一种双工位的曝光机以及工作方法技术

本发明专利技术提供了一种双工位的曝光机以及工作方法，包括底座和设置在所述底座上的多轴运动平台和龙门，所述多轴运动平台上安装有基板台面，基材放置在所述基板台面上，所述多轴运动平台能够带动基材在三维空间中运动，所述多轴运动平台包括y轴运动组件，所述y轴运动组件设置在底座上穿过所述龙门，所述y轴运动组件上设置有第一工作台和第二工作台，所述第一工作台和所述第二工作台沿所述y轴运动组件运动，所述龙门安装有曝光系统，在所述曝光系统的前后两侧分别安装有对应于第一工作台和第二工作台的第一对位系统和第二对位系统。结构简单可靠，形成交替式曝光作业，大大提升了生产效率，降低制造和使用成本，极大提高了产品性价比。

【技术实现步骤摘要】
一种双工位的曝光机以及工作方法
本专利技术属于光源直投式曝光机的
，具体涉及一种双工位的曝光机以及工作方法。
技术介绍
光源直投式曝光机设备又称影像直接投射设备，可应用于半导体和PCB以及平面成像领域的研发，生产。直投式是利用图形发生器取代传统的掩模技术，直接将计算机的图形数据曝光到产品上，节省成本和提高效率。传统曝光机的CCD对位和曝光是在同一工位上，先对位后曝光。传统曝光机的单台面模式生产速度已经发展到极限，需要双台面设计提升生产速度，光学引擎造价高，双台面设计可提高光学部分的利用率，节约成本，提高设备性价比；当前市面上双台面曝光机有两种，均有不理想之处，一是上下交互双台面模式，此模式导轨挂单边受力不均匀，长时间使用会导致精度下降；二是左右双台面结构，两台面左右分布安装，光学系统需要左右移动，因为光学非常敏感，活动的光学系统使曝光精度下降，此外，以上两种模式均两组Y向导轨结构，安装要求很高。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术提供了一种双工位的曝光机以及工作方法，结构简单可靠，形成交替式曝光作业，大大提升了生产效率，降低制造和使用成本，极大提高了产品性价比。其技术方案是这样的：一种双工位的曝光机，包括底座和设置在所述底座上的多轴运动平台和龙门，所述多轴运动平台上安装有基板台面，基材放置在所述基板台面上，所述多轴运动平台能够带动基材在三维空间中运动，所述多轴运动平台包括y轴运动组件，所述y轴运动组件设置在底座上穿过所述龙门，所述y轴运动组件上设置有第一工作台和第二工作台，所述第一工作台和所述第二工作台沿所述y轴运动组件运动，所述龙门安装有曝光系统，在所述曝光系统的前后两侧分别安装有对应于第一工作台和第二工作台的第一对位系统和第二对位系统。进一步的，所述第一工作台和所述第二工作台沿y轴运动组件运动的轨迹部分重合。进一步的，所述曝光系统的扫描中心和所述第一对位系统的对位中心A之间至少具有容纳一个基板台面的距离；所述曝光系统的扫描中心和所述第二对位系统的对位中心B之间至少具有容纳一个基板台面的距离。进一步的，所述基板台面上能够沿x轴设置至少一块基材，所述第一对位系统和所述第二对位系统对所述至少一块基材对位，所述第一对位系统和所述第二对位系统包括两个位于两端的移动对准相机，进一步的，所述x轴方向放置两块以上基材时，还包括至少一个位于所述两端的移动对准相机中间的移动对准相机，所述位于中间的移动对准相机同时对相邻的基材的相邻边上对位点进行对位。进一步的，所述基板台面上能够沿x轴并排设置两块基材，所述第一对位系统和所述第二对位系统同时对所述两块基材对位。进一步的，所述第一对位系统和所述第二对位系统包括两个位于两端的移动对准相机和一个位于所述两端的移动对准相机中间的移动对准相机，所述位于中间的移动对准相机同时对两个基材的相邻边上对位点进行对位。进一步的，所述位于中间的移动对准相机可以沿x轴方向移动，或者固定于固定位置。进一步的，所述第一对位系统和所述第二对位系统设置于独立的龙门机构。一种双工位的曝光机的工作方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1：第一基材上料，放置在第一基板台面上；步骤2：第一基材沿y轴移动到第一对位系统位置处进行对位；步骤3：第一基材沿y轴移动到曝光系统位置处进行曝光扫描，同时，第二基材上料，放置在第二基板台面上；步骤4：第一基材完成扫描曝光后，沿y轴退回到第一基材的上料位置处，进行下料，同时，第二基材沿y轴移动到第二对位系统位置处进行对位；步骤5：第二基材沿y轴移动到曝光系统位置处进行曝光扫描，同时，第一基材重新上料，放置在空置的基板台面上；步骤6：第二基材完成扫描曝光后，沿y轴退回到第二基材的上料位置处，进行下料，同时，第一基材沿y轴移动到第一对位系统位置处进行对位；步骤7：循环进行步骤3至步骤6。本专利技术的双工位的曝光机以及工作方法，结构简单可靠，双工位把对位系统和曝光系统分开来做，并且前后对称设置两套台面，形成交替式曝光作业，形成交替式曝光作业，大大提升了生产效率，双工位的曝光其结构简单可靠，保障品质耐用且稳定，单台机的配置可提供接近两台单工位的机器的性能，降低制造和使用成本，极大提高产品性价比，同时也不会存在上下交互双台面、左右双台面两种现有的双台面曝光机存在的长时间使用会导致曝光精度下降的问题，安装要求也低于以上两种双台面曝光机，此外，还可以设置超大台面能放置较大面积的基板或者放置多块基板同时，进一步提高生产效率。附图说明图1为实施例1中的双工位的曝光机的示意图；图2为实施例2中的双工位的曝光机的示意图；图3为实施例3中的双工位的曝光机的示意图；图4为位于中间的移动对准相机的示意图；图5为对位系统工作的示意图；图6为双工位的曝光机的曝光系统曝光的示意图；图7为双工位的曝光机的进行曝光的工作示意图；图8为双工位的曝光机的进行曝光的工作示意图；图9为双工位的曝光机的示意图。图10为双工位曝光机的工作位置示意图。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本专利技术的基本构想，遂图中仅显示与本专利技术中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。定义坐标系：本专利技术的实施例中的x轴沿设备宽度方向设置，y轴沿设备长度方向，也是产品扫描曝光方向设置，z轴沿设备高度方向设置。实施例1：见图1，本实施例的一种双工位的曝光机，包括底座1和设置在底座1上的多轴运动平台，底座1为大理石底座，多轴运动平台上安装有基板台面2，基板台面2上安装有吸盘，基材4放置在基板台面2上，多轴运动平台能够带动基材4在三维空间中运动，多轴运动平台包括y轴运动组件5，y轴运动组件5设置在底座1上，y轴运动组件上设置有两个工作台，分别为第一工作台和第二工作台，所述第一工作台和所述第二工作台共用所述y轴运动组件5，可沿y轴运动组件5在y轴方向运动，沿y轴运动组件运动的轨迹部分重合。所述第一工作台和第二工作台均包括x轴运动组件6和z轴运动组件7，z轴运动组件7设置与x轴运动组件6上，z轴运动组件7上分别设置有基板台面2，底座1上通过龙门8安装有曝光系统9，在曝光系统9的前后两侧对应于所述第一工作台和第二工作台分别安装有第一对位系统101和第二对位系统102，x轴运动组件6和y轴运动组件5配合能够使得基板台面2在平行于底座1的平面内移动，z轴运动组件7能够使得基板台面2的上的基材4运动到曝光和对位的焦面。在本实施例中，第一对位系统101和第二对位系统102分别包括安装在龙门8上沿龙门8设置的滑轨104，滑轨104上设置有能够沿滑轨104移动的移动对准相机105，移动对准相机105设置有2个，移动本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双工位的曝光机，包括底座和设置在所述底座上的多轴运动平台和龙门，所述多轴运动平台上安装有基板台面，基材放置在所述基板台面上，所述多轴运动平台能够带动基材在三维空间中运动，其特征在于：所述多轴运动平台包括y轴运动组件，所述y轴运动组件设置在底座上穿过所述龙门，所述y轴运动组件上设置有第一工作台和第二工作台，所述第一工作台和所述第二工作台沿所述y轴运动组件运动，所述龙门安装有曝光系统，在所述曝光系统的前后两侧分别安装有对应于第一工作台和第二工作台的第一对位系统和第二对位系统。/n

【技术特征摘要】
1.一种双工位的曝光机，包括底座和设置在所述底座上的多轴运动平台和龙门，所述多轴运动平台上安装有基板台面，基材放置在所述基板台面上，所述多轴运动平台能够带动基材在三维空间中运动，其特征在于：所述多轴运动平台包括y轴运动组件，所述y轴运动组件设置在底座上穿过所述龙门，所述y轴运动组件上设置有第一工作台和第二工作台，所述第一工作台和所述第二工作台沿所述y轴运动组件运动，所述龙门安装有曝光系统，在所述曝光系统的前后两侧分别安装有对应于第一工作台和第二工作台的第一对位系统和第二对位系统。


2.根据权利要求1所述的一种双工位的曝光机，其特征在于：所述第一工作台和所述第二工作台沿y轴运动组件运动的轨迹部分重合。


3.根据权利要求1所述的一种双工位的曝光机，其特征在于：所述曝光系统的扫描中心和所述第一对位系统的对位中心A之间至少具有容纳一个基板台面的距离；所述曝光系统的扫描中心和所述第二对位系统的对位中心B之间至少具有容纳一个基板台面的距离。


4.根据权利要求1所述的一种双工位的曝光机，其特征在于：所述基板台面上能够沿x轴设置至少一块基材，所述第一对位系统和所述第二对位系统对所述至少一块基材对位，所述第一对位系统和所述第二对位系统包括两个位于两端的移动对准相机。


5.根据权利要求4所述的一种双工位的曝光机，其特征在于：所述x轴方向放置两块以上基材时，还包括至少一个位于所述两端的移动对准相机中间的移动对准相机，所述位于中间的移动对准相机同时对相邻的基材的相邻边上对位点进行对位。


6.根据权利要求1所述的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：张雷，章卫平，
申请(专利权)人：苏州源卓光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32