一种ITO废靶回收金属铟锡的方法技术

本发明专利技术公开了一种ITO废靶回收金属铟锡的方法，ITO废靶先进行除锡工序，再进行除铟工序，除锡工序和除铟工序按次序分开进行；ITO废靶用到除锡反应釜和除铟反应釜，除锡工序中除锡率可达100％,铟在渣中的损失率仅为0.47‑0.5％；除铟工序中，去除锡后的ITO废靶含有的铟的浸出率在99.5‑99.9％；除锡反应釜和除铟反应釜均设置有加热装置和控温装置；ITO废靶进行除锡工序和除铟工序前分别进行水洗作业。本发明专利技术具有铟和锡回收分开在两个反应釜中进行，先回收锡，再回收铟，减少资源浪费的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种ITO废靶回收金属铟锡的方法
本专利技术涉及ITO废靶回收
，具体为一种ITO废靶回收金属铟锡的方法。
技术介绍
ITO叫氧化铟锡，是一种铟(III族)氧化物(In2O3)和锡(IV族)氧化物(SnO2)的混合物，通常质量比为90％In2O3，10％SnO2。它在薄膜状时，透明，略显茶色。在块状态时，它呈黄偏灰色。ITO主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸、有机发光二极管、以及太阳能电池、和抗静电镀膜还有EMI屏蔽的透明传导镀膜。ITO也被用于各种光学镀膜，最值得注意的有建筑学中红外线-反射镀膜(热镜)、汽车、还有钠蒸汽灯玻璃等。别的应用包括气体传感器、抗反射膜、和用于VCSEL激光器的布拉格反射器。ITO薄膜应力规可以在高于1400℃及严酷的环境中使用，例如气体涡轮、喷气引擎、还有火箭引擎。近年来，随着电子信息技术的发展，用于沉积ITO薄膜的靶材用量迅猛增加，但是目前ITO靶材的利用率只有30％左右，会有70％的靶材成为废料，存在很大的资源浪费问题。r>ITO废靶中含有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种ITO废靶回收金属铟锡的方法，其特征在于：包括以下步骤：/nS1、将回收的ITO废靶先进行水洗，将ITO废靶在纯净水池中浸泡2-3min，然后将浸泡后的ITO废靶在流动的纯净水下冲洗，水洗后烘干；/nS2、水洗后的ITO废靶加入到除锡反应釜中，向除锡反应釜中加入酸度H

【技术特征摘要】
1.一种ITO废靶回收金属铟锡的方法，其特征在于：包括以下步骤：
S1、将回收的ITO废靶先进行水洗，将ITO废靶在纯净水池中浸泡2-3min，然后将浸泡后的ITO废靶在流动的纯净水下冲洗，水洗后烘干；
S2、水洗后的ITO废靶加入到除锡反应釜中，向除锡反应釜中加入酸度H2SO4溶液，H2SO4溶液没过ITO废靶，通过加热装置将除锡反应釜加热；
S3、除锡反应釜中反应，锡被浸出，将锡溶液排出；
S4、将锡溶液加入到沉淀池中，并向沉淀池中加入H2S溶液，,锡溶液在沉淀池中进行硫化沉锡反应，得到的沉淀物为锡块，并将锡块水洗烘干；
S5、除锡后的ITO废靶再次进行水洗，将水洗后的除锡后ITO废靶加入到除铟反应釜中，向除铟反应釜中加入H2SO4溶液，H2SO4溶液没过除锡后ITO废靶，通过加热装置将除铟反应釜加热；
S6、除铟反应釜中反应，铟被浸出，将铟溶液排出；除锡、铟后废靶取出回收；
S7、将铟溶液加入到置换池内，向置换池内加入铝，铝和铟溶液内的铟进行置换反应，得到海绵铟，将海绵铟从置换池内取出；
S8、将海绵铟加入到电解池内，通过电解的方式制得铟；
S9、将电解制得的铟取出，并将铟水洗烘干。


2.根据权利要求1所述的一种ITO废靶回收金属铟锡的方法，其特征在于：所述方法用到除锡反应釜和除铟反应釜，除锡反应釜和除铟反应釜均设置有加热装置和控温装置。


3.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐安泰，
申请(专利权)人：株洲火炬安泰新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43