【技术实现步骤摘要】
掩模对准方法、成膜方法、掩模对准装置及成膜装置
[0001]本专利技术涉及用于将掩模定位于掩模载置台的掩模对准。
技术介绍
[0002]最近，作为平板显示装置，有机EL显示装置受到关注。有机EL显示装置是自发光显示器，响应速度、视场角、薄型化等特性比液晶面板显示器优异，通过以监视器、电视机、智能手机为代表的各种便携终端等以较快的速度替代已存的液晶面板显示器。而且，在汽车用显示器等中也扩展其应用领域。
[0003]有机EL显示装置的元件具有在两个面对的电极(阴极电极、阳极电极)之间形成有引起发光的有机物层的基本结构。有机EL显示装置的元件的有机物层和电极金属层通过在成膜装置内经由形成有像素图案的掩模向基板成膜蒸镀物质来制造，但是为了提高这样的成膜工序的精度，需要在向基板进行成膜之前使掩模与基板的相对位置高精度地对合。
[0004]因此，在基板和掩模上形成标记(将其称为对准标记)，利用设置在成膜装置上的相机拍摄这些对准标记，由此计测基板与掩模的相对位置偏离。
[0005]基于计测的基板与掩模的相对位置偏离...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种掩模对准方法，所述掩模对准方法调整掩模载置台与掩模的相对位置，其特征在于，包括：对所述掩模载置台上的所述掩模的相对的位置偏离量进行计测的计测工序；在使所述掩模从所述掩模载置台分离的状态下，在与所述掩模载置台的载置面平行的面内，使所述掩模相对于所述掩模载置台相对移动与计测到的所述位置偏离量相当的移动指示量的位置调整工序；及将相对移动后的所述掩模载置到所述掩模载置台上的载置工序，所述掩模对准方法基于规定的条件，对所述移动指示量进行补正，并使用补正后的移动指示量进行所述位置调整工序。2.根据权利要求1所述的掩模对准方法，其特征在于，在所述移动指示量的补正中，补正成与通过所述计测工序计测的位置偏离量的两倍相当的移动指示量。3.根据权利要求2所述的掩模对准方法，其特征在于，在顺次反复进行所述计测工序、所述位置调整工序及所述载置工序的过程中，如果所述掩模载置台上的所述掩模的位置偏离量被反复作为超过预定的规定值的偏离量且该位置偏离量的变化成为了规定的基准值以下，则判定为所述规定的条件成立，在进行下次的所述位置调整工序时使用所述补正后的移动指示量，进行补正后的位置调整。4.根据权利要求3所述的掩模对准方法，其特征在于，当作为与所述掩模载置台上的所述掩模的位置偏离量相当的移动指示量的之前刚过去的移动指示量的差分连续两次成为所述规定的基准值以下时，判定为所述位置偏离量的变化成为所述规定的基准值以下。5.根据权利要求3所述的掩模对准方法，其特征在于，当作为与所述掩模载置台上的所述掩模的位置偏离量相当的移动指示量的之前刚过去的两次移动指示量的差分成为所述规定的基准值以下时，判定为所述位置偏离量的变化成为所述规定的基准值以下，在下次的所述位置调整工序时使用所述补正后的移动指示量进行第一次的补正后的位置调整。6.根据权利要求5所述的掩模对准方法，其特征在于，将在进行所述第一次的补正后的位置调整时成为所述差分的比较对象的移动指示量的一方与即将进入第二次以后的补正后的位置调整之前的移动指示量进行比较，在其差分成为了所述规定的基准值以下时，进行所述第二次以后的补正后的位置调整。7.根据权利要求3～6中任一项所述的掩模对准方法，其特征在于，所述基准值是比所述规定值小的值。8.一种成膜方法，其特征在于，包括：使用权利要求1～6中任一项所述的掩模对准方法，在调整了掩模与掩模载置台的相对位置的状态下，将掩模载置于掩模载置台上的第一对准工序；相对于载置在掩模载置台上的所述掩模来调整基板的相对位置的第二对准工序；及在使进行了位置调整的所述基板与所述掩模紧贴之后，将来自蒸镀源的蒸镀材料经由所述掩模向所述基板成膜的工序。9.一种掩模对准装置，所述掩模对准装置用于调整掩模载置台与掩模的相对位置，其
特征在于，包括：掩模支承单元，在将所述掩模载置于所述掩模载置台上的前后，所述掩...
【专利技术属性】
技术研发人员：富井广树，谷和宪，鸟泻光太郎，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：
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