一种防打滑钻石纹胶膜制造技术

技术编号:27996331 阅读:36 留言:0更新日期:2021-04-06 14:45
本实用新型专利技术涉及光伏组件封装胶膜技术领域,尤其是一种防打滑钻石纹胶膜,所述的胶膜本体一面是钻石纹和浅磨砂纹,另一面是具有沟槽的深磨砂纹,其中钻石纹的目数为5‑20目,钻石纹高度为120‑200μm。本实用新型专利技术能避免因为胶膜助液析出导致打滑、压花脱模不便、收放卷粘粘、电池片并片以及组件出现气泡的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种防打滑钻石纹胶膜
本技术涉及光伏组件封装胶膜
,尤其是一种防打滑的钻石纹胶膜。
技术介绍
太阳能电池组件作为光电转换技术的载体将太阳能这一新能源为人类所利用。在使用过程中,研究者发现太阳能电池组件中的封装材料在很大程度上会影响其光电转换效率、使用寿命等。而有机高分子EVA、POE胶膜以其突出的综合性价比,以绝对优势占据了太阳能电池封装材料的市场。作为封装材料,胶膜的主要作用是保护太阳能电池并将电池与盖板、背板材料紧密贴合成为一个整体。目前胶膜在组件端应用时常见的问题有:压花脱模不便、胶膜收放卷粘粘、电池片并片、组件出现气泡,以及因为胶膜内助剂的析出导致胶膜与电池片打滑。尤其是打滑问题,严重影响生产效率。
技术实现思路
本技术的目的是:克服现有技术中的不足,提供一种防打滑的钻石纹胶膜。为了解决上述技术问题,本技术提供的技术方案为:一种防打滑钻石纹胶膜,所述胶膜的一面为钻石纹,钻石纹的目数为5-20目,另一面为深磨砂纹结构。进一步的,所述胶膜的钻石纹为四棱锥结构。进一步的,所述胶膜的钻石纹高度为120-200μm。进一步的,所述胶膜的钻石纹之间以浅磨砂纹填充。进一步的,所述胶膜的浅磨砂纹花纹高度为20-40μm。进一步的,所述胶膜的浅磨砂纹为不规则结构。进一步的,所述胶膜的深磨砂纹花纹高度为60-80μm。进一步的,所述胶膜的深磨砂纹为不规则结构。进一步的,所述深磨砂纹上间隔布置沟槽结构。与现有技术相比,本技术具有以下优点:1.钻石纹的尖端处类似于销子可以嵌入玻璃花纹中,钻石纹与浅磨砂纹组成的复合压花结构可以有效解决与光伏玻璃打滑问题;2.相比于现有技术,即使胶膜内助剂析出,本技术因为钻石纹的目数低,析出的助剂并不会在钻石纹顶端形成油膜,而是存储在钻石纹之间的间隙中,也就是浅磨砂纹上,钻石纹依然可以起到销子的作用;3.如果钻石纹的高度过高便会导致压花脱模不便,高度过低便会导致胶膜的摩擦力下降,而高度在120-200μm的钻石纹能在保持足够的摩擦力的同时保证压花脱模的便利;4.因为钻石纹目数低所以会产生的大面积平面也即光滑面,而浅磨砂可以减少平面的面积增加粗糙面的面积,粗糙面的面积增加就能减少胶膜与胶膜之间的粘粘面积,提高了胶膜的分离性能,并且也能方便电池组封装时的修正;5.由于钻石纹之间的空间和磨砂纹之间的间隙能将空气排出,所以粘粘胶膜时不易产生气泡;6.本技术的另一面为带沟槽的深磨砂纹结构,其结构高度较高、相邻花纹间距较大,可以有效解决各种类型电池片滑移并片现象。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。其中,图1为本技术钻石纹与浅磨砂纹侧的胶膜结构示意图。图2位本技术深磨砂纹侧的结构示意图。图中:1-钻石纹2-浅磨砂纹3-深磨砂纹4-沟槽。具体实施方式现在结合附图对本专利技术作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本专利技术的基本结构,因此其仅显示与本专利技术有关的构成。本专利技术利用结构示意图等进行详细描述,示意图只是实例,其在此不应限制本专利技术保护的范围。此外,在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间。一种防打滑双面压花胶膜,胶膜的一面为钻石纹与浅磨砂纹组成的复合压花结构。本技术中的钻石纹由若干四棱锥构成,四棱锥既可以是正四棱锥也可以是斜四棱锥,优选为正四棱锥,钻石纹的目数为5-20目,具体可以是:5目、8目、10目、12目、15目、18目和20目,其他合理的目数也都落入本技术的保护范围,上述若干四棱锥可以是等间距排列也可以是非等间距排列,优选为等间距排列,钻石纹高度为120-200μm,具体可以是:120μm、130μm、140μm、150μm、160μm、170μm、180μm、190μm、200μm,上述钻石纹规则排列。浅磨砂纹为不规则结构,浅磨砂纹由若干不规则图形或者不规则线条随机组合而成,浅磨砂纹花纹高度为20-40μm,具体可以是:20μm、30μm、40μm。胶膜的另一面为带有若干沟槽的深磨砂纹结构,深磨砂纹为不规则结构,深磨砂纹由若干不规则图形或者不规则线条随机组合而成,胶膜的深磨砂纹花纹高度为60-80μm,具体可以是:60μm、70μm、80μm。沟槽的横截面可以是半圆形、三角形或矩形。若干沟槽可以是横向布置、纵向布置也可以是交叉布置,具体间距根据实际生产和使用需要设定,优选为等间距设置。胶膜在压花脱模时,因为钻石纹的高度处在120-200μm这个区间,并不会产生脱模不便的情形。胶膜收放卷的时候,因为胶膜的两面分别有着浅磨砂纹和深磨砂纹,胶膜更不易粘粘。组装光伏组件时,因为钻石纹与钻石纹之间存在着间隙,组装时进入的空气能从间隙中顺畅的排出。组装好以后,钻石纹的顶端能紧扣玻璃的花纹中,就像销子一样嵌入玻璃中,可以有效解决打滑的问题。现有技术的胶膜,在胶膜的助液析出后,助液会在胶膜表面也就是花纹顶端形成一层油膜,出现打滑的问题,而本技术因为目数控制在5-20目这个区间,在保证了摩擦力的情况下,又有足够的间隙可以保存析出的助液,避免在胶膜表面也就是钻石纹顶端形成油膜,钻石纹顶端依然可以起到销子的作用,紧扣住光伏玻璃,从而解决了胶膜在助液析出后产生的打滑现象。实施例1参照图1和图2,新型的防打滑钻石纹胶膜,其中一面压花结构为钻石纹(1)与浅磨砂纹(2)组成的复合压花,另一面为带有沟槽(4)的深磨砂纹结构(3)。防打滑钻石纹胶膜选用0.5mm的POE胶膜,POE胶膜两面都有花纹。胶膜通过模头至钢棍与胶辊之间,其中钻石纹与浅磨砂纹组成的复合压花结构由钢辊压出,钻石纹目数为8目,高度为150μm;深磨砂花纹由胶辊压出,花纹高度为80μm。实施例2参照图1和图2,新型的防打滑钻石纹胶膜,其中一面压花结构为钻石纹(1)与浅磨砂纹(2)组成的复合压花,另一面为带有沟槽(4)的深磨砂纹结构(3)。防打滑钻石纹胶膜选用0.5mm的EVA胶膜,EVA胶膜两面都有花纹。胶膜通过模头至钢棍与胶辊之间,其中钻石纹与浅磨砂纹组成的复合压花结构由钢辊压出,钻石纹目数为8目,高度为150μm;深磨砂花纹由胶辊压出,花纹高度为80μm。实施例3参照图1和图2,新型的防打滑钻石纹胶膜,其中一面压花结构为钻石纹(1)与浅磨砂纹(2)组成的复合压花,另一面为带有沟槽(4)的深磨砂纹结构(3)。防打滑钻石纹胶膜选用0.5mm的POE胶膜,POE胶膜两面都有花纹。其中钻石纹与浅磨砂纹组成的复合压花结构中的钻石纹目数为5目,其他都与实施例1一致。本说明书实施例所述的内容仅仅是对专利技术构思的实现形式的例本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防打滑钻石纹胶膜,其特征在于:所述胶膜的一面为钻石纹,钻石纹的目数为5-20目,另一面为深磨砂纹结构,所述钻石纹为四棱锥结构,所述钻石纹高度为120-200μm,所述钻石纹之间以浅磨砂纹填充。/n

【技术特征摘要】
1.一种防打滑钻石纹胶膜,其特征在于:所述胶膜的一面为钻石纹,钻石纹的目数为5-20目,另一面为深磨砂纹结构,所述钻石纹为四棱锥结构,所述钻石纹高度为120-200μm,所述钻石纹之间以浅磨砂纹填充。


2.根据权利要求1所述的一种防打滑钻石纹胶膜,其特征在于:所述浅磨砂纹花纹高度为20-40μm。


3.根据权利要求1所述的一种防打滑钻石纹...

【专利技术属性】
技术研发人员:乔刚吕松黄宝玉季志超张刚
申请(专利权)人:常州斯威克光伏新材料有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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