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用于一步法印刷板的表面涂层制造技术

技术编号:2750720 阅读:172 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
揭示一种具有表面涂层所形成的光敏制品的“不需加工”的印刷板。该表面涂层可以是一种水溶性或可分散性的聚合物,溶胶,盐或其混合物。该保护性表面涂层可提供“不需加工”的印刷板,在操作期间免受污染护,以及在成象期间气味抑制的改进和提高压印时总的性能。该亲水性保护表面涂层在墨水和油墨的作用下在压印时被去除。(*该技术在2015年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在光敏印刷板上的保护层,所形成的结构在压印前不必经过显影,同时涉及一种可成象制品的使用方法。平板印刷方法通常使用至少二个步骤制备用于压印的板,将涂有光敏组合物的板对正或负信息光源曝光产生一种光象;接着再进行显影步骤。具有代表性的显影,包括洗去在正性作用系统中的板的曝光部分或在负性作用系统中板的未曝光部分的物质。显影系借助于一种强碱性(如pH13或更高)和可能含有机溶剂的显影液来完成。另外,为了光象的有效显影,常常要采用加热步骤。上述显影过程的缺点在于相当费时,由于显影废液流出引起环境上的不安全,而且常常很贵。另外当采用挥发性有机显影液或强碱性显影液时,对它们的处理也存在特别困难的环境问题。工业上一直需要一种可用于显影工艺中的没有上述缺点的光敏组合物。在以前已有许多不同物质用在光敏组合物中。光敏组合物,采用带有酸性敏感部分的聚合物已揭示在已知技术(Ito,H.,Ueda,M.Macromolecules 1988,21,1475-82)中;美国专利3,849,137(1974.11.19,Barzynski)揭示了邻-硝基苄基取代的聚丙烯酸酯;在(Ito,H.,Willson,C.G.Pro SPIE-Int.Soc.Opt.Eng,1987,771,24;)和美国专利4,491,628(1985.1.1;Ito)中也报导了叔-丁基取代的聚丙烯酸酯类。美国专利4,963,463(Koshiba等)要求保护一种碱溶性树脂、邻醌二叠氮化合物(diazide)和硝基苄基或氰基苄基醇的酸敏感的酯组成的辐照敏感树脂组合物。端封的聚邻苯二醛与一种用作光生酸来源的鎓盐结合,已用在成象系统中。(Ito,H.,Willson,C.G.Polym.Eng,Sci,1985,23,1013)基于聚碳酸酯在光生酸的存在下热降解的感光耐蚀膜也已揭示在(Frechet,J.M.J;Bouchard,F;Houlihan,f.M.;Kryezka,B.,Eichler,E;Clecak,N;willson,C.G.J.Imag,Sci,1986,30,59)。两者的系统是通过聚合物骨架的开裂起作用的。加拿大专利672,947(加拿大工业有限公司)揭示了一种四氢吡喃-2-基丙烯酸酯和丙烯酸酯的缩水甘油醚共聚物的保护膜。这些膜通过热加工有效地裂解四氢吡喃-2-基团和接着导致羧酸和环氧基的交联。在日本公开的专利申请号59-075244(1984.4.27.Hitachi Ltd)和58-068743(1983.4.21,Hifachi Ltd)中,揭示了丙烯酸的苄基、二苯甲基和三苯甲基酯通过采用高能辐射源(如,电子束,X-射线或离子束)成象,接着用碱性溶液显影。将甲基丙烯酸二甲基苄基酯与碘鎓盐结合作为加深UV光刻板已在(Ito,H.,Poly Mater,Su,Eng,1989,60,142)中采用。在(Ito,H.,Ueda,M.,Ebina,M.Acs Symp,Ser,1984,266,57—73)中揭示了已光成象的α-取代的甲基丙烯酸苄基酯聚合物以及用碱性显影剂显影。日本公开一专利申请号63-256492(1988.10.24)(Fuji PhotoFilm Co.,Ltd)和63-317388(1988.12.26)(fuji Photo Film Co.,Ltd)描述了几种直接成象的平板印刷配方,它采用具有侧链基团的聚合物,以下接着进行浸蚀显影步骤,断裂形成羟基和羧基。日本公开的专利申请号53-094691(1989.10.24 Fuji PhotoFilm)和53-100192(1989.10.30,Fuji Photo Film)揭示了包括具有某些烷氧烷基酯的酸不稳定基团的聚合物的平板印刷板。同时该板包含与羧酸残基在它们形成时达到交联的交联剂。这些版看来是作用于负色调,并可以包括一种显影步骤。日本公开专利申请号62-299,313(1989.6.1,MatsushitaElecfric Lndustrial)揭示了含酸酐残留物的聚合物与邻硝基苄基羧酸酯结合在一起的用途。这些聚合物酸对紫外光敏感。美国专利4,072,527和3,458,311所代表的一类专利,揭示了非光敏面层作为氧阻挡层的用途,尤其是在光敏印刷板上含有丙烯酰基(和甲基丙烯酸基)所形成的制品,氧阻挡层是可被水除去,以及印刷板在冲洗显影期间被除去。美国专利5,258,263揭示一种“不需加工”的印刷板,(即在压印前不需用液体显影的光敏制品)。该制品在基材上具有二层光敏层。光硬化层是一种亲水性光硬化层涂覆在一种疏水性光硬化层上作为面涂层。面涂层是光敏性的(照射时硬化,改变了显影加工时的可去除性)和非曝光区域通过显影冲洗除去。美国专利5,102,771和5,225,316揭示一种光敏组合物,包括a)在曝光时产生酸的光引发剂,以及b),聚合物骨架上悬挂有不稳定酸基团的聚合物,所述的悬挂基团由下式表示 式中R1和R2每一个为H或1至18个碳原子的烷基,条件是R1和R2是H;R3为1至18个碳原子的烷基;或R1,R2和R3任意二个可以在一起形成一个取代的或非取代的3至36个碳原子的环;以及T代表二价连结基团键合含有一种共价键或1至18个碳原子的聚合物骨架,其中每三个碳原子中的一个可以被氧氮或硫原子或其结合的原子所取代。作用可成象制品的这些组合物,包括一基材涂有上述的光敏组合物。这些制品,用于可成象的制品的工艺中经照射以及然后直接放在压印机用作印刷板而不需要液体冲洗显影。一种可以形成不需加工处理的印刷板的光敏制品,它包括一基材的至少一面上,具有光敏组合物,经曝光或压印后,其亲水性或多或少大于未曝光过的组合物,以及在光敏组合物上面,本质上是一层非光敏亲水性保护层。该亲水性的、非光敏层曝光后保留在光敏层表面上并通过贮墨器、油墨和/或压印机的作用在成象板进行压印时被除去。本专利技术的“不需加工”的制品的定义为一种可被辐照曝光的光敏元件,可选择性地放上墨水溶液,并置于压印机上涂墨和进行压印,而不必预先进行液体显影步骤,而从该光敏层去除曝光过的或非曝光过的区域。在一个具体例子中,本专利技术的方法包括一种成象制品(例如,印刷板的形成,它通过1)不需加工的可成象制品(如在此次所揭示的),该制品在光敏组合物上具有一层亲水性保护层经辐照曝光(如,在可成象制品中的光引发剂或敏化的光引发剂的吸收范围内)形成带有潜影的制品以及然后进行压印,2)对带有潜影的制品可选择地施以墨水溶液,3)对带有潜影的制品施用油墨,由于步骤2)和3)进行时,所述的亲水性保护层存在于所述的制品上,由此形成一种成象的制品。一种可变换的上述方法,包括带有潜影的制品与染料接触以代替油墨形成一种成象的制品。在另一具体实例子中,本专利技术的方法包括成象制品(如印刷板的形成,它通过1)将在光敏组合物上具有亲水性保护层的不需加工的可成象制品(如在此所揭示的)曝光于辐照(即,在可成象制品中的光引发剂的吸收范围内)以形成带有潜影的制品,以及然后压印,2)对带有潜影制品施用含墨水和油墨的乳浊液,步骤(2)所述的亲水性保护层存在于所述制品的上面,由此形成一种成象的制品。本专利技术的光敏印刷板制品,在基材上可采用任何一种光敏组本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光敏制品,其特征在于包括基材的至少一面上具有光敏组合物,该面曝光后或压印后的表面区域在某一个区域亲水性较大而在另一区域亲水性较小,所述的某一区域和另一区域的差别在于曝光或不曝光所致,以及在所述光敏组合物上具有亲水性的非光敏保护层,所述的保护层与水的接触角小于光敏层与水的接触角。2.如权利要求1所述的制品,其特征在于所述的保护层与水的接触角小于47°。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:詹姆斯P加德纳Jr理查德A约翰逊伦纳德J斯图克旦尼斯E沃格尔
申请(专利权)人:美国三M公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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