一种显示面板制造技术

本实用新型专利技术公布一种显示面板，包括基板、第二平坦层、像素发光层、内封装层和阴极；在基板上设置有第二平坦层，第二平坦层上设置有第一孔和第二孔，所述第一孔中设置有所述像素发光层，所述第二孔环绕所述第一孔，所述第二孔中设置有所述内封装层，所述内封装层环绕像素发光层，所述内封装层用于防止水汽和氧气入侵到像素发光层；所述阴极设置在所述像素发光层和所述内封装层上。上述技术方案在每个独立的发光子像素周围建立内封装层，来阻挡沿背板无机膜层中入侵的水氧，以加强对显示面板及像素的保护。内封装层嵌入第二平坦层，与第二平坦层之间具有更好的结合能力，更好地阻隔水氧的入侵，维持像素稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板
本技术涉及显示面板制作领域，尤其涉及一种显示面板。
技术介绍
AMOLED全称为：Active-matrixorganiclight-emittingdiode，译为：有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体，是一种显示屏技术。其中，“OLED”为有机发光二极体(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示器；“AM”为有源矩阵体或称主动式矩阵体是指背后的像素寻址技术。与较传统的TFT-LCD显示器相比，其具备自发光、不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快等优异特性，成为了现今主流的显示屏技术。IGZO(indiumgalliumzincoxide)显示屏技术作为一种新型的薄膜电晶体技术，由于其能耗低、响应时间快、低温制造、良好的弯曲性能、可实现高分辨率等优异性能，成为了柔性AMOLED“主动式矩阵”开关的首选技术。由于显示面板所使用的发光材料(即像素发光层)对水汽和氧气极其敏感，一旦有水汽和氧气与像素发光层接触，就会降低像素发光层的发光效率，甚至是直接失效。为确保OLED显示面板的品质，需要可靠的封装技术和稳定的驱动电路来支持。在申请号为202010867721.8，名称为一种显示面板制作方法的专利中，通常是在阴极上制作无机层和有机层的叠层，来起到阻隔水氧的效果。
技术实现思路
为此，需要提供一种显示面板，解决显示面板的封装效果不足的问题。为实现上述目的，本实施例提供了一种显示面板，包括基板、第二平坦层、像素发光层、内封装层和阴极；在基板上设置有第二平坦层，第二平坦层上设置有第一孔和第二孔，所述第一孔中设置有所述像素发光层，所述第二孔环绕所述第一孔，所述第二孔中设置有所述内封装层，所述内封装层环绕像素发光层，所述内封装层用于防止水汽和氧气入侵到像素发光层；所述阴极设置在所述像素发光层和所述内封装层上。进一步地，所述像素发光层为多个，所述内封装层为多个；一个内封装层环绕一个像素发光层一圈。进一步地，还包括薄膜晶体管、钝化层、第一平坦层和阳极；在基板上设置有薄膜晶体管；在薄膜晶体管上设置有钝化层；在钝化层上设置有第一平坦层，第一平坦层上设置有第三孔，第三孔的孔底为薄膜晶体管的源极或者漏极，所述第一孔贯穿所述第一平坦层；在第一平坦层上设置有阳极，所述阳极通过第三孔连接所述薄膜晶体管的源极或者漏极；所述第二平坦层设置在所述第一平坦层和所述阳极上，所述第一孔的孔底为所述阳极，所述像素发光层连接所述阳极。进一步地，所述内封装层有位于在第三孔上方的部分；在垂直于基板表面的方向上，所述内封装层的上表面是位于同一高度，且内封装层在第三孔区域处的长度大于内封装层在第三孔区域外的长度。进一步地，在第二平坦层表面上的所述内封装层是朝着相对于像素发光层的一侧方向延伸。区别于现有技术，上述技术方案在每个独立的发光子像素周围建立内封装层，来阻挡沿背板无机膜层中入侵的水汽和氧气，以加强对显示面板及像素的保护。内封装层是嵌入第二平坦层的，与第二平坦层之间具有更好的结合能力，更好地阻隔水氧的入侵，维持像素的稳定性。附图说明图1为本实施例制作显示面板的工艺流程图；图2为本实施例在基板上从薄膜晶体管制作到第二平坦层的剖面结构示意图；图3为本实施例在基板上制作内封装层的剖面结构示意图；图4为本实施例在基板上制作阴极、支柱和盖板的剖面结构示意图。附图标记说明：1、基板；2、薄膜晶体管；21、栅极；22、第一绝缘层；23、有源层；24、源极；25、漏极；3、钝化层；4、第一平坦层；5、阳极；6、第二平坦层；61、第一孔；62、第二孔；7、像素发光层；8、内封装层；9、阴极；10、支柱；11、盖板。具体实施方式为详细说明技术方案的
技术实现思路
、构造特征、所实现目的及效果，以下结合具体实施例并配合附图详予说明。请参阅图1至图4，本实施例提供一种显示面板制作方法，包括如下步骤：在基板1上制作薄膜晶体管2，该步骤对应图1中的步骤一至步骤二。所述基板1为玻璃基板或者塑料基板等，所述薄膜晶体管(ThinFilmTransistor,TFT)作为开关来控制显示面板上的线路导通与否。所述薄膜晶体管2包括源极、漏极、栅极和有源层，所述薄膜晶体管2为顶栅结构或者底栅结构。请参阅图1，在底栅结构的薄膜晶体管中，栅极21位于基板1上，所述栅极21上设置有第一绝缘层22。在第一绝缘层22上设置有所述有源层23，所述有源层23设置在栅极21的正上方。在有源层23上设置有所述源极24和所述漏极25，所述源极24和所述漏极25同层设置。在顶栅结构的薄膜晶体管(附图未展示)中，有源层位于基板1上，有源层上设置有第一绝缘层。第一绝缘层上设置有栅极，栅极位于有源层的正上方。所述栅极上设置有第二绝缘层。所述第二绝缘层(附图未展示出)上设置有源极和漏极，源极和漏极同层设置，源极和漏极分别通过第二绝缘层上的孔连接到有源层。优选的，所述栅极为单层钼或者多层金属堆叠，所述栅极的厚度为0.07um(微米)～0.10um(微米)。优选的，所述源极(或者漏极)为单层钼或者多层金属堆叠，所述源极(或者漏极)的厚度为0.25um(微米)～0.30um(微米)。优选的，所述有源层为多晶硅、碳纳米管或者氧化物半导体。优选的，所述有源层为铟镓锌氧化物(IGZO)，是IGZOTFT显示面板的核心材料层，其膜层厚度为0.05(微米)～0.07um(微米)。为了避免源极和漏极短接，制作钝化层3，请参阅图2，该步骤对应图1中的步骤三；具体的，可以采用化学气相沉积法镀上氮化硅、氧化硅或其他绝缘的材料，在薄膜晶体管2上形成钝化层3，所述钝化层3覆盖薄膜晶体管2，起到避免源极和漏极连接而短路。为了填平基板上因为成型薄膜晶体管所造成的高低不平，制作第一平坦层4，请参阅图2，该步骤对应图1中的步骤三。具体的，可以采用化学气相沉积法镀上氮化硅、氧化硅或其他绝缘的材料，在钝化层3上形成第一平坦层4，所述第一平坦层4覆盖所述钝化层3。所述第一平坦层4具有一定的厚度，所述第一平坦层4的上表面是平整的平面，能够平整显示面板因各种不同层图案所造成的面内段差，便于后续膜层的良好叠加，提升显示面板的显示效果。所述第一平坦层4制作完毕后，在所述第一平坦层4上制作第三孔，第三孔用于连接所述源极(或者所述漏极)与阳极，请参阅图2，该步骤对应图1中的步骤三。具体的，先涂布光阻，随后图形化光阻，即对光阻进行曝光和显影，使得要制作第三孔的部位开口，而后以光阻为掩模蚀刻第一平坦层至薄膜晶体管的源极或者漏极，形成第三孔，所述第三孔的孔底为薄膜晶体管的源极或者漏极。第三孔制作完毕后，清除光阻。当阳极本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括基板、第二平坦层、像素发光层、内封装层和阴极；/n在基板上设置有第二平坦层，第二平坦层上设置有第一孔和第二孔，所述第一孔中设置有所述像素发光层，所述第二孔环绕所述第一孔，所述第二孔中设置有所述内封装层，所述内封装层环绕像素发光层，所述内封装层用于防止水汽和氧气入侵到像素发光层；/n所述阴极设置在所述像素发光层和所述内封装层上。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括基板、第二平坦层、像素发光层、内封装层和阴极；
在基板上设置有第二平坦层，第二平坦层上设置有第一孔和第二孔，所述第一孔中设置有所述像素发光层，所述第二孔环绕所述第一孔，所述第二孔中设置有所述内封装层，所述内封装层环绕像素发光层，所述内封装层用于防止水汽和氧气入侵到像素发光层；
所述阴极设置在所述像素发光层和所述内封装层上。


2.根据权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于，所述像素发光层为多个，所述内封装层为多个；
一个内封装层环绕一个像素发光层一圈。


3.根据权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于，还包括薄膜晶体管、钝化层、第一平坦层和阳极；
在基板上设置有薄膜晶体管；
在薄膜晶体管上设置有钝化层；...

【专利技术属性】
技术研发人员：骆丽兵，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35