一种用于切割坩埚的排气工装制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于切割坩埚的排气工装，属于加工工装技术领域。工装包括主体，主体为圆柱体，主体一端中心位置处设置有夹持位，夹持位为圆柱体结构，夹持位直径小于主体直径，主体内设有通孔，通孔贯穿主体和夹持位。本实用新型专利技术通过通孔排出坩埚内产生的压缩气体，保证工装与坩埚紧密贴合，提高坩埚的切割合格率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于切割坩埚的排气工装
本技术涉及一种用于切割坩埚的排气工装，属于加工工装

技术介绍
化学气相沉积(以下简称为CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。目前CVD
中定制化坩埚种类多，规格也是多种多样，其中坩埚切割的工装制备属于本领域中的一个难点，这是由于坩埚端面是封闭的，且坩埚是层结构易损坏，工装和内衬要同时安装进坩埚内，坩埚内气体无法排出，致使坩埚不能与工装紧密贴合，机床切割时容易发生晃动，进而导致坩埚的切割合格率低。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本技术提供一种用于切割坩埚的排气工装，保证工装与坩埚紧密贴合，提高坩埚的切割合格率。本技术的技术方案如下：一种用于切割坩埚的排气工装，包括主体，主体为圆柱体，主体一端中心位置处设置有夹持位，夹持位为圆柱体结构，夹持位直径小于主体直径，主体内设有通孔，通孔贯穿主体和夹持位。优选的，通孔设置于主体的中心位置，保证通孔不会被内衬遮挡，保持排气通畅。优选的，主体直径为10-300mm，高度为10-500mm。优选的，通孔直径为3-70mm。工装使用时，将主体和内衬一起安装进坩埚内，坩埚内的压缩气体随通孔排出，工装与坩埚紧密贴合，然后将夹持位夹持在机床上，进行稳定切割。本技术的有益效果在于：1、本技术通过通孔排出坩埚内产生的压缩气体，保证工装与坩埚紧密贴合，提高坩埚的切割合格率。2、本技术设有夹持位，方便将工装夹持到机床上。附图说明图1为本技术的主视图；图2为本技术的剖视图；其中：1、主体；2、通孔；3、夹持位。具体实施方式下面通过实施例并结合附图对本技术做进一步说明，但不限于此。实施例1：如图1-2所示，本实施例提供一种用于切割坩埚的排气工装，包括主体1，主体1为圆柱体，主体1一端中心位置处设置有夹持位3，保证切割出坩埚的同心度，夹持位3为圆柱体结构，夹持位3直径小于主体直径，主体1内设有通孔2，通孔2贯穿主体1和夹持位3，保证气体的通畅排出，主体1直径为10mm，高度为10mm，通孔直径为3mm。工装使用时，将主体1和内衬一起安装进坩埚内，坩埚内的压缩气体随通孔排出，工装与坩埚紧密贴合，然后将夹持位夹持在机床上，进行稳定切割，保障产品质量。实施例2：一种用于切割坩埚的排气工装，结构如实施例1所述，不同之处在于，主体1直径为120mm，高度为270mm，通孔2的直径为15mm，夹持位3直径为80mm，长度80mm。实施例3：一种用于切割坩埚的排气工装，结构如实施例2所述，不同之处在于，通孔2设置于主体1的中心位置，保证通孔2不会被内衬遮挡，保持排气通畅，通孔2直径为40mm，减轻了工装重量，方便固定安装，加强气流的排出。实施例4：一种用于切割坩埚的排气工装，结构如实施例1所述，不同之处在于，主体1直径为10mm，高度为22mm，通孔2的直径为5mm，夹持位3的直径9mm，长度为30mm。实施例5：一种用于切割坩埚的排气工装，结构如实施例1所述，不同之处在于，主体1直径为300mm，高度为200mm，通孔2直径为50mm，夹持位3的直径为100mm，长度为80mm。实施例6：一种用于切割坩埚的排气工装，结构如实施例1所述，不同之处在于，主体1直径为300mm，高度为500mm，通孔2直径为70mm。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于切割坩埚的排气工装，其特征在于，包括主体，主体为圆柱体，主体一端中心位置处设置有夹持位，夹持位为圆柱体结构，夹持位直径小于主体直径，主体内设有通孔，通孔贯穿主体和夹持位。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于切割坩埚的排气工装，其特征在于，包括主体，主体为圆柱体，主体一端中心位置处设置有夹持位，夹持位为圆柱体结构，夹持位直径小于主体直径，主体内设有通孔，通孔贯穿主体和夹持位。


2.如权利要求1所述的用于切割坩埚的排气工装，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘汝强，王殿春，杨美俊，秦虎，周清波，
申请(专利权)人：山东国晶新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37