一种污水处理调节池制造技术

本申请涉及污水处理设备领域，公开了一种污水处理调节池，具体包括调节池体，和用于对调节池体内产生的挥发性有机物进行收集净化处理的气体净化装置，所述气体净化装置覆盖于调节池体上表面，包括设置于所述调节池体顶部的安装架组件，所述安装架组件上设有使调节池体表面封闭的柔性膜，所述柔性膜与调节池体构成的空间内设有高能离子发生装置和光触媒反应部。本申请通过在调节池的上方覆盖柔性膜阻断调节池中污水中具有刺激性气味的气体的散发，同时利用高能离子发生装置和光触媒反应部对气体中的物质进行净化处理，最终形成无害无味的物质，改善了污水处理场地的空气质量和工作环境。

【技术实现步骤摘要】
一种污水处理调节池
本申请涉及污水处理设备领域，具体涉及一种污水处理调节池。
技术介绍
污水调节池是为了使管渠和构筑物正常工作，不受废水高峰流量或浓度变化的影响，需在废水处理设施之前设置的水池。调节池的主要作用为均量调节和均量调节，根据设置位置的不同分为地下和地面两种，其中现有地面调节池由于其表面露天敞口设置，加上进入调节池的污水还未经处理，污水中大量的挥发性有机物如硫化氢、苯、氨气等散发到空气中，具有难闻气味，严重影响区域环境空气质量和员工身体健康。
技术实现思路
为了解决现有技术存在的露天污水处理场地恶臭气体散发，区域环境空气质量差等问题，本申请提供一种能对地面露天式调节池周围的挥发性有机物进行集中净化处理，改善污水处理场地空气质量的污水处理调节池。为了达到上述目的，本申请所采用的技术方案为：一种污水处理调节池，包括调节池体，和用于对调节池体内产生的挥发性有机物进行收集净化处理的气体净化装置，所述气体净化装置覆盖于调节池体上表面，包括设置于所述调节池体顶部的安装架组件，所述安装架组件上设有使调节池体表面封闭的柔性膜，所述柔性膜与调节池体构成的空间内设有高能离子发生装置和光触媒反应部。污水处理流程繁杂多样，工业生产或日常生活等产生的污水需要经过均质均量调节、固液分离、生物处理、二次固液分离、消毒等处理步骤以达到排放标准，其中，调节池作为前置处理场所，主要作用是收集大量待处理污水，均质混合后，将其均量输送到后续的处理场景中，一方面避免污水排放流量变化影响污水处理设备的负荷变化，另一方面避免污水浓度或酸碱值随排放周期不规则变化影响污水处理设备的正常工作。因此，调节池的容量较大，使之足以应对污水流量变化且保持匀速向后续污水处理流程输送污水，由于调节池中容纳大量未经处理的污水，污水中的挥发性有机物导致空气恶劣。本方案利用柔性膜覆盖于调节池体上方，在调节池体上方构建一个容纳气体的空间。设置于该空间内的高能离子发生装置和光触媒反应部均能进行将从污水中挥发出的有机物分解净化。具体的，高能离子发生装置是利用初级电子在电场中获得加速，撞击空气中的氧分子，将氧分子离子化，改变为正极性的氧离子(O2+),正氧离子具有很强的氧化性，能在短时间内氧化分解污水挥发出的氨、硫化氢等具有刺激性气味的污染因子，且打开挥发性有机物的化学键，经过一系列反应后生成二氧化碳和水等稳定无害的物质。而释放的电子又与另一中性氧分子结合变成负极性氧离子(O2-)，负氧离子与空气中尘埃粒子及固体颗粒碰撞，使颗粒荷电产生聚合作用，形成较大颗粒靠自身重力沉降，达到净化目的。且负氧离子增强氧分子的运动活性，加速氧化分解反应。光触媒反应部在光的照射下，生成的负氧离子和羟基自由基(-OH)，能破坏有机物中的C-C键、C-H键、C-N键、C-O键、O-H键、N-H键，将其分解为二氧化碳和水能进一步优化气体净化效果。进一步的，所述安装架组件包括与调节池体顶部相适应构成封闭矩形的外框架,以及架设在外框架内的内框架，所述内框架上垂直设有安装柱。进一步的，所述外框架的外侧设有固膜槽，所述柔性膜端部设有与所述固膜槽相适应的连接件。进一步的，所述调节池体相对两侧分别设有一个高能离子发生装置，所述高能离子发生装置包括分布于调节池体内的离子管，以及与离子管连接且设置于调节池体外的的机箱。进一步的，所述离子管为筒状穿过外框架，位于调节池体两侧高能离子发生装置的离子管交错分布。进一步的，所述调节池体底部设有搅拌装置，所述搅拌装置包括设置与调节池体外的电机、位于调节池体底部并与电机连接的传动机构以及与传动机构连接的搅拌机构。设置于调节池底部的搅拌机构对调节池内的污水进行搅拌，即能对进入调节池中不同来源的污水进行均质化搅拌，又能有效避免污泥沉淀在调节池底部造成堵塞等现象。进一步的，所述调节池体中设有隔板将调节池分为并列的第一池体和第二池体，所述隔板底部设有通孔使第一池体和第二池体连通。进一步的，所述第一池体侧壁的上部设有进水管，所述第二池体与设置进水管相对的侧壁上在下部设有至少一个排水管。进一步的，所述柔性膜靠近调节池体的表面涂覆有光触媒涂层。本申请的有益效果是：本申请通过在调节池的上方覆盖柔性膜阻断调节池中污水中具有刺激性气味的气体的散发，同时利用高能离子发生装置和光触媒反应部对气体中的物质进行净化处理，最终形成无害无味的物质，改善了污水处理场地的空气质量和工作环境。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本申请的安装结构示意图；图2是本申请中各个机构分解结构示意图；图3是本申请中隐藏柔性膜后的结构示意图；图4是本申请中高能离子装置的分布示意图；图5是本申请中调节池体的结构示意图；图6是本申请中安装架组件的结构示意图；图7是图6中A处的局部放大示意图；图8是本申请中安装架组件的外框架的剖切示意图；图9是图8中B处的局部放大示意图；图中：1-调节池体；101-第一池体；102-第二池体；2-安装架组件；201-外框架；202-内框架；203-安装柱；204-固膜槽；205-空槽；206-第一接触面；207-第二接触面；208-第三接触面；209-第四接触面；3-高能离子发生装置；301-离子管；302-机箱；4-柔性膜；5-进水管；6-排水管；7-电机；8-隔板。具体实施方式为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本申请的描述中，需要说明的是，若出现术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，本申请的描述中若出现术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种污水处理调节池，包括调节池体(1)，和用于对调节池体(1)内污水产生的挥发性有机物进行收集净化处理的气体净化装置，其特征在于：所述气体净化装置覆盖于调节池体(1)上表面，包括设置于所述调节池体(1)顶部的安装架组件(2)，所述安装架组件(2)上设有使调节池体(1)表面封闭的柔性膜(4)，所述柔性膜(4)与调节池体(1)构成的空间内设有高能离子发生装置(3)和光触媒反应部。/n

【技术特征摘要】
1.一种污水处理调节池，包括调节池体(1)，和用于对调节池体(1)内污水产生的挥发性有机物进行收集净化处理的气体净化装置，其特征在于：所述气体净化装置覆盖于调节池体(1)上表面，包括设置于所述调节池体(1)顶部的安装架组件(2)，所述安装架组件(2)上设有使调节池体(1)表面封闭的柔性膜(4)，所述柔性膜(4)与调节池体(1)构成的空间内设有高能离子发生装置(3)和光触媒反应部。


2.根据权利要求1所述的一种污水处理调节池，其特征在于：所述安装架组件(2)包括与调节池体(1)顶部相适应构成封闭矩形的外框架(201),以及架设在外框架(201)内的内框架(202)，所述内框架(202)上垂直设有安装柱(203)。


3.根据权利要求2所述的一种污水处理调节池，其特征在于：所述外框架(201)的外侧设有固膜槽(204)，所述柔性膜(4)端部设有与所述固膜槽(204)相适应的连接件，所述柔性膜(4)通过连接件与固膜槽(204)的配合固定在外框架(201)上。


4.根据权利要求2所述的一种污水处理调节池，其特征在于：所述调节池体(1)相对两侧分别设有一个高能离子发生装置(3)，所述高能离子发生装置(3)包括分布于调节池体(1)内的离子管(301...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘琪，
申请(专利权)人：四川葵清环保科技有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51