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成像元件制造技术

技术编号:2756525 阅读:161 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
光电导元件,包括支撑基片、光生层和电荷传输层,并且其中所述光生层包括光生组分和电子传输组分。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及成像元件,更具体地,涉及带正电和带负电的电照相成像元件和在所述元件上形成图像的方法。
技术介绍
U.S.专利6255027、6177219和6156468公开的是例如受光体,这些专利的公开内容在此全部引入作为参考,所述受光体包含分散于粘合剂中的许多光散射颗粒的空穴阻挡(blocking)层,例如可参考U.S.专利6156468的实施例I,其所公开内容在此全部引入作为参考,其中说明了二氧化钛分散于VARCUMTM特定线形酚醛粘合剂中的空穴阻挡层,其可从OxyChem Company商购。
技术实现思路
本专利技术公开包括色彩和方法在内的用于静电数字产品的层合光电导成像元件,所述元件包括任选的支撑基片、光生层、电荷传输层和任选的保护罩面层,其中光生层包含光生颜料或颜料、任选的聚合粘合剂和电子传输组分的混合物。在实施方案中,所选择的光生颜料的数量和电子传输组分的数量都可以调节,以例如允许对光生层的光敏度进行调节。更加具体地,在实施方案中,存在于光生层中的较高敏感性的光生颜料的数量或浓度可以预先选择并且可以变化,以例如允许其成像元件具有很多不同的光敏度。在本专利技术的实施方案中本文档来自技高网...

【技术保护点】
光电导元件,其包括支撑基片、光生层和电荷传输层,并且其中所述光生层包括光生组分和电子传输组分,并且其中所述电子传输组分任选选自下式的羰基芴酮丙二腈:    ***    其中每一个R都独立地选自氢、烷基、烷氧基、芳基和卤化物;下式的硝化芴酮:    ***    其中每个R独立地选自烷基、烷氧基、芳基和卤化物,并且其中至少两个R基团是硝基;选自下式所代表的N,N’-双(二烷基)-1,4,5,8-萘四羧酸二酰亚胺和N,N’-双(二芳基)-1,4,5,8-萘四羧酸二酰亚胺的二酰亚胺:    ***    其中R↓[1]是烷基、烷氧基、环烷基、卤化物或芳基;R↓[2]是烷基、烷氧基、环烷基或芳基;R...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:NL贝尔克纳普A约安尼季斯CC陈L张JM杜夫JF格拉哈姆TP本德
申请(专利权)人:施乐公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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