管理方法及管理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种管理方法，该方法是针对通过多道生产工序生产电子器件的被管理生产线，管理各道生产工序中使用的各个生产装置的管理方法；具有：基准特性取得阶段，其取得基准器件的特性，该基准器件通过可实施多道生产工序的、预定的基准生产线生产；比较器件生产阶段，其使被管理生产线处理多道生产工序中的至少一道生产工序，使基准生产线处理其它生产工序，生产比较器件；比较特性测定阶段，其测定比较器件的特性；特性比较阶段，其比较基准器件的特性和比较器件的特性；判定阶段，其根据特性的差异，判定处理比较器件的被管理生产线的生产工序中使用的生产装置是否良好。

Management method and management device

The invention provides a management method, this method is directed through multi-channel production process production of electronic devices is to manage the production line, production management method of each device management of the production process of; has obtained the reference phase, characteristics of the reference device, the reference device through a reference line can be implemented multi process scheduled production; production phase comparison device, which is to manage the production line processing multi-channel production process at least one of the production process, the production line with other production base, production of more devices; performance comparison determination stage, the determination of characteristics of devices; characteristics of stage characteristics and compared to devices whose baseline device; the judgment stage, according to the characteristics of the difference, judge comparison device is to manage the production line Is the production equipment used in the production process good?.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及管理生产半导体电路等的电子器件的生产线中使用的生产装置的管理 方法以及管理装置。
技术介绍
多年来，在生产半导体电路等的电子器件时，均是通过清洗工序、热处理工序、掺 杂工序、成膜工序、光刻工序、蚀刻工序等多种生产工序生产电子器件的。在各道生产 工序中，使用可实施该生产工序的生产装置。此外，在生产出电子器件后，电子器件出厂前，均进行该电子器件的测试，选择出 不良的电子器件。该测定可通过测试诸如电子器件的电特性进行。此外，为了提高电子器件的成品率，分析不良电子器件，检出产生该不良的原因。 例如，可通过分析电子器件检测生产线中的哪道工序中出了问题。
技术实现思路
然而，多年来，要想检测生产线中的哪道工序中出了问题，就得测定不良电子器件 的元件形状等，例如可通过电子器件的显微镜照片等推断出不良原因。因此，推测不良 原因需要花费相当长的时间。此外，难以准确确定构成不良原因的生产装置。为此，本专利技术的目的在于提供一种能够解决上述课题的管理方法以及管理装置。该 目的可通过组合权利要求范围内的独立权项中所述的特征实现。此外，从属权项规定本 专利技术更加有利的具体实施例。为了解决上述课题，本专利技术的第l种方式提供一种管理方法，是针对通过多道生产 工序生产电子器件的被管理生产线，管理各道生产工序中使用的各个生产装置的管理方 法，具有基准特性取得阶段，其取得基准器件的特性，该基准器件通过可实施多道生 产工序的、预定的基准生产线生产；比较器件生产阶段，其使被管理生产线处理多道生 产工序中的至少一道生产工序，使基准生产线处理其它生产工序，生产比较器件；比较 特性测定阶段，其测定比较器件的特性；特性比较阶段，其比较基准器件的特性和比较器件的特性；判定阶段，其根据特性的差异，判定处理比较器件的被管理生产线的生产 工序中使用的生产装置是否良好。还可在基准特性取得阶段内测定基准器件的特性。管理方法还可具有保证阶段，其 预先测定基准生产线中使用的多个生产装置的特性，预先保证基准生产线中使用的各个 生产装置良好。管理方法还可具有信息取得阶段，其预先取得被管理生产线中使用的多个生产装 置的信息；基准生产线构筑阶段，其根据生产装置的信息，预先构筑基准生产线。管理 方法还具有基准选择阶段，其从用同一生产工序生产电子器件的多道生产线中预先选择 基准生产线。基准选择阶段还有测定阶段，其预先测定通过各道生产线生产的各个电子器件的 特性；选择阶段，其根据各个电子器件的特性，从多道生产线中预先选择基准生产线。基准特性取得阶段，以及比较器件生产阶段通过多道生产工序生产电子器件，该电 子器件具有测试电路，该测试电路包括呈二维矩阵形排列、各自含有前述被测定晶体管 的多个被测定电路，以及使指定的一个前述被测定电路的输出信号向前述多个被测定电 路共同设置的输出信号线输出的选择部；基准特性取得阶段具有晶体管选择阶段，其 在基准器件的测试电路中，通过选择部依次选择多个被测定电路；输出测定阶段，其根 据基准器件的测试电路中，选择出的被测定电路向输出信号线输出的输出信号，测定各 个被测定电路具有的被测定晶体管的电特性；比较特性测定阶段具有晶体管选择阶段， 其在比较器件的测试电路中，通过选择部依次选择多个被测定电路；输出测定阶段，其 根据比较器件的测定电路中，选择出的被测定电路向输出信号线输出的输出信号，测定 各个被测定电路具有的被测定晶体管的电特性。各个被测定电路包括栅极电压控制部，其把指定的栅极电压外加给被测定晶体管 的栅极端子；基准电压输入部，其把从外部输入的基准电压提供给被测定晶体管的漏极 端子以及源极端子中的一方的基准电压侧端子；端子电压输出部，其以从外部输入选择 信号为条件，把被测定晶体管的漏极端子以及源极端子中基准电压侧端子以外的端子的 端子电压作为输出信号输出；选择部包括行选择部，其向二维矩阵形排列的多个被测 定电路中与指定的行对应的被测定电路输出选择信号；列选择部，其从输入选择信号的 被测定电路中，选择出与指定的列对应的被测定电路的端子电压，使之向输出信号线输 出；测试电路还包括多个电流源，其与多个被测定电路的各列对应设置，使指定的源 极漏极间电流在行选择部输入了选择信号的被测定电路中流动；基准特性取得阶段以及比较特性测定阶段测定端子电压，作为各个被测定晶体管的电特性。基准特性取得阶段以及比较特性测定阶段，针对各个被测定晶体管，根据基准电压 以及端子电压，把该被测定晶体管的阈值电压作为电特性加以测定。特性比较阶段比较基准器件中含有的多个被测定晶体管的阈值电压的误差，和比较 器件中含有的多个被测定晶体管的阈值电压的误差。各个被测定电路包括栅极电压控制部，其把指定的栅极电压外加给被测定晶体管 的栅极端子；电压外加部，其给被测定晶体管的源极端子以及漏极端子外加电压，把该 被测定晶体管的栅极绝缘膜上外加的电压控制为大致一定；电容器，其储存从被测定晶 体管的栅极端子流向源极端子及漏极端子的栅极漏电流；电容器电压输出部，其以从外 部输入选择信号为条件，把电容器中的源极端子以及漏极端子侧的端部的电容器电压作 为输出信号输出；基准特性取得阶段以及比较特性测定阶段作为各个被测定晶体管的电 特性，测定电容器电压。若采用本专利技术的第2种方式，提供一种管理装置，是针对通过多道生产工序生产电 子器件的被管理生产线，管理各道生产工序中使用的各个生产装置的管理装置；具有 基准特性测定部，其测定基准器件的特性，该基准器件通过可实施多道生产工序的、预 定的基准生产线生产；比较器件生产控制部，其使被管理生产线处理多道生产工序中的 至少一道生产工序，使基准生产线处理其它生产工序，生产比较器件；比较特性测定部， 其测定比较器件的特性；特性比较部，其比较基准器件的特性和比较器件的特性；判定 部，其根据特性差异，判定处理比较器件的被管理生产线的生产工序中使用的生产装置 是否良好。若采用本专利技术的第3种方式，提供一种管理方法，是针对通过多道生产工序生产电 子器件的被管理生产线，管理各道生产工序中使用的各个生产装置的管理方法；具有 准备阶段，其准备用同一生产线生产的第1器件以及第2器件；第l等离子照射阶段， 其通过可实施多道生产工序的、预定的基准生产线中使用的等离子照射装置，给第1器 件照射等离子；第2等离子照射阶段，其通过被管理生产线中使用的等离子照射装置， 给第2器件照射等离子；特性测定阶段，其分别测定照射过等离子的第1器件以及第2 器件的特性；特性比较阶段，其比较第1器件的特性和第2器件的特性；判定阶段，其 根据特性的差异，判定被管理生产线中的等离子照射装置是否良好。而上述专利技术概要并未列举出本专利技术的全部必要特征，这些特征群的次级组合也可构 成专利技术。专利技术效果若采用本专利技术，可正确而又简便地管理生产电子器件的生产线中使用的生产装置。 附图说明图1是本专利技术的实施方式涉及的管理装置10的构成例示图。图2是被管理生产线100的构成例示图。图3是举例说明管理装置10的动作的流程图。图4是举例说明器件生产者拥有被管理生产线100，外部的检测机构拥有基准生产 线200时的处理流程图。图5是举例说明器件生产者拥有的多条生产线中，使一条生产线具有基准生产线 200的功能，使其余生产线具有被管理生产线100功能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种管理方法，是针对通过多道生产工序生产电子器件的被管理生产线，管理各道生产工序中使用的各个生产装置的管理方法，其特征在于具有：基准特性取得阶段，其取得基准器件的特性，该基准器件通过可实施前述多道生产工序的、预定的基准生产线生产；比较器件生产阶段，其使前述被管理生产线处理前述多道生产工序中的至少一道生产工序，使前述基准生产线处理其它生产工序，生产比较器件；比较特性测定阶段，其测定前述比较器件的特性；特性比较阶段，其比较前述基准器件的特性和前述比较器件的特性；判定阶段，其根据前述特性的差异，判定处理前述比较器件的前述被管理生产线的前述生产工序中使用的前述生产装置是否良好。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：冈安俊幸，须川成利，寺本章伸，
申请(专利权)人：爱德万测试株式会社，国立大学法人东北大学，
类型：发明
国别省市：JP[日本]