一种用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术实施例公开了一种用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置。搅动装置包括：混气罐，设置于该混气罐内部的搅动组件；其中，混气罐的一端面设置有进气孔，另一端面与化学气相沉积(CVD)炉体连通；搅动组件包括轴体和沿轴体的周向均匀设置的至少三个叶片，轴体的两端一一对应的固设于混气罐的两端，且叶片与轴体的垂直面具有预设夹角。本实用新型专利技术实施例解决了现有制造碳刹车盘的工艺中，由于通入CVD炉的碳源气体难以快速混合均匀，而导致CVD炉中的碳源气体不能充分反应，从而造成反应速率下降，以及原料气体反应不充分而造成浪费的问题。费的问题。费的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置


[0001]本申请涉及但不限于刹车盘制造
，尤指一种用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置。

技术介绍

[0002]碳刹车盘的制造工艺是将碳纤维预制体叠放在化学气相沉积(ChemicalVapor Deposition，简称为：CVD)炉内，加热至所要求的温度，并在CVD炉内通入不同种类的碳源气体或惰性气体混合物，例如为碳氢化合物、氮气等，碳源气体被加热至一定温度裂解、扩散至多孔的预制体内，部分热解碳沉积在碳纤维周围和空隙中使预制体致密，密度达到要求后，最终形成碳刹车盘。
[0003]由于进行CVD工艺的碳源气体可能为混合气体，且不同分子量的碳源气体的密度不同，若上述密度不同的混合气体通入CVD炉时均匀性较差，则会导致碳源气体进CVD炉后不能充分反应，使反应速率下降，并且使得原料气体反应不充分而造成浪费。

技术实现思路

[0004]为了解决上述技术问题，本技术实施例提供了一种用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置，以解决现有制造碳刹车盘的工艺中，由于通入CVD 炉的碳源气体难以快速混合均匀，而导致CVD炉中的碳源气体不能充分反应，从而造成反应速率下降，以及原料气体反应不充分而造成浪费的问题。
[0005]本技术实施例提供一种用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置，包括：混气罐，设置于所述混气罐内部的搅动组件；
[0006]所述混气罐的一端面设置有进气孔，另一端面与化学气相沉积CVD炉体连通；
[0007]所述搅动组件包括轴体和沿所述轴体的周向均匀设置的至少三个叶片，所述轴体的两端一一对应的固设于所述混气罐的两端，且所述叶片与所述轴体的垂直面具有预设夹角；
[0008]所述搅动组件，被配置为所述叶片在气流的作用下，沿所述轴体进行轴向旋转。
[0009]可选地，如上所述的用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置中，所述搅动组件包括四个叶片。
[0010]可选地，如上所述的用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置中，所述叶片与所述轴体的垂直面的夹角在30度到60度之间。
[0011]可选地，如上所述的用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置中，所述叶片为梯形叶片，所述梯形叶片设置于穿过所述轴体的圆环上，所述圆环的直径为所述混气罐直径的五分之一。
[0012]可选地，如上所述的用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置中，所述梯形叶片的短边与所述圆环相连接，且所述四个叶片的短边相加等于所述圆环的周长，所述梯形叶片的长边为所述短边的两倍。
[0013]可选地，如上所述的用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置中，所述叶片的材料采用塑料、树脂或PVC。
[0014]可选地，如上所述的用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置中，所述轴体设置于所述混气罐的中心轴位置。
[0015]可选地，如上所述的用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置中，所述混气罐的两个端面分别设置有直径与所述轴体直径相同的凹槽，两个所述凹槽用于一一对应的插入所述轴体的两端。
[0016]可选地，如上所述的用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置中，所述搅动组件的直径为所述混气罐直径的二分之一到三分之二。
[0017]本技术实施例提供的用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置，包括混气罐以及设置于该混气罐内部的搅动组件；其中，混气罐的一端面设置有进气孔，另一端面与CVD炉体连通，该搅动组件包括轴体和沿轴体的周向均匀设置的至少三个叶片，轴体的两端一一对应的固设于混气罐的两端，且叶片与轴体的垂直面具有预设夹角。采用本技术实施例提供的用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置，碳源气体由进气孔进入混气罐，气流方向与轴体的垂直面垂直，气流作用在搅动组件上后使得叶片发生旋转，进而由搅动组件带动混气罐内的气体快速流动，使碳源气快速混合均匀，混合均匀的碳源气通入CVD炉内后可以快速反应，并提高碳源气的利用率。
附图说明
[0018]附图用来提供对本技术技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本技术的技术方案，并不构成对本技术技术方案的限制。
[0019]图1为本技术实施例提供的一种用于CVD炉内气体混合的搅动装置的结构示意图；
[0020]图2为本技术实施例提供的用于CVD炉内气体混合的搅动装置中一种搅动组件的结构示意图。
具体实施方式
[0021]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本技术的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
[0022]为克服现有技术中存在的碳源气体不能快速混合均匀的问题，本技术实施例提出了一种用于CVD炉内气体混合的搅动装置，具体为一种调节化学气相沉积炉内碳源气体混合均匀度的装置。
[0023]本技术提供以下几个具体的实施例可以相互结合，对于相同或相似的概念或过程可能在某些实施例不再赘述。
[0024]图1为本技术实施例提供的一种用于CVD炉内气体混合的搅动装置的结构示意图。如图1所示，本技术实施例提供的用于CVD炉内气体混合的搅动装置可以包括：混气罐4，设置于混气罐内部的搅动组件。
[0025]本技术实施例提供的用于CVD炉内气体混合的搅动装置中，混气罐4 的一端面设置有进气孔3，另一端面与CVD炉体连通，该混气罐4可以为圆柱形结构。
[0026]为了使通入CVD炉中的碳源气体得到充分的混合，混合气体通入CVD炉之前，可以预先通入一个混气罐中，在该混气罐进行充分混合，使碳源气体通入CVD炉后可以快速反应，提高沉积效率。但是不同分子量的碳源气体密度不同，混合气体通入混气罐后在自然状态下不能保证其快速充分混合，导致碳源气体进入CVD炉后不能充分反应，使反应速率下降或者原料气反应不充分从而造成浪费。
[0027]本技术实施例提供的用于CVD炉内气体混合的搅动装置，在混气罐4 内设置有搅动组件，该搅动组件包括轴体2和沿轴体3的周向均匀设置的至少三个叶片1，轴体2的两端一一对应的固设于混气罐的两端，且叶片1与轴体2 的垂直面具有预设夹角。该搅动组件，被配置为叶片1在气流的作用下，叶片沿轴体2进行轴向旋转。
[0028]本技术实施例中搅动组件的外形与风扇类似，叶片的个数可以为3个到5个之间，优选为4个叶片，如图2所示，为本技术实施例提供的用于 CVD炉内气体混合的搅动装置中一种搅动组件的结构示意图，图2示意出的搅动组件设置有4个叶片1，图2示意出的叶片1为“梯形”结构，可以看出，4 个叶片1均匀设置于轴体2上，轴体2设置在搅动装置的中间，4个叶片1均可以以轴体2为中心进行轴向转动，该轴体2固定于混气罐4的两端，轴体2 的方向与碳源气体的进气方向一致。
[0029]由于本技术实施例的搅动组件中，叶片1与轴体2的垂直面具有一个预本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置，其特征在于，包括：混气罐，设置于所述混气罐内部的搅动组件；所述混气罐的一端面设置有进气孔，另一端面与化学气相沉积CVD炉体连通；所述搅动组件包括轴体和沿所述轴体的周向均匀设置的至少三个叶片，所述轴体的两端一一对应的固设于所述混气罐的两端，且所述叶片与所述轴体的垂直面具有预设夹角；所述搅动组件，被配置为所述叶片在气流的作用下，所述叶片沿所述轴体进行轴向旋转。2.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置，其特征在于，所述搅动组件包括四个叶片。3.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置，其特征在于，所述叶片与所述轴体的垂直面的夹角在30度到60度之间。4.根据权利要求2所述的用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置，其特征在于，所述叶片为梯形叶片，所述梯形叶片设置于穿过所述轴体的圆环上，所述圆环的直径为所述混气罐直径的...

【专利技术属性】
技术研发人员：李培元，杨睿欣，杜淑娣，薛亮，
申请(专利权)人：西安航空制动科技有限公司，
类型：新型
国别省市：