【技术实现步骤摘要】
一种用ITO废靶重制ITO粉的方法
本专利技术涉及ITO废靶处理
,具体为一种用ITO废靶重制ITO粉的方法。
技术介绍
ITO溅射靶材是由In2O3和SnO2组成的氧化物烧结体,ITO靶材镀膜利用率一般仅为60%,余为ITO废靶。此外,在ITO靶材制备过程中不可避免的会产生边角料、切屑等,这些物质皆可以作为再生铟的来源。目前,ITO废靶的回收产品主要是单质铟和单质锡。常用的回收方法大致有以下三种:(1)用酸溶解ITO废靶使金属以离子形式进入溶液,然后用铟板置换出锡,再用铝板置换出铟,得到的粗铟经电解精炼成高纯铟;(2)高温下,用碱溶解ITO废靶中的SnO2,In2O3则残留在碱渣中,再用常规方法提纯铟;(3)高温下,用H2和CO热还原ITO废靶生成铟锡合金,在电解精炼回收铟。这三个方法虽然可行,但是涉及到的步骤较多、成本较高,且部分方法中锡分离不彻底和存在安全隐患。鉴于ITO废靶回收得到的大部分单质铟和单质锡最终还是被用于制备ITO粉。因此,亟需提供一种从ITO废靶重制ITO粉的方法,此法跳过铟离子和 ...
【技术保护点】
1.一种用ITO废靶重制ITO粉的方法,其特征在于,包括以下步骤:/nS1、称取废靶粉,加入反应容器,废靶粉加入反应容器之间经过手锤破碎后,用振动磨样机粉碎,手锤破碎后颗粒直径≤5mm,振动磨样机粉碎之后样品粒度≤100μm;/nS2、按试验要求配制浸出液,置于反应容器中,加热到试验温度,之后向浸出液中添加SnCl4·5H2O,然后用氨水调节溶液的PH,加入PVP和尿素,并开启搅拌器进行搅拌至溶液PH值达到6.8-7.4,之后放置陈化,浸出液为硫酸,且浸出温度为95℃,搅拌器转速为500r/min,浸出后酸度为100g/L,且液固比为8至12;/nS3、浸出结束后,通过真空 ...
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种用ITO废靶重制ITO粉的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、称取废靶粉,加入反应容器,废靶粉加入反应容器之间经过手锤破碎后,用振动磨样机粉碎,手锤破碎后颗粒直径≤5mm,振动磨样机粉碎之后样品粒度≤100μm;
S2、按试验要求配制浸出液,置于反应容器中,加热到试验温度,之后向浸出液中添加SnCl4·5H2O,然后用氨水调节溶液的PH,加入PVP和尿素,并开启搅拌器进行搅拌至溶液PH值达到6.8-7.4,之后放置陈化,浸出液为硫酸,且浸出温度为95℃,搅拌器转速为500r/min,浸出后酸度为100g/L,且液固比为8至12;
S3、浸出结束后,通过真空抽滤将浸出渣与浸出液分离;
技术研发人员:唐安泰,
申请(专利权)人:株洲火炬安泰新材料有限公司,
类型:发明
国别省市:湖南;43
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。