动控制系统通过气管与末端排水系统相连,所述真空站位于末端排水系统右侧,所述气压稳定装置位于水箱上方。/n

【技术特征摘要】
1.一种防堵塞的真空排放系统,包括:水箱、重力排水管,其特征在于,还包括:末端排水系统、气动控制系统,真空站和气压稳定装置,所述重力排水管位于水箱两侧、所述水箱上方设置有末端排水系统,所述气动控制系统通过气管与末端排水系统相连,所述真空站位于末端排水系统右侧,所述气压稳定装置位于水箱上方。


2.根据权利要求1所述的一种防堵塞的真空排放系统,其特征在于:所述末端排水系统包括:真空界面阀、排水管a、排水管b、真空管,所述真空界面阀位于水箱上方,所述真空界面阀上方依次贯通有排水管a、排水管b和真空管、所述真空管右侧...

【专利技术属性】
技术研发人员:傅成华
申请(专利权)人:上海菲澈环境科技有限公司
类型:新型
国别省市:上海;31

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