【技术实现步骤摘要】
一种大尺寸坩埚烘烤装置及烘烤方法
本专利技术涉及化合物半导体单晶生长
,尤其涉及一种大尺寸坩埚烘烤装置及烘烤方法。
技术介绍
在目前的VGF砷化镓单晶生长中,是将多晶料放置于PBN坩埚中进行生长。随着生长技术越来越成熟,大尺寸晶棒带来的效益更高,这就需要大尺寸的PBN坩埚,一般6寸及以上(如6寸、8寸)的坩埚为大尺寸坩埚,小于6寸(如4寸、3寸、2寸)的坩埚为小尺寸坩埚。PBN坩埚是一种新型陶瓷材料,硬度大且脆,一般坩埚的厚度在1mm左右,PBN坩埚的生产工艺很简单,但是大尺寸坩埚在生产过程中工艺条件控制很难,造成大尺寸坩埚的合格成品率低,同厂家同材质的大尺寸坩埚(6寸坩埚)比小尺寸坩埚(4寸坩埚)出厂价贵一倍以上。大尺寸坩埚在单晶生长重复使用过程很容易损坏,尤其在坩埚烘烤环节容易发生冲撞损坏。传统的大尺寸坩埚烘烤方式,是采用对应尺寸的石英烤管和卡具,在石英烤管内依次摆放坩埚后套、坩埚前套、坩埚前套、坩埚后套,坩埚前套和后套的区别在于前套有个籽晶腔,后套没有,这样的摆放方式可以防止充气时坩埚前套撞击到石英烤管上 ...
【技术保护点】
1.一种大尺寸坩埚烘烤装置,包括三通管、盖板、小孔径连接板、大孔径连接板和卡具,其特征在于,所述大孔径连接板设置于盖板和三通管之间,所述小孔径连接板设置于三通管和卡具之间,所述三通管上于靠近大孔径连接板的位置还设置有针阀。/n
【技术特征摘要】
1.一种大尺寸坩埚烘烤装置,包括三通管、盖板、小孔径连接板、大孔径连接板和卡具,其特征在于,所述大孔径连接板设置于盖板和三通管之间,所述小孔径连接板设置于三通管和卡具之间,所述三通管上于靠近大孔径连接板的位置还设置有针阀。
2.根据权利要求1所述的一种大尺寸坩埚烘烤装置,其特征在于,所述大孔径连接板的中间孔径为20mm,所述小孔径连接板的中间孔径为4mm。
3.根据权利要求1或2所述的一种大尺寸坩埚烘烤装置,其特征在于,所述针阀的外表面设置有刻度盘。
4.一种大尺寸坩埚烘烤方法,其特征在于,所述方法使用权利要求3所述的坩埚烘烤装置,具体包括以下步骤:
1)在石英烤管内摆放好需要烘烤的坩埚,摆放完成后,将石英烤管对准卡具,上好密封圈并锁紧;
2)将针阀完全开启,对石英烤管进行加热升温,升温至250℃保温90min,;
3)保温完成后,继续加热使得石英管内升温至850℃,在升温过程中,同时开启真空泵抽取石英烤管内空气,10s后,真空泵正常运行,缓慢关闭针阀,控制石英烤管内的压力以0.05~0.5Pa/s的速率下降,针阀每关闭一个刻度,同时观察石英烤管内坩埚情况,若出现坩埚移动,立即停止关闭针阀,待稳定后继续关闭针阀至石英烤管内压力值下降至9.9E-1Pa以下,最后完全关闭针阀,保温90min;
4)保温完成...
【专利技术属性】
技术研发人员:肖雨,李勇,
申请(专利权)人:威科赛乐微电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:重庆;50
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