【技术实现步骤摘要】
一种公转机构及蒸发台
[0001]本技术涉及蒸发台
,特别涉及一种公转机构及蒸发台。
技术介绍
[0002]在蒸发台公转设备机构中,为测定蒸发生成的膜厚,常匹配固有频率动态测定传感器。该传感器的安装位置对膜厚测定结果准确程度至关重要,传感器安装在衬底载体中心位置时,传感器既不能遮挡衬底影响沉膜,也不能影响衬底载体的转动。现有技术固有频率测定传感器,安装位置在中间侧,因受到衬底载体转动的影响,安装在载体转动机构的上方,转动机构旋转轴位于衬底载体正中心,旋转轴与衬底载体通过3
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4根支撑条连接,这样衬底载体通过支撑条沿转动结构旋转轴,圆周运动。传感器处于衬底载体上方,传感器通过旋转轴与衬底载体之间支撑条镂空位置进行固有频率测定,通过换算计算膜厚。实际膜厚=计算膜厚x校正系数。需要校正系数的直接原因是旋转轴与衬底载体通过3
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4根支撑条。因生产工艺需求,设定参数会经常有变动。但工艺条件任一个参数变更就会导致传感器校正系数变动,校正系数的不确定性导致了测定结果的不准确。
技术实现思路
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种公转机构,其特征在于,包括:衬底载体,所述衬底载体顶部设有连接端,且,所述连接端为镂空结构;第二传动件,所述第二传动件与所述衬底载体连接,且,所述第二传动件驱动所述衬底载体转动;第一传动件,所述第一传动件设置于所述第二传动件一侧水平方向,所述第一传动件与所述第二传动件配合连接;且,所述第一传动件驱动所述第二传动件转动;驱动件,所述驱动件与所述第一传动件连接,且,所述驱动件给所述第一传动件提供动力。2.根据权利要求1所述的公转机构...
【专利技术属性】
技术研发人员:张军委,
申请(专利权)人:爱发科真空技术苏州有限公司,
类型:新型
国别省市:
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