一种半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量报警系统技术方案

本发明专利技术公开了一种半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量报警系统，包括半导体干法刻蚀设备和安装于半导体干法刻蚀设备上的水汽含量报警系统，水汽含量报警系统按照检测数据传输的过程依次设置有水汽检测装置、水汽检测计算机、继电器、蜂鸣器和工厂网络系统，水汽检测装置与半导体干法刻蚀设备之间连接有管道，管道上安装有手动阀，水汽检测装置由离子源、四级杆质量过滤器和检测器组成，离子源位于管道一侧，四级杆质量过滤器包括对称设置的两组挡板和位于挡板内部的四级杆。本发明专利技术设计的水汽检测装置实时监控干法刻蚀设备的腔体水汽状态，当超标时可以通知半导体工作人员及时处理生产设备，这样能够避免产品的报废，达到提升产品良率的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量报警系统
本专利技术涉及半导体干法刻蚀
，具体为一种半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量报警系统。
技术介绍
干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术。当气体以等离子体形式存在时，它具备两个特点：一方面等离子体中的这些气体化学活性比常态下时要强很多，根据被刻蚀材料的不同，选择合适的气体，就可以更快地与材料进行反应，实现刻蚀去除的目的；另一方面，还可以利用电场对等离子体进行引导和加速，使其具备一定能量，当其轰击被刻蚀物的表面时，会将被刻蚀物材料的原子击出，从而达到利用物理上的能量转移来实现刻蚀的目的。因此，干法刻蚀是晶圆片表面物理和化学两种过程平衡的结果，半导体在生产的过程中有时也需要干法刻蚀设备进行加工处理，在6/8寸半导体干法刻蚀工艺领域，属于成熟工艺。然而，现有的半导体干法刻蚀设备在使用的过程中存在以下的问题：(1)目前使用的半导体干法刻蚀设备在现实的工艺制程中由于设备腔体会有突发的设备腔体漏真空的现象，监控的缺陷，导致漏大气气体进入工艺腔体，其中水汽对刻蚀的产品影响最大，由于监控的缺陷会造成很多产品的报废；(2)缺乏专门用于半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量超标报警提示系统。为此，需要设计相应的技术方案解决存在的技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量报警系统，解决了目前使用的半导体干法刻蚀设备在现实的工艺制程中由于设备腔体会有突发的设备腔体漏真空的现象，监控的缺陷，导致漏大气气体进入工艺腔体，其中水汽对刻蚀的产品影响最大，由于监控的缺陷会造成很多产品的报废，这一技术问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量报警系统，包括半导体干法刻蚀设备和安装于半导体干法刻蚀设备上的水汽含量报警系统，所述水汽含量报警系统按照检测数据传输的过程依次设置有水汽检测装置、水汽检测计算机、继电器、蜂鸣器和工厂网络系统，所述水汽检测装置与半导体干法刻蚀设备之间连接有管道，所述管道上安装有手动阀，所述水汽检测装置由离子源、四级杆质量过滤器和检测器组成，所述离子源位于管道一侧，所述四级杆质量过滤器包括对称设置的两组挡板和位于挡板内部的四级杆，两组所述挡板上均开设有槽口，所述四级杆的两端分别位于两组挡板的内侧，所述检测器的检测端正对位于后方的所述挡板，所述离子源所述水汽检测装置通过线路与水汽检测计算机相连接，所述水汽检测计算机通过线路与继电器相连接且通过无线网外接工厂网络系统，所述继电器通过线路与蜂鸣器相连接。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述管道的内端与半导体干法刻蚀设备的设备腔体相连接且外端与水汽检测装置的检测端相连接。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述水汽检测装置采用四级质谱分析仪。作为本专利技术的一种优选实施方式，两组所述槽口位置相对应且之间的中心线位于四级杆的中部。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述四级杆由均匀设置的四组电极杆组成，四组所述电极杆包括两组正极杆和两组负极杆，两组所述正极杆之间连接有线路一，两组所述负极干之间连接有线路二，所述线路一和线路二通过通电线外接有电源。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述检测器采用水汽含量传感器，所述水汽含量传感器采用SIN-P300型号的水汽含量传感器。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述水汽检测计算机输出24VDC直流信号至继电器，所述继电器采用欧姆龙24VDC继电器G6C型号。与现有技术相比，本专利技术的有益效果如下：1.本专利技术在于能够很好的利用经济实惠的零部件，来控制干法刻蚀设备的生产工艺状态，设计的水汽检测装置实时监控干法刻蚀设备的腔体水汽状态，在当检测到腔体水汽含量超出工艺设定值后，此时检测计算机发出控制信号给继电器，继电器开始工作触发蜂鸣器报警，半导体工作人员收到报警后及时处理生产设备，这样能够避免产品的报废，达到提升产品良率的目的。2.本方案采用四极质谱分析仪检测出水汽在腔体内的实时含量数据输出输出到检测装置的计算机内，经过计算机处理实时数据显示和保存在计算机内，具有高效检测、快速数据传输和实时监控的优点。附图说明图1为本专利技术的整体布局示意图；图2为本专利技术所述输气检测装置结构图；图3为本专利技术所述继电器外接线路示意图。图中:1、水汽检测装置；2、水汽检测计算机；3、继电器；4、蜂鸣器；5、工厂网络系统；6、管道；7、手动阀；8、离子源；9、四级杆质量过滤器；10、检测器；11、挡板；12、四级杆；13、槽口；14、正极杆；15、负极杆；16、线路一；17、线路二；18、电源。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1-3，本专利技术提供一种技术方案：一种半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量报警系统，包括半导体干法刻蚀设备和安装于半导体干法刻蚀设备上的水汽含量报警系统，水汽含量报警系统按照检测数据传输的过程依次设置有水汽检测装置1、水汽检测计算机2、继电器3、蜂鸣器4和工厂网络系统5，水汽检测装置1与半导体干法刻蚀设备之间连接有管道6，管道6上安装有手动阀7，水汽检测装置1由离子源8、四级杆质量过滤器9和检测器10组成，离子源8位于管道6一侧，四级杆质量过滤器9包括对称设置的两组挡板11和位于挡板11内部的四级杆12，两组挡板11上均开设有槽口13，四级杆12的两端分别位于两组挡板11的内侧，检测器10的检测端正对位于后方的挡板11，离子源8水汽检测装置1通过线路与水汽检测计算机2相连接，水汽检测计算机2通过线路与继电器3相连接且通过无线网外接工厂网络系统5，继电器3通过线路与蜂鸣器4相连接。进一步改进地，如图1所示：管道6的内端与半导体干法刻蚀设备的设备腔体相连接且外端与水汽检测装置1的检测端相连接，方便进行安装和检测。进一步改进地，如图2所示：水汽检测装置1采用四级质谱分析仪。进一步改进地，如图2所示：两组槽口13位置相对应且之间的中心线位于四级杆12的中部，能够达到更好的过滤目的。进一步改进地，如图2所示：四级杆12由均匀设置的四组电极杆组成，四组电极杆包括两组正极杆14和两组负极杆15，两组正极杆14之间连接有线路一16，两组负极干之间连接有线路二17，线路一16和线路二17通过通电线外接有电源18。进一步改进地，如图2所示：检测器10采用水汽含量传感器，水汽含量传感器采用SIN-P300型号的水汽含量传感器，便于对腔道内的水汽质量进行高效检测。具体地，水汽检测计算机2输出24VDC直流信号至继电器3，继电器3采用欧姆龙24VDC继电器3G6C型号。1、水汽检测装置；2、水汽检测计算机；3、继电器；4、蜂鸣器；5、工厂网络系统；6、管道；7、手动阀；本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量报警系统，包括半导体干法刻蚀设备和安装于半导体干法刻蚀设备上的水汽含量报警系统，其特征在于：所述水汽含量报警系统按照检测数据传输的过程依次设置有水汽检测装置(1)、水汽检测计算机(2)、继电器(3)、蜂鸣器(4)和工厂网络系统(5)，所述水汽检测装置(1)与半导体干法刻蚀设备之间连接有管道(6)，所述管道(6)上安装有手动阀(7)，所述水汽检测装置(1)由离子源(8)、四级杆质量过滤器(9)和检测器(10)组成，所述离子源(8)位于管道(6)一侧，所述四级杆质量过滤器(9)包括对称设置的两组挡板(11)和位于挡板(11)内部的四级杆(12)，两组所述挡板(11)上均开设有槽口(13)，所述四级杆(12)的两端分别位于两组挡板(11)的内侧，所述检测器(10)的检测端正对位于后方的所述挡板(11)，所述离子源(8)所述水汽检测装置(1)通过线路与水汽检测计算机(2)相连接，所述水汽检测计算机(2)通过线路与继电器(3)相连接且通过无线网外接工厂网络系统(5)，所述继电器(3)通过线路与蜂鸣器(4)相连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量报警系统，包括半导体干法刻蚀设备和安装于半导体干法刻蚀设备上的水汽含量报警系统，其特征在于：所述水汽含量报警系统按照检测数据传输的过程依次设置有水汽检测装置(1)、水汽检测计算机(2)、继电器(3)、蜂鸣器(4)和工厂网络系统(5)，所述水汽检测装置(1)与半导体干法刻蚀设备之间连接有管道(6)，所述管道(6)上安装有手动阀(7)，所述水汽检测装置(1)由离子源(8)、四级杆质量过滤器(9)和检测器(10)组成，所述离子源(8)位于管道(6)一侧，所述四级杆质量过滤器(9)包括对称设置的两组挡板(11)和位于挡板(11)内部的四级杆(12)，两组所述挡板(11)上均开设有槽口(13)，所述四级杆(12)的两端分别位于两组挡板(11)的内侧，所述检测器(10)的检测端正对位于后方的所述挡板(11)，所述离子源(8)所述水汽检测装置(1)通过线路与水汽检测计算机(2)相连接，所述水汽检测计算机(2)通过线路与继电器(3)相连接且通过无线网外接工厂网络系统(5)，所述继电器(3)通过线路与蜂鸣器(4)相连接。


2.根据权利要求1所述的一种半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量报警系统，其特征在于：所述管道(6)的内端与半导体干法刻蚀设备的设备腔体相连接且外端与水汽检测装...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋大猛，金南国，林保璋，姜洪中，
申请(专利权)人：盛吉盛宁波半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33