电摄影光敏元件及其工艺卡盒和电摄影设备制造技术

＊＊＊ （１） 本发明专利技术公开了一种电摄影光敏元件，它具有一支撑体和设置在该支撑体上的光敏层。该光敏层包含式（１）所示的化合物：其中Ｒ↓［１］为烷基或链烯基；Ｒ↓［２］、Ｒ↓［３］、Ｒ↓［４］和Ｒ↓［５］是相同或不同的，各自代表氢原子、烷基或链烯基；Ｘ↓［１］和Ｘ↓［２］是相同或不同的，各自代表氢原子、烷基、链烯基或丙烯酰基，只要Ｘ↓［１］和Ｘ↓［２］不同时为氢原子。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种电摄影光敏元件、以及具有电摄影光敏元件的工艺卡盒(process cartridge)和电摄影设备。习惯上把US2297691以及日本专利公开号42-23910和43-24748中公开的许多方法称为电摄影术。通常，通过使用光电导材料并通过不同方式在光敏元件上形成静电潜像，接着通过使用显影剂(以下的“色调剂”)显影潜像，以及将作为色调剂图像的色调剂转印到诸如纸的转印介质上，接着通过热辊等的设备固化以获得复印件。更详细地说，在该电摄影方法中形成静电潜像的步骤是其中由硒、硅或有机光电导材料构成的光敏元件表面通过电晕充电、或使用导电辊的接触充电而均匀充电，之后通过激光灯的作用形成的复印原稿或点状图案的光学图像被曝光以形成静电潜像。在该充电步骤中，已知产生诸如臭氧和NOx的活性物质。在某些情况下，例如离子的活性物质也包含在例如纸的转印介质中。然而，在上面的步骤中产生的臭氧和NOx和含在转印介质中的活性物质可能对光敏元件作用而造成势能的改变和残余势能的增加，并可能对电摄影性能和图像起副作用，造成例如不集中的图像和玷污的图像，并造成光敏元件的运转性能降低。具体地说，有机物光敏元件对臭氧和NOx的耐受性低，而且经常在为产生大量臭氧之起因的充负电条件下使用。因此，臭氧和NOx的产生是一个大问题。含在转印介质中的活性物质也可能是显影差的错综复杂的原因。为了解决这些问题，对方法进行这样的改进(1)在机体中安装风扇以消除任何造成困难的物质，(2)引入方法，借此总可以移去光敏元件表面的任何磨损的部分，(3)选择对上述活性物质有耐受性的有机光电导材料，(4)在光敏元件中添加抗氧化剂或防磨损剂。但是，方法(1)在耗尽效能上存在问题；(2)存在光敏元件的机械寿命的问题；(3)和(4)存在对活性物质的耐久性和光敏元件的性能两者都实现困难的问题。本专利技术的一个目的在于提供解决上述问题的电摄影光敏元件，可以防止由各种活性物质造成的任何对光敏元件的破坏，也不会对电摄影性能造成困难。本专利技术的另一目的在于提供可以总是保持高质量图像的电摄影光敏元件，即使重复使用也没有不集中的图像或玷污的图像，并具有高势能的稳定性。本专利技术的又一目的在于提供一种具有该电摄影光敏元件的工艺卡盒和电摄影设备。即，本专利技术提供一种包括支撑体和在支撑体上设置有光敏层的电摄影光敏元件；该光敏层含有一由下式(1)表示的化合物 其中R1为烷基或链烯基；R2、R3、R4和R5是相同或不同的，各自代表氢原子、烷基或链烯基；X1和X2是相同或不同的，各自代表氢原子、烷基、链烯基或丙烯酰基，只要X1和X2不同时为氢原子。本专利技术也提供了一种具有该电摄影光敏元件的工艺卡盒和电摄影设备。附示说明了一个具有本专利技术的电摄影光敏元件的工艺卡盒的电摄影设备的构造的例子。本专利技术的电摄影光敏元件在支撑体上具有光敏层，该光敏层含有下式(1)所示的化合物 其中R1为烷基或链烯基；R2、R3、R4和R5是相同或不同的，各自代表氢原子、烷基或链烯基；X1和X2是相同或不同的，各自代表氢原子、烷基、链烯基或丙烯酰基，只要X1和X2不同时为氢原子。式(1)中R1所示的烷基可以包括甲基、乙基和丙基，可以优选具有1-10个，并特别优选1-5个碳原子。R1所示的链烯基可以包括乙烯基、烯丙基和丙烯基，可以优选具有2-10个，并特别优选2-5个碳原子。R2-R5所示的烷基可以包括甲基、乙基和丙基，可以优选具有1-10个，并特别优选2-8个碳原子。R2-R5所示的链烯基可以包括乙烯基、烯丙基和丙烯基，可以优选具有2-10个，并特别优选2-6个碳原子。X1和X2所示的烷基可以包括甲基、乙基和丙基，可以优选具有1-10个，并特别优选1-5个碳原子。X1和X2所示的链烯基可以包括乙烯基、烯丙基和丙烯基，可以优选具有2-10个，并特别优选2-5个碳原子。X1和X2所示的丙烯酰基可以包括丙烯酰基、甲基丙烯酰基和乙基丙烯酰基。在本专利技术中，X1和X2的至少一个可以优选为丙烯酰基，特别是X1和X2中的一个可以是丙烯酰基，另一个可以是氢原子。这些基团各自可以具有取代基。取代基可以包括例如甲基、乙基和丙基的烷基，例如甲氧基、乙氧基和丙氧基的烷氧基，例如苯基和萘基的芳基，和例如氟原子、氯原子和溴原子的卤原子。在本专利技术中，除了式(1)所示的化合物之外，光敏层还可以优选含有下式(2)所示的磷化合物，就其优点而言，本专利技术可以具有更显著的效果 其中X3和X4代表烷基和链烯基。在式(2)所示的化合物中，烷基可以包括甲基、乙基和丙基，可以优选具有1-10个，并特别优选1-5个碳原子。链烯基可以包括乙烯基、烯丙基和丙烯基，可以优选具有2-10个，并特别优选2-5个碳原子。这些基团各自可以具有取代基。取代基可以包括例如甲基、乙基和丙基的烷基，例如甲氧基、乙氧基和丙氧基的烷氧基，例如苯基和萘基的芳基，和例如氟原子、氯原子和溴原子的卤原子。式(1)所示的化合物可以具体包括例如以下化合物。示例化合物(1)-1 示例化合物(1)-2 示例化合物(1)-3 示例化合物(1)-4 示例化合物(1)-5 示例化合物(1)-6 示例化合物(1)-7 示例化合物(1)-8 示例化合物(1)-9 示例化合物(1)-10 示例化合物(1)-11 在它们中间，尤其可以优选式(1)-2所示的化合物。以将该化合物添加到其中的光敏层的总重量计，(1)所示的化合物的添加量可以优选在0.2-20wt％，特别优选0.3-17wt％。如果添加量小于0.2wt％，其添加的效果可能很小。如果添加量超过20wt％，有发生例如灵敏度降低和残余势能增加的困难的趋势。式(2)所示的化合物可以具体包括例如以下化合物。示例化合物(2)-1 示例化合物(2)-2 示例化合物(2)-3 示例化合物(2)-4 示例化合物(2)-5 示例化合物(2)-6 示例化合物(2)-7 示例化合物(2)-B 示例化合物(2)-9 示例化合物(2)-10 其中，可以特别优选式(2)-4所示的化合物。以将这些化合物添加到其中的光敏层总量为基础计，式(1)所示的化合物和式(2)所示的磷化合物可以优选的添加量为0.2-20wt％的范围，特别优选在0.5-17wt％。式(1)与式(2)化合物的混合比例可以优选为0.1∶1-1∶0.1，特别优选0.3∶1-1∶0.3。如果添加量小于总量的0.2wt％，其添加的效果可能很小。如果它们的添加量超过20wt％，有发生例如灵敏度降低和残余势能增加的困难的趋势。本专利技术中使用的光敏层可以具有其中电荷产生材料和电荷输送材料包含在相同层中的单层型的形式，或具有层压的多层型的形式，该多层型具有包含电荷产生材料的电荷产生层和包含电荷输送材料的电荷输送层。本专利技术中使用的电荷产生材料可以包括吡喃鎓染料、噻喃鎓染料、酞菁颜料、蒽垛蒽酮颜料、二苯芘醌颜料、皮蒽酮颜料、偶氮颜料、靛蓝颜料、喹吖啶酮颜料和醌菁颜料。本专利技术中使用的电荷输送材料可以包括腙化合物、吡唑啉化合物、苯乙烯基化合物、噁唑化合物、噻唑化合物、三芳胺化合物、三芳基甲烷化合物和多芳基烷烃化合物。在本专利技术中，就式(1)所示的化合物和式(2)所示的磷化合物之间的匹配而言，电荷输送材料可以优选为下式(3)代表的苯乙烯基化合物、下式(4)代本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电摄影光敏元件，它包括支撑体和设置在该支撑体上的光敏层； 所述的光敏层包含下式（１）所示的化合物： ＊＊＊ （１） 其中Ｒ↓［１］为烷基或链烯基；Ｒ↓［２］、Ｒ↓［３］、Ｒ↓［４］和Ｒ↓［５］是相同或不同的，各自代表氢原子、烷基或链烯基；Ｘ↓［１］和Ｘ↓［２］是相同或不同的，各自代表氢原子、烷基、链烯基或丙烯酰基，只要Ｘ↓［１］和Ｘ↓［２］不同时为氢原子。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤一马，宫崎元，大森弘之，长坂秀昭，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]