一种张网设备中加载反向力的方法技术

本发明专利技术涉及一种张网设备中加载反向力的方法，包括：获取表示掩膜框架施加外力后所产生的形变量的大小与施力大小及施力位置的数学关系的形变量函数；获取待焊接的各条掩膜版的张网参数，根据形变量函数和张网参数确定所有尚未焊接的掩膜版将对掩膜框架造成的形变量一；根据形变量函数和反向力装置的加载参数，获取反向力装置使掩膜框架产生的形变量二的拟合函数；采用掩膜框架形变量二的拟合函数对掩膜框架形变量一进行拟合，获取拟合函数中各个反向力装置对掩膜框架施加的反向力大小，焊接完一条掩膜版之后，重复执行上述步骤，依次获取各条掩膜版进行焊接前，各个反向力装置需对掩膜框架施加的反向力大小；整个张网最优解的确定过程快速准确。解的确定过程快速准确。解的确定过程快速准确。

【技术实现步骤摘要】
一种张网设备中加载反向力的方法


[0001]本专利技术涉及显示面板制造装备领域，尤其涉及一种张网设备中加载反向力的方法。

技术介绍

[0002]基于有机发光二极管(OLED，OrganicLight-Emitting Diode)的显示屏在近年成为热门产品。在OLED屏的有机膜层制备中，需要使用精细金属掩膜版遮挡特定位置的蒸镀材料以生成具有设计图案的膜层。
[0003]蒸镀之前需要依次对多条精细金属掩膜版的两侧施加一定张网拉力后对位并焊接在掩膜框架上，也就是张网过程。如图1所示为掩膜框架及精细金属掩膜版的实施例的结构示意图，结合图1，因为精细金属掩膜版是以拉伸的状态被焊接在掩膜框架上的，所以这些精细金属掩膜版会对掩膜框架有反作用力，这个反作用力会让掩膜框架产生微小的压缩形变，这个微小的压缩形变会反过来影响精细金属掩膜版的形状，从而降低张网精度。为了减小上述张网过程中掩膜框架发生形变后反过来对精细金属掩膜版所造成的影响，我们需要在张网过程中对掩膜框架的几个对称的位置施加一定的压力，也就是反向力(counterforce)F
c
，能够提供上述反向力的装置就是反向力装置。
[0004]如图2-4所示分别为反向力装置及掩膜框架的实施例的结构示意图、反向力装置和掩膜框架的实施例的俯视图以及反向力装置的实施例的结构示意图，结合图2-4，用反向力装置模拟尚未焊接到掩膜框架上的精细金属掩膜版将会对掩膜框架造成的形变。在张网焊接前，我们先用反向力装置对掩膜框架施加一定的反向力，这些反向力要尽可能好地模拟所有将要焊接到掩膜框架上的精细金属掩膜版将要对掩膜框架造成的影响；然后每次焊接完一条精细金属掩膜版后，需要撤去一部分反向力，并且使得撤去这部分反向力后，剩下的反向力能够模拟剩下来将要焊接却还未焊接到掩膜框架上的精细金属掩膜版将会对掩膜框架造成的形变；一直到焊接完最后一条精细金属掩膜版之后，撤去最后的反向力，此时反向力大小正好为零，即此时反向力装置对掩膜框架不施加任何力。
[0005]即，在张网过程中，当没有焊接精细金属掩膜版时，或焊接完所有的精细金属掩膜版后，或焊接完每一条精细金属掩膜版并撤去一部分反向力的时候，所有的“加载-撤去”反向力的设计需要使得：反向力装置和实际焊接好的精细金属掩膜版共同对掩膜框架造成形变尽可能一致；并且焊接完所有的精细金属掩膜版后，反向力装置对掩膜框架不施加任何力。
[0006]现有的张网技术中，张网设备中的反向力装置的个数及位置由经验或者有限元仿真决定，不是反向力装置个数及位置的最优解。张网设备设计的反向力大小值由某个给定系数和张网拉力乘积的值来决定，这种方法对张网过程有较强的局限性，反向力最终能达到的精度也较低，会间接导致张网精度的降低。为了获得规格内的张网精度，使用者不得不另外花费较长的时间使用第三方工业仿真软件进行额外的仿真工作，但是使用第三方工业仿真软件得到的反向力大小通常也不是反向力大小的最优解。现有技术中也有通过加更多
对的反向力装置来提高张网精度的方案，但是更多的反向力装置会增加装配难度，增加装配精度问题，同时还会增加寻找张网最优解的难度。

技术实现思路

[0007]本专利技术针对现有技术中存在的技术问题，提供一种张网设备中加载反向力的方法，解决现有技术中寻找张网时反向力大小最优解的问题。
[0008]本专利技术解决上述技术问题的技术方案如下：一种张网设备中加载反向力的方法，包括：步骤1，获取掩膜框架的形变量函数，所述形变量函数表示所述掩膜框架被施加外力后所产生的形变量的大小与施力大小及施力位置的数学关系；步骤2，获取待焊接的各条掩膜版张网参数，所述张网参数包括掩膜版的位置及张网力大小；步骤3，根据所述形变量函数和所述张网参数确定所有尚未焊接的掩膜版将对所述掩膜框架造成的形变量一；步骤4，根据所述形变量函数和反向力装置的加载参数，获取反向力装置使所述掩膜框架产生的形变量二的拟合函数，所述反向力装置的加载参数包括预加载的反向力装置的个数、安装位置和相应施加的反向力大小；步骤5，采用掩膜框架形变量二的拟合函数对掩膜框架形变量一进行拟合，获取所述拟合函数中各个所述反向力装置对所述掩膜框架施加的反向力大小；步骤6，焊接完一条掩膜版之后，重复执行步骤3-5，依次获取各条掩膜版进行焊接前，各个所述反向力装置需对所述掩膜框架施加的反向力大小。
[0009]本专利技术的有益效果是：本专利技术提供的一种张网设备中加载反向力的方法，首先对于给定尺寸及材料力学属性的掩膜框架，通过力学仿真获得其形变量值与施力大小及施力位置的形变量函数，基于该形变量函数，结合张网前输入的张网参数，预测将要焊接的精细金属掩膜版会对掩膜框架造成的形变；再结合反向力装置的参数，建立加载的反向力对掩膜框架所造成形变的模型；最后以数据拟合的方式快速计算得到每一步张网时反向力的大小，获得反向力装置所加载的反向力的最优解，整个张网最优解的确定过程快速准确。
[0010]在上述技术方案的基础上，本专利技术还可以做如下改进。
[0011]进一步，所述步骤1中通过力学仿真获得的所述掩膜框架的形变量函数为：；其中，为掩膜框架不同位置
ꢀꢀ
处所发生的形变量，为施加外力的位置， 为施加外力的大小，表示位置影响因子。
[0012]进一步，所述步骤2中获取待焊接的各条掩膜版的位置的方法包括：获得第i 条待焊接的所述掩膜版的位置分布范围为；，，；、分别为第 i 条掩膜版的宽度以及相应焊接点的中心位置，M表示待焊接的掩膜版的总数。
[0013]进一步，所述步骤3中确定所述形变量一的过程包括：
计算第i条掩膜版将对所述掩膜框架造成的形变量；表示根据预设张网拉力大小获得的第 i 条掩膜版对所述掩膜框架的作用力大小；计算在焊接第m条所述掩膜版前，所有尚未焊接的掩膜版将对所述掩膜框架造成的所述形变量一；M表示待焊接的掩膜版的总数。
[0014]进一步，所述步骤4中获得所述拟合函数的过程包括：所述反向力装置为对称排布的N对，获得焊接第m条所述掩膜版前，第j对所述反向力装置分别对所述掩膜框架相对的两条长边上的不同位置造成的形变量；，为第 j对反向力装置的位置坐标，表示采用所述反向力装置焊接第m条所述掩膜版前第 j对反向力装置分别对掩膜框架施加的力的大小；建立焊接第m条所述掩膜版前所有预加载的所述反向力装置对所述掩膜框架造成的所述形变量二的拟合函数为：。
[0015]进一步，所述步骤5中获取所述拟合函数中各个所述反向力装置对所述掩膜框架施加反向力的大小的方法包括：对已获知具体数值的掩膜框架的形变量一进行数据拟合，求取尽可能满足时各个所述反向力装置的施力的值。
[0016]进一步，根据一次或多次拟合出的反向力装置的施力大小和掩膜版对掩膜框架形变量影响的对比，确定所述反向力装置的最优位置及对数。
[0017]进一步，所述反向力装置的最优数量范围为3～7对。
[0018]进一步，所述反向力装置的数量为3对时，所述反向力装置的最优位置为掩膜框架内框长边长度的(0本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种张网设备中加载反向力的方法，其特征在于，所述方法包括：步骤1，获取掩膜框架的形变量函数，所述形变量函数表示所述掩膜框架被施加外力后所产生的形变量的大小与施力大小及施力位置的数学关系；步骤2，获取待焊接的各条掩膜版张网参数，所述张网参数包括掩膜版的位置及张网力大小；步骤3，根据所述形变量函数和所述张网参数确定所有尚未焊接的掩膜版将对所述掩膜框架造成的形变量一；步骤4，根据所述形变量函数和反向力装置的加载参数，获取反向力装置使所述掩膜框架产生的形变量二的拟合函数，所述反向力装置的加载参数包括预加载的反向力装置的个数、安装位置和相应施加的反向力大小；步骤5，采用掩膜框架形变量二的拟合函数对掩膜框架形变量一进行拟合，获取所述拟合函数中各个所述反向力装置对所述掩膜框架施加的反向力大小；步骤6，焊接完一条掩膜版之后，重复执行步骤3-5，依次获取各条掩膜版进行焊接前，各个所述反向力装置需对所述掩膜框架施加的反向力大小。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤1中通过力学仿真获得的所述掩膜框架的形变量函数为：；其中，为掩膜框架不同位置处所发生的形变量，为施加外力的位置，F为施加外力的大小，表示位置影响因子。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述步骤2中获取待焊接的各条掩膜版的位置的方法包括：获得第 i条待焊接的所述掩膜版的位置分布范围为；， ()；、分别为第i 条掩膜版的宽度以及相应焊接点的中心位置，M表示待焊接的掩膜版的总数。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述步骤3中确定所述形变量一的过程包括：计算第i条掩膜版将对所述掩膜框架造成的形变量；表示根据预设张网拉力大小获得的第i 条掩膜版对所述掩膜框架的作用力大小；计算在焊接第m条所述掩膜版前，所有尚未焊接的掩膜版将对所述掩膜框架造成的所述形变量一；M表示待焊接的掩膜版的总数。5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述步骤4中获得所述拟合函数的过程包括：所述反向力装置为对称排布的N对，获得焊接第m条所述掩膜版前，第j对所述反向力装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：何远超，徐健，刘耀阳，顾骏，
申请(专利权)人：上海精骊电子技术有限公司，
类型：发明
国别省市：