导电膜及触控屏制造技术

本申请实施例公开了一种导电膜及触控屏，其中导电膜包括依次层叠设置的基材、至少两层IM层和导电层；所述两层IM层依次包括设于所述基材上的有机材料层和无机材料层；所述导电层依次包括设于所述IM层上的第一金属层、第一透明导电材料层、第二金属层和第二透明导电材料层。本申请通过设置两层IM层降低IM层的整体反射率，使得IM层可以与导电层的低反射率匹配，从而降低了透明导电膜的整体色差。同时将原来的金属层分两层设置，实现在与现有技术中的金属层总体厚度相同的情况下，提高折射率，进而实现与触控屏中的高折射率的玻璃、OCA胶等的折射率匹配，提高了透光率。

【技术实现步骤摘要】
导电膜及触控屏
本申请涉及光学膜领域，特别是涉及一种导电膜及触控屏。
技术介绍
透明导电膜是很多产品如触控屏的核心元件。随着智能终端的飞速发展，对透明导电膜的需求日益增加。提高透明导电膜的导电性是行业内一直追求的目标。近几年，行业内出了低电阻，高导电性的ITO膜，其基本结构如图1所示，包括基材层和依次设于基材层上的IM层、导电层，导电层由透明导电材料层、金属层依次叠加组成。借助隧道击穿的原理，该导电层结构大大提高了导电膜的导电性。其中的透明导电材料层一般为ITO层，由于金属层为低折射率层，而ITO为高折射率层，因此该结构中的透明导电材料层、金属层和透明导电材料层形成了AR减反效果，降低了导电层的反射率，实现了导电层的电阻越低，反射率越低的效果。即目前的透明导电膜，其导电层的反射率可以很小。我们知道，为了保证导电膜的色差足够小，IM层(INDEXMARGIN，消影层)与导电层的反射率差值越小越好，但目前的IM层的反射率无法做到更低，因此无法与导电层的反射率匹配，从而色差较大。另外，上述结构中，金属层的折射率较低，一般在0.8-1.2，使得整体导电膜的折射率较低。在用到触控屏等产品中时，与玻璃、OCA胶约为1.5的折射率相差较大，无法匹配，造成触控屏产品的透光率较差。因此，如何降低目前导电膜的色差并提高导电膜的折射率，是目前急需解决的问题。
技术实现思路
本申请提供了一种导电膜及触控屏，以解决现有技术中低阻透明导电膜色差大，折射率低的问题。本申请提供了如下方案：r>一方面提供了一种导电膜，所述透明导电膜包括依次层叠设置的基材、至少两层IM层和导电层；所述两层IM层依次包括设于所述基材上的有机材料层和无机材料层；所述导电层依次包括设于所述IM层上的第一金属层、第一透明导电材料层、第二金属层和第二透明导电材料层。优选的，所述有机材料层通过涂布的方式设置，所述无机材料层通过溅射的方式设置。优选的，所述导电层的阻值小于100欧姆；所述有机材料层的折射率为1.6-1.7；所述无机材料层的折射率为1.4-1.6。优选的，所述金属层为连续膜层。优选的，所述导电层的等效折射率为1.4-1.5。优选的，所述透明导电膜还包括设于基材层另一侧的硬涂层。优选的，所述第一金属层与第一透明导电材料层之间设有第一耐候层和/或第一抗氧层；和/或；所述第二金属层与第二透明导电材料层之间设有第二耐候层和/或第二抗氧层。优选的，所述第一透明导电材料层与第二金属层之间设有第三耐候层和/或第三抗氧层；和/或；所述第一金属层与所述无机材料层之间设有第四耐候层和/或第四抗氧层。优选的，所述有透明导电膜包括依次层叠设置的硬涂层、减反层、所述基材层、所述有机材料层、所述无机材料层、第四耐候层、第四抗氧层、所述第一金属层、第一抗氧层、第一耐候层、所述第一透明导电材料层、第三耐候层、第三抗氧层、所述第二金属层、第二抗氧层、第二耐候层和所述第二透明导电材料层。本申请另一方面还提供了一种触控屏，所述触控屏包括如上所述的导电膜和依次设于所述导电膜上的导电胶和玻璃面板。根据本申请提供的具体实施例，本申请公开了以下技术效果：本申请的技术方案，通过设置两层IM层降低IM层的整体反射率，使得IM层可以与导电层的低反射率匹配，从而降低透明导电膜的整体色差。同时将原来的金属层分两层设置，实现在与现有技术中的金属层总体厚度相同的情况下，提高折射率，进而实现与触控屏中的高折射率的玻璃、OCA胶等的折射率匹配，提高透光率。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是现有技术中的低阻透明导电膜结构图；图2-3是本申请实施例提供的透明导电膜结构图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。本申请旨在提供一种新结构的导电膜，通过设置两层IM层降低IM层的整体反射率，使得IM层可以与导电层的低反射率匹配，从而降低透明导电膜的整体色差。同时将原来的金属层分两层设置，实现在与现有技术中的金属层总体厚度相同的情况下，提高折射率，进而实现与触控屏中的高折射率的玻璃、OCA胶等的折射率匹配，提高透光率。如图2所示，为本申请提供的导电膜的结构图，包括依次层叠设置的基材层、第一IM层、第二IM层和导电层，其中导电层包括依次层叠设置的第一金属层、第一透明导电材料层、第二金属层、第二透明材料层。在图2所示的结构中，第一IM层和第二IM层叠加，利用AR减反原理，通过干涉效应，反射光相互抵消，降低了反射率。图2所示的第一IM层和第二IM层分别为有机材料层和无机材料层，考虑到不影响金属层的导电性，故将无机材料层与第一金属层接触。其中有机IM层可实现反射率1-2％减反效果。无机IM层，可实现反射率2-4％减反效果。两者结合，可实验成本低以及效果较佳。考虑到不影响金属掺杂层的导电性，故将无机材料层与第一金属掺杂层接触。其中有机材料层可选用折射率1.6-1.7高折射率C\H\O树脂，其中掺杂Si、Zr、Ti等金属元素；厚度可根据需要设置，优选为0.5-5um。无机材料层，可以为单层，也可以为具有不同折射率的多个匹配层。如为单层，可选用绝缘方块电阻大于10*8Ω/□的非导金属材料，例如：Ti、In、Sn、InSn合金(In掺杂重量百分比0-50％)、SiAl合金(Al掺杂重量百分比0-50％)、厚度可根据需要设置，优选为0.5-80nm。无机材料层如为多层，可通过至少一层低折射率材料和至少一层高折率材料组合而成，其绝缘方块电阻>10*8Ω/□。其中的低折射率材料可以为折率率1.2-1.7的金属氧化物、非金属氧化、硫化物、氟化物、碳化物，如SiO2、Al2O3、MgF，MgS、SiC等，厚度可设为10-500nm；其中的高折率材料可以为折率率1.8-2.4的金属氧化物、氮化物、硫化物、或其掺杂物(掺杂材料包含Al、Ga、Zr、B、Y、Mo、Sn等一种或多种材料掺杂)，如TiO2、SnO2、ZnO、Nb2O5、Ta2O5、Si3N4、ZnS，掺杂物包括AZO、GZO、YZO等，厚度可设为2-200nm。在实际制备过程中，优选第一IM层采用涂布的方式，第二IM层采用溅射的方式，这是考虑到溅射的方式虽然附着力更好，但是溅射出来的层具有色差。而涂布的方式虽然附着力一般，但色差小，因此可采用涂布与溅射结合的方式设置I本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种导电膜，其特征在于，所述导电膜包括依次层叠设置的基材、至少两层IM层和导电层；/n所述两层IM层依次包括设于所述基材上的有机材料层和无机材料层；/n所述导电层依次包括设于所述IM层上的第一金属层、第一透明导电材料层、第二金属层和第二透明导电材料层。/n

【技术特征摘要】
1.一种导电膜，其特征在于，所述导电膜包括依次层叠设置的基材、至少两层IM层和导电层；
所述两层IM层依次包括设于所述基材上的有机材料层和无机材料层；
所述导电层依次包括设于所述IM层上的第一金属层、第一透明导电材料层、第二金属层和第二透明导电材料层。


2.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述有机材料层通过涂布的方式设置，所述无机材料层通过溅射的方式设置。


3.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述导电层的阻值小于100欧姆，所述有机材料层的折射率为1.6-1.7；所述无机材料层的折射率为1.4-1.6。


4.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述金属层为连续膜层。


5.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述导电层的等效折射率为1.4-1.5。


6.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述导电膜还包括设于基材层另一侧的硬涂层。


7.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：张玉春，仲树栋，
申请(专利权)人：北京载诚科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11