一种真空蒸镀用基片降温装置及其使用方法制造方法及图纸

技术编号:27966935 阅读:26 留言:0更新日期:2021-04-06 13:59
本发明专利技术公开了一种真空蒸镀用基片降温装置及其使用方法,一种真空蒸镀用基片降温装置,包括水冷基板以及开设在水冷基板上的进水口和出水口,还包括设置在水冷基板上方的电磁控制装置,以及吸附于水冷基板下表面的磁性材料,初始状态下,磁性材料设置在水冷基板和电池基片之间,且磁性材料与水冷基板和电池基片紧密贴合,仍采用水冷降温方法,但具有改进的降温组件,并在降温组件和电池基板之间添加容易塑形的细沙状的磁性材料充当传热介质,通过调节磁场使得磁性材料尽可能的填充降温组件与基片之间的空隙,改善降温效果。

【技术实现步骤摘要】
一种真空蒸镀用基片降温装置及其使用方法
本专利技术属于真空蒸镀
,具体涉及一种真空蒸镀舱室中的基降温装置及其使用方法。
技术介绍
近年来发现的钙钛矿型太阳能电池由于高转换效率、低成本、环境友善、产品可挠化等优点正在受到越来越广泛的关注。其中,新型钙钛矿性太阳能电池的光电转换效率在短短几年内提升了数倍,表现出非常优异的光电性能,而钙钛矿太阳能电池的制备过程中经常用到PVD(物理气相沉积)技术,其中尤其以真空蒸镀最为常用,蒸镀过程中往往伴随着长时间的高温,钙钛矿电池基板在蒸镀时会由于温度过高而损坏电池功能层,因此,基板的温度控制问题亟待解决。而传统的基片降温技术通常采用刚性的水冷基板降温方法,由于大组件基片置于蒸镀位置时会发生一定程度的弯曲,而刚性的降温装置不能保证水冷基板和电池基片的紧密接触,而且最重要的是,高真空环境缺乏传热介质,在无法形成紧密接触的情况下,基片降温效果差。
技术实现思路
为了解决现有技术中存在的问题,本专利技术的主要目的在于提供一种真空蒸镀用基片降温装置及其使用方法,仍采用水冷降温方法,但具有改进的降本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空蒸镀用基片降温装置,其特征在于,包括水冷基板(11)以及开设在水冷基板(11)上的进水口(12)和出水口(13),还包括设置在水冷基板(11)上方的电磁控制装置(14),以及吸附于水冷基板(11)下表面的磁性材料(15),初始状态下,磁性材料(15)设置在水冷基板(11)和电池基片(16)之间,且磁性材料(15)与水冷基板(11)和电池基片(16)紧密贴合。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空蒸镀用基片降温装置,其特征在于,包括水冷基板(11)以及开设在水冷基板(11)上的进水口(12)和出水口(13),还包括设置在水冷基板(11)上方的电磁控制装置(14),以及吸附于水冷基板(11)下表面的磁性材料(15),初始状态下,磁性材料(15)设置在水冷基板(11)和电池基片(16)之间,且磁性材料(15)与水冷基板(11)和电池基片(16)紧密贴合。


2.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀用基片降温装置,其特征在于,所述磁性材料(15)为磁沙。


3.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀用基片降温装置,其特征在于,所述电磁控制装置(14)均匀布置在水冷基板(11)的上方。


4.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀用基片降温装置,其特征在于,所述水冷基板(11)下安装有卡槽(17),电池基片(16)置于水冷基板(11)下方边缘的卡槽(17)中,卡槽(17)通过紧固装置(18)与水冷基板(11)进行连接。


5.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀用基片降温装置,其特征在于,所述紧固装置(18)为调节螺栓,...

【专利技术属性】
技术研发人员:熊继光赵志国秦校军肖平赵东明邬俊波董超刘家梁王百月冯笑丹梁思超王森张杰
申请(专利权)人:华能新能源股份有限公司中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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