周边曝光装置及其方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种周边曝光装置及其方法，该周边曝光装置及其方法可对应于在周边区域的任何位置上形成识别标记，并可使污染基板表面的原因达到最小限度。周边曝光装置具有：紫外线照射单元（９），其在移动路径上，从照射口经由照射用透镜将包含紫外线的光照射至基板的周边区域；和照射区域调节遮板机构（１０），其根据基板的移动速度，以遮盖照射口（９ｍ）的至少一部分而对识别标记进行遮光的方式进行控制。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，该对形成于在基板的图案区域周围形成的周边区域的记号、文字等识别标记进行遮光的同时，对周边区域照射包含紫外线的光以进行周边曝光。
技术介绍
一般而言，关于在曝光装置中图案将被曝光的基板，例如在液晶基板中，当时是对大约500mm×500mm的尺寸的基板进行处理，现在是对放大至2160mm×2460mm这样的大型尺寸的基板进行处理。从该大型的基板切断、分离成预设的各个基板片，以制作出搭载于一般图像接收设备上的基板。基板被从大型的状态切断、分离时，为了其管理与制造工序的管理，利用激光束等预先在分离前的基板上进行曝光，从而在各基板片上形成文字、记号、图形或者是由其组合而形成的识别记号、判断分离位置用的切断位置识别码、或者是对准标记等(以下称为识别标记)。此外，在基板上，在图案区域的周围，即周边区域存在着不需要的光阻剂墨液(photoresist ink)，由于该光阻剂墨液会成为后续工序的障碍，所以必须要预先使其曝光。在包含不需要的光阻剂墨液的周边区域中，需要如上所述显示识别标记，该周边区域被设定成预定宽度。然后，在该周边区域中形成识别标记的位置不仅配置于周边区域的中央部，也可以在图案区域附近的某个地方，或是在基板的蚀刻侧的某部分，或者是在相反侧的图案区域的附近。基板在其图案区域被曝光后，借助于周边曝光装置而曝光，以便通过对周边区域进行曝光来除去不需要的光阻剂墨液，从而在切断、分离成各基板片时易于处理(例如参照专利文献1、2)。而且，在基板的制造工序中，制造生产线上存在有对图案区域进行曝光的曝光装置、对周边区域的光阻剂墨液进行曝光的周边曝光装置、对识别标记进行曝光(显示)的曝光装置等各种曝光装置，一般，进行如下工序首先，由曝光装置对图案区域进行曝光；然后，利用激光照射曝光装置在基板的周边区域照射激光，从而标记出(曝光)识别标记；接着，利用周边曝光装置对基板的周边区域照射包含预定波长的紫外线的光，以进行曝光。通过激光的照射而标记出识别标记的曝光装置，作为一个例子，进行如下的动作。即，针对要标记出形成于基板的周边区域的识别标记的地方，从配置于载置基板的台座的上方的曝光单元输出激光束。然后，以使载置基板的台座与曝光单元相对移动的方式，在直线方向和与该直线方向正交的正交方向上依时间顺序依次扫瞄，同时，使照射位置在相对移动方向上错开，从而使基板上的照射点在成为直角坐标的平面上形成排列以标记出识别标记(例如，参照专利文献3)。该识别标记的形成方法(显示方法)，由于利用激光束的点曝光形成在总是与激光束位于相对的位置的涂布了光阻剂墨液的基板上，所述识别标记被标记在预定的宽度中，所以在与台座直线移动方向正交的正交方向上，经常一边用微小的激光束进行扫瞄一边曝光识别标记。此外，还有一种这样的曝光装置被公开光源用于使基板的周边区域的不需要的光阻剂墨液曝光，该光源具有通过使光导的射出端的倍率变化而改变曝光光的形状的结构(例如参照专利文献4)。在该曝光装置中，在调节的过程中，采用使投影激光束所成的像的大小产生变化的方式，通过使局部投影的光路扩大或缩小来控制从光导射出的光的宽度，因此所照射的曝光光束具有关于光路中心对称地放大或缩小的宽度。另外，还提出一种这样的曝光装置，其中周边曝光单元被设置于设在基板上方的固定导轨或移动导轨的至少一方的导轨上(例如参照专利文献5)。专利文献1日本特许第2910867号公报；专利文献2日本特许第3418656号公报； 专利文献3日本特许第3547418号公报；专利文献4日本特许第3175059号公报；专利文献5日本特许第3091460号公报。然而，在以往的周边曝光装置或识别标记的曝光装置中，存在以下所示的问题。(1)在对基板进行曝光的制造工序中，由于伴随基板尺寸的大型化，制造生产线变长，所以希望将以往那样的识别标记的曝光装置和对周边区域进行曝光的周边曝光装置从分开的结构而一体化，从而缩短制造生产线。但是，在各自的曝光装置中，在进行基板的校准作业时，由于对绝对位置进行定位，所以各自的校准作业的基准不同而无法简单地使结构一体化。(2)而且，在连续进行识别标记的曝光处理和周边区域的曝光处理时，基板的移动速度会影响到任一曝光工序的曝光速度。此时，光阻剂墨液由于被调节为在特定的紫外线的波长附近感光度高，所以相对于以恒定速度移动的基板，与紫外线的波长相比，激光束的能量低，而且以恒定照度照射，因此，在对周边区域的光阻剂墨液进行曝光的范围较宽的情况下，照射的紫外线的光量有可能过强，从而有可能过度曝光，这些问题需要解决。(3)在对周边区域的识别标记进行曝光后，对周边区域的光阻剂墨液进行曝光时，曝光装置为了防止双重曝光而必须将识别标记的一部分遮蔽。要对该识别标记曝光后的周边区域进行遮光，其应遮光的宽度与应遮光的位置必须随时变化。但是，如专利文献4那样，照射的曝光光线当相对于光路的中心对称地扩大或缩小时，在无法对应于识别标记位于从周边区域的中央偏向图案区域侧的位置的情况下，会产生不得不相对于台座的移动方向偏移而进行曝光的情况，因此希望进行改善。(4)并且，在专利文献5的曝光装置中，基板的宽度必须对应为例如从500mm至2460mm，在该情况下，如果在基板的上方设置移动轨道等，光源单元等会移动较长距离，有可能成为异物落到基板上、基板表面污染的原因。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题点而完成的，其课题在于提供一种，该可将进行激光束的照射的单元与进行周边区域紫外线的照射的单元设置于一个曝光装置中。并且，可对应于在周边区域的任何位置上形成识别标记，而且，使污染基板表面的原因达到最小限度。为了解决上述课题，第一方面的周边曝光装置具有紫外线照射单元，其在移动路径上，从照射口经由照射用透镜将包含紫外线的光照射至基板的周边区域；以及照射区域调节遮板机构，其根据基板的移动速度，以遮盖照射口的至少一部分而对识别标记进行遮光的方式进行控制。对于这样构成的本装置，利用照射区域调节遮板机构对形成有第一识别标记的区域进行遮光，从而对周边区域进行曝光。即，通过照射区域调节遮板机构，可防止对第一识别标记进行双重曝光。而且，可连续地进行基于激光束的识别标记的曝光和基于包含预定波长的紫外线的光的周边区域的曝光。在连续进行曝光时，控制机构根据移动搬运机构曝光时的移动速度，来控制激光束的扫描速度或周边曝光的照射面积。并且，在第二方面的周边曝光装置中，照射区域调节遮板机构具有第一识别标记遮蔽板，其包括对第一识别标记进行遮光的遮蔽部；第一识别标记遮蔽板用的移动装置，其使得该第一识别标记遮蔽板以横穿过照射口的方式，与基板的移动速度同步地移动；图案区域遮蔽板，其对与基板的图案区域对应的位置进行遮光；以及图案区域遮蔽板用的移动装置，其使该图案区域遮蔽板对应于基板的周边区域的宽度而在对照射口进行遮光的方向上移动。对于这样构成的本装置，当基板移动时，第一识别标记遮蔽板与基板的移动速度同步地移动至照射口。此时，在不使用图案区域遮蔽板的情况下，处于使图案区域遮蔽板移动至不对照射口进行遮光的位置的状态。在使用图案区域遮蔽板的情况下，使图案区域遮蔽板移动至对照射口进行遮光的位置上。而且，移动装置在第一识别标记遮蔽板横穿过照射口之后，使第一识别标记遮蔽板以高速再本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种周边曝光装置，该周边曝光装置使在形成于图案区域周围的周边区域上绘有第一识别标记的基板沿移动路径移动，对上述周边区域照射包含紫外线的光来进行曝光，其特征在于，该周边曝光装置具有：紫外线照射单元，其在上述移动路径上，从照射口经由照射 用透镜将包含紫外线的光照射至上述基板的周边区域；以及照射区域调节遮板机构，其根据上述基板的移动速度，以遮盖上述照射口的至少一部分而对上述第一识别标记进行遮光的方式进行控制。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：剑持晴康，佐藤博明，池田泰人，森昌人，
申请(专利权)人：株式会社ORC制作所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]