一种蒸发台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种蒸发台，包括：衬底载体，所述衬底载体具有一镂空开口；回转机构，所述回转机构与所述衬底载体连接，所述回转机构包括回转密封外层、回转密封中层、回转密封内层，所述回转密封内层为空心结构，所述回转密封内层与所述衬底载体的镂空开口对应；且，所述回转密封中层可在所述回转密封外层与所述回转密封内层之间转动；驱动机构，所述驱动机构与所述回转机构连接，且，所述驱动机构驱动所述回转机构转动。本实用新使用双层回转密封结构取代轴心驱动的方式，规避了中间位置支撑条遮挡传感器的问题，使得测定结果准确，工艺设定更为直接，更为高效。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸发台
本技术涉及蒸发台
，特别涉及一种蒸发台。
技术介绍
在蒸发台公转设备机构中，为测定蒸发生成的膜厚，常匹配固有频率动态测定传感器。该传感器的安装位置对膜厚测定结果准确程度至关重要，传感器安装在衬底载体中心位置时，传感器既不能遮挡衬底影响沉膜，也不能影响衬底载体的转动。现有技术固有频率测定传感器，安装位置在中间侧，因受到衬底载体转动的影响，安装在载体转动机构的上方，转动机构旋转轴位于衬底载体正中心，旋转轴与衬底载体通过3-4根支撑条连接，这样衬底载体通过支撑条沿转动结构旋转轴，圆周运动。传感器处于衬底载体上方，传感器通过旋转轴与衬底载体之间支撑条镂空位置进行固有频率测定，通过换算计算膜厚。实际膜厚＝计算膜厚x校正系数。需要校正系数的直接原因是旋转轴与衬底载体通过3-4根支撑条。因生产工艺需求，设定参数会经常有变动。但工艺条件任一个参数变更就会导致传感器校正系数变动，校正系数的不确定性导致了测定结果的不准确。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种蒸发台，使用蒸发台取代轴心驱动的方式，规避了中间位置支撑条遮挡传感器的问题，使得测定结果准确，工艺设定更为直接，更为高效。本技术保护一种蒸发台，包括：衬底载体，所述衬底载体具有一镂空开口；回转机构，所述回转机构与所述衬底载体连接，所述回转机构包括回转密封外层、回转密封中层、回转密封内层，所述回转密封内层为空心结构，所述回转密封内层与所述衬底载体的镂空开口对应；且，所述回转密封中层可在所述回转密封外层与所述回转密封内层之间转动；驱动机构，所述驱动机构与所述回转机构连接，且，所述驱动机构驱动所述回转机构转动。在一些实施例中，所述回转密封外层与所述回转密封中层之间设置有外层轴承，所述回转密封中层与所述回转密封内层之间设置有内层轴承连接。在一些实施例中，所述回转密封外层与所述回转密封中层之间设置有外层磁液。在一些实施例中，所述回转密封中层与所述回转密封内层之间设置有内层双道磁液。在一些实施例中，所述回转密封内层顶部设置有中心密封压板，所述中心密封压板中部设置有传感器，所述传感器延申至所述回转密封内层底部。在一些实施例中，所述驱动机构包括驱动件、与所述驱动件连接的驱动同步带轮、设置于所述回转密封中层上的从动同步带轮，以及一端与所述驱动同步带轮连接，另一端与所述从动同步带轮连接的驱动同步带。在一些实施例中，所述驱动件包括驱动电机。实施本技术的一种蒸发台至少具有以下有益效果：该种蒸发台使用双层回转密封结构取代轴心驱动的方式，规避了中间位置支撑条遮挡传感器的问题，使得测定结果准确，工艺设定更为直接，更为高效。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。图1为本技术蒸发台的结构示意图；图2为本技术蒸发台局部剖视图；图3为本技术蒸发台的衬底载体结构示意图。图中：101-驱动电机，102-驱动同步带轮，103-驱动同步带，104-从动同步带轮，105-传感器，106-衬底载体，107-传感器防转固定杆，108-中心密封压板，109-真空腔体，110-蒸发源，201-回转密封外层，202-回转密封中层，203-回转密封内层，204-外层轴承，205外层磁液，206-内层轴承，207-内层双道磁液，208-衬底载体转接板。本技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。需要说明，本技术实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。另外，在本技术中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中的“和/或”包括三个方案，以A和/或B为例，包括A技术方案、B技术方案，以及A和B同时满足的技术方案；另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本技术要求的保护范围之内。如图1-图3所示，本技术的实施例的一种蒸发台，用于制作各类介质膜，如绝缘层，半导体膜，光学膜等等，蒸发台包括真空腔体109与安装于真空腔体109内的传感器105、衬底载体106、蒸发源110以及回转机构。如图2所示，回转机构分为外中内三层结构，分别为回转密封外层201，回转密封中层202，回转密封内层203，且回转密封内层203中心为空心结构。驱动电机101置于真空腔体109的上板上，驱动同步带轮102固定在驱动电机101输出轴上，从动同步带轮104固定于回转密封中层202上。驱动同步带103连接驱动同步带轮102和从动同步带轮104。从动同步带轮104回转时与回转密封外层201回转密封内层203不接触，无转动干涉。传感器105封结于中心密封压板108上。中心密封压板108通过密封圈与回转密封内层203密封连接。传感器105上有数据线及冷却水路，优选的，为防止导线缠绕，传感器防转固定杆107将中心密封压板108与真空腔体109螺纹连接固定。回转密封外层201与真空腔体109也通过螺纹连接固。这样驱动电机101转动时，只有回转密封中层202可以随之转动，衬底载体转接板208连接着回转密封中层202和衬底载体106。回转密封中层202发生转动，衬底载体106也会随之转动。衬底载体106中心部分为完全镂空结构，支撑条被删除，蒸发源110的蒸发介质通过衬底载体106中心镂空位置可以全天候无遮挡的被传感器105直接测定，无需校正系数，测定精准度提升。且传统相对传动运动部分被置于腔体外部，腔室内部不会因相对摩擦产生颗粒粉尘。在一些实施例中回转机构的三层结构，层与层之间有轴承连接，回转密封外层201与回转密封中层202之间有外层轴承204，回转密封中层202与回转密封内层203之间有内层轴承206连接。进一步的，为维持真空密封，回转密封外层201与回转密封中层202之间设置了外层磁液205；具体的，外层磁液2本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸发台，其特征在于，包括：/n衬底载体，所述衬底载体具有一镂空开口；/n回转机构，所述回转机构与所述衬底载体连接，所述回转机构包括回转密封外层、回转密封中层、回转密封内层，所述回转密封内层为空心结构，所述回转密封内层与所述衬底载体的镂空开口对应；且，所述回转密封中层可在所述回转密封外层与所述回转密封内层之间转动；/n驱动机构，所述驱动机构与所述回转机构连接，且，所述驱动机构驱动所述回转机构转动。/n

【技术特征摘要】
1.一种蒸发台，其特征在于，包括：
衬底载体，所述衬底载体具有一镂空开口；
回转机构，所述回转机构与所述衬底载体连接，所述回转机构包括回转密封外层、回转密封中层、回转密封内层，所述回转密封内层为空心结构，所述回转密封内层与所述衬底载体的镂空开口对应；且，所述回转密封中层可在所述回转密封外层与所述回转密封内层之间转动；
驱动机构，所述驱动机构与所述回转机构连接，且，所述驱动机构驱动所述回转机构转动。


2.根据权利要求1所述的蒸发台，其特征在于，所述回转密封外层与所述回转密封中层之间设置有外层轴承，所述回转密封中层与所述回转密封内层之间设置有内层轴承连接。


3.根据权利要求2所述的蒸发台，其特征在于，所述回转密封...

【专利技术属性】
技术研发人员：张军委，钱军，王福平，
申请(专利权)人：爱发科真空技术苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32