一种辐射敏感组合物，包含可自由基聚合的组份和当曝光于成像辐射时能够产生足以引发可自由基聚合组份聚合的自由基的碘鎓硼酸盐引发剂组合物。该碘鎓硼酸盐引发剂组合物包含具有有机取代基的特定的二芳基碘鎓硼酸盐化合物，以在碘鎓阳离子苯环上提供总数至少为６个的碳原子。此组合物可以涂覆于合适的基材上以提供负性可成像元件，该元件具有提高的数字速度和良好的保存寿命，并可以被成像以提供平板印刷板。所述成像元件可使用碱性显影剂联机或脱机显影。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及负性(negative-working)辐射敏感的组合物及成像元件， 例如负性的印刷平版印刷板前体，其具有提高的成像速度和良好的保存 寿命。这些可成像元件可在碱性显影剂中"脱机(off-press)"或使用印 刷溶液"联机(on-press)，，显影。本专利技术还涉及使用这些成像元件的方法。
技术介绍
在包括平版印刷板前体的成像材料的制备中，通常使用辐射敏感组 合物。这类组合物一般包含辐射敏感组份、可自由基聚合组份、引发剂 体系和粘结剂，其每一项已成为研究的焦点以提供在物理性能、成像性 能和图像特性上的各种进步。在印刷板前体领域的最近的发展涉及辐射敏感组合物的使用，所述 辐射敏感组合物可以使用激光或激光二极管成像，更特别地，可以联机 成像和/或显影。由于激光可以由电脑直接控制，激光照射并不需要传统 的卣化银印刷制版胶片作为中间信息载体(或"掩膜")。用于可商购的 图像集成机(image-setter)的高性能的激光器或激光二极管通常放射出 具有至少700 nm波长的辐射，因此，需要辐射敏感组合物在电磁波谱 的近红外或红外区域是敏感的。但是，为使用紫外线或可见辐射成像， 设计了其它有用的辐射敏感组合物。有两种使用用于制备印刷板的辐射敏感组合物的可能方式。对于负 性印刷板，辐射敏感组合物的曝光区域被硬化，而未曝光区域在显影过 程中被洗掉。对于正性印刷板，曝光区域在显影剂中溶解而未曝光区域 成为图像。各种负性的辐射组合物和包含反应性聚合物粘结剂的可成像元件 在本领域是已知的。例如，在美国专利6,569,603 ( Fumkawa ), 6,309,792 (Hauck等),6,582,882 ( Pappas等),6,893,797 ( Munnelly等), 6,787,281 (Tao等)和6,899,994 (Huang等)，美国专利申请出版物 2003/0118939 ( West等)，和EP 1，079,276A1 ( Lifka等)，EP 1, 182,033 Al (Fujimaki等)，和EP 1,449,650 Al (Goto)中描述了部分这些组合物和元件。一些负性组合物及可成像元件包含碘镥盐，包括如在例如共同待审和共同转让的U.S.S.Ns.ll/138,026(Knight等于2005年5月26日提交)、 11/356,518(Tao等于2006年2月17日提交)和11/349,376(Tao等于2006 年2月7日提交)中所描述的在引发剂组合物中的碘输硼酸盐。待解决的问题本领域的各种辐射敏感组合物可以很容易地用来制备负性可成像 元件，包括包含碘输硼酸盐作为聚合引发剂的那些。但是，在一些直接 热成像的配制剂中，二芳基碘镥四苯基硼酸盐(diaryliodonium tetraphenylborates )的使用，会导致在用于模拟老化的保持测试(keeping tests )期间在成像表面结晶("起霜，，)。此结果是保存寿命不稳定的指 征。人们需要解决这一保存寿命贮藏问题，而并不带来任何数字成像速 度的损失。本专利技术提供了辐射敏感组合物，包含 可自由基聚合的组份，当曝光于成像辐射时，能够产生足以引发可自由基聚合组份聚合的 自由基的碘條硼酸盐引发剂组合物， 辐射吸收4t合物，和 聚合物粘结剂，其中，碘镭硼酸盐引发剂组合物包含由以下结构(I)表示的二芳基 石典镭硼酸盐化合物其中X和Y独立地是卣素、烷基、烷氧基、芳基或环烷基基团，或两 个或两个以上相邻的X或Y基团可以结合以形成具有各自的苯环的稠 环，p和q独立地是0或1至5的整数，条件是p或q至少是1且在X 和Y取代基中或稠环中的碳原子的总数至少是6 ，和专利技术概述Z—是由以下结构(II)表示的有机阴离子:其中，Ri、 R2、 Rs和R4独立地是烷基、芳基、烯基、炔基、环烷基或 杂环基基团，或两个或两个以上的R" R2、 Rg和R4可以结合起来以形 成具有硼原子的杂环。本专利技术还提供了 一种可成像元件，所述元件包括在其上具有可成像 层的基材，该可成像层包含可自由基聚合的组份，当曝光于成像辐射时，能够产生足以引发可自由基聚合组份聚合的 自由基的碘镥硼酸盐引发剂组合物， 辐射吸收^fc合物，和 聚合物粘结剂，其中，碘镥硼酸盐引发剂组合物包含如以上结构(I)所定义的二芳 基碘镥硼酸盐化合物。另外，制备可成像元件的方法包括A) 成影像曝光包含在其上具有可成像层的基材的负性可成像元 件，该可成像层包含可自由基聚合的组份，当曝光于成像辐射时，能够产生足以引发可自由基聚合组份聚合的 自由基的碘镜硼酸盐引发剂组合物， 辐射吸收化合物，和 聚合物粘结剂，其中，碘镒硼酸盐引发剂组合物包含如以上结构(I)所定义的二芳 基硪镰硼酸盐化合物，和B) 在没有预加热步骤下，将成影像曝光的元件显影以仅去除可成 像层的未曝光区域。此方法提供的成像元件作为平版印刷板是尤其有用的。在本专利技术的 部分实施方案中，所得的成像元件是联机可显影的。再者，本专利技术提供了制备可成像元件的方法，包括9A)通过在合适的溶剂中将二芳基碘镥硼酸盐化合物与以下相混合而形成可成像层配制剂可自由基聚合的组份， 辐射吸收化合物，和聚合物粘结剂，其中，二芳基碘镥硼酸盐化合物由以下结构(I)表示其中X和Y独立地是卣素、烷基、烷氧基或环烷基基团，或两个或两 个以上相邻的X或Y基团可以结合以形成具有各自的苯环的稠环，p和 q独立地是O或1至5的整数，条件是p或q至少是1且在X和Y取代 基中或稠环中的碳原子的总数至少是6，和 Z-是由以下结构(II)表示的有机阴离子其中，R" R2、 R3和R4独立地是烷基、芳基、烯基、炔基、环烷基或 杂环基基团，或两个或两个以上R4、 R2、 113和R4可以结合起来以形成 具有硼原子的杂环，和B)将可成像层配制剂涂覆至基材。我们已经发现，经使用在此所述的注明的碘镥硼酸盐引发剂组合 物，解决了结晶问题且热成像(数字)速度出乎预料地提高了。特定的 碘條硼酸盐化合物包含在碘镜阳离子的苯环上的足够的有机取代基以 提供至少6个碳原子。但是，尽管不受限于用于本专利技术的任何特定机理， 可以认为，特定类型的取代基提高了该化合物在有机涂层溶剂例如曱乙 酮和正丙醇中的溶解度。专利技术详述定义当术语"辐射敏感组合物"、"可成像元件"和"印刷板前体"在本文中 使用时，除非上下文另外指出，是指引用于本专利技术的实施方案。另夕卜，在本文所述的各组份例如"可自由基聚合组份"、"辐射吸收化 合物"、"二芳基碘锱硼酸盐化合物"、"聚合物粘结剂"、"主要添加剂"和类似术语也指这些组份的混合物。因此，使用冠词"a"、 "an"和"the" 并不必然意味着是仅指单个组份。而且，除非另外指出，百分比是指干重百分比。为阐明涉及聚合物的任何术语的定义，应参考"Glossary of Basic Terms in Polymer Science"由the International Union of Pure and Applied Chemistry ("IUPAC")出版，Pure Appl. Chem. 68, 2287-2311 (1996)。但是， 在本文中明确地阐明的任何定义应祐j见为对照(controlli本文档来自技高网...
【技术保护点】
辐射敏感组合物，包含： 可自由基聚合的组份， 当曝光于成像辐射时，能够产生足以引发所述可自由基聚合组份聚合的自由基的碘鎓硼酸盐引发剂组合物， 辐射吸收化合物，和 聚合物粘结剂， 其中，所述碘鎓硼酸盐引发剂组合物 包含由以下结构（Ⅰ）表示的二芳基碘鎓硼酸盐化合物： ＊＊＊ （Ⅰ） 其中Ｘ和Ｙ独立地是卤素、烷基、烷氧基或环烷基基团，或两个或两个以上相邻的Ｘ或Ｙ基团可以结合以形成具有各自的苯环的稠环，ｐ和ｑ独立地是０或１至５的整数，条件是ｐ 或ｑ至少是１且在Ｘ和Ｙ取代基或稠环中的碳原子的总数至少是６，和 Ｚ－是由以下结构（Ⅱ）表示的有机阴离子： ＊＊＊ （Ⅱ） 其中，Ｒ↓［１］、Ｒ↓［２］、Ｒ↓［３］和Ｒ↓［４］独立地是烷基、芳基、烯基、炔基、环烷基或杂环基 基团，或两个或两个以上的Ｒ↓［１］、Ｒ↓［２］、Ｒ↓［３］和Ｒ↓［４］可以结合起来以形成具有硼原子的杂环。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：T陶，SA贝克利，
申请(专利权)人：伊斯曼柯达公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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