相移波纹聚焦监视器制造技术

一种光学监视器，其是包括一本体，该本体具有第一复数条平行、实质上不透明且彼此间具有间隙而相分离的线，以及第二复数条平行、实质上不透明且彼此间具有间隙而相分离的线，且介于该第一复数条线与第二复数条线的间具有相对小的角度。当第一复数条线的影像提供于该半导体本体上时，依据该监视器朝向或离开该半导体本体相对的移动，该线影像相应的移动至该半导体本体。第二复数条线的影像提供于该半导体本体上时，依据该监视器朝向或离开该半导体本体以不同的方式相对的移动。于分析前述移动的期间，由该第一与第二复数条线的影像于该半导体本体上形成波纹边缘，藉以实现于该半导体本体上适当的影像聚焦。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种半导体
的光学装置，更详而言的，是有关于一种用于将半导体晶圆上的影像聚焦的测试监视器。
技术介绍
典型地，用于图案化于半导体晶圆34上的光阻层32的光学系统30(请参阅第1图)，是包含光源36、具有不透明线40与透明部分42的屏蔽或标线38以及镜头44。藉由利用该不透明线40与屏蔽/标线38阻挡欲到达该镜头44(与光阻层32)的光线的方式，使来自该光源36的光线透过该镜头44通过该屏蔽/标线38的透明部分42至该光阻层32。众所周知者，是必须将该晶圆34定位在与该镜头44相关的适当距离，据此落至该晶圆34的光阻层32上的影像将会在最佳聚焦的平面上。通常，习知的半导体装置的实际制程中，测试聚焦监视器是透过例如以标线作为整体系统的一部分的形式藉以实现于该晶圆上的影像适当的聚焦。前述例示的监视器是揭露于SPIE在2001年2月27日所发行由Hiroshi Nomura所提出的“用以测量像差的新像移栅栏”报告中，于此该报告将结合于本说明书中一并参考。第2至4图是用以显示与该报告中第3与5图相同的监视器50配置。该监视器50是由石英材料52所制成者，该石英材料52具有透光的特性，且该监视器50于该石英材料52上复具有复数条平行、不透明且间隔成彼此相分离的线54，该线54具有第一组邻接的端点55以及相对的第二组邻接的端点56。介于每一对相邻接的线54的间的区域是透明的且形成在不改变相位的情况下可令该光线穿透的区域58，而区域60则藉由将该光线的相位位移90度以令该光线穿透(该相移是由该凹部62所致生者，请参阅第3与4图以及前述的报告内容)。该线54中的每一条线具有区域58以及区域60，该些区域是于其本身的侧边上沿着该侧边予以校准，此外，区域58以及区域60复于其本身的另一侧边上沿着该侧边予以校准。该线54中的每一条线于其本身的一侧边上具有区域58而于另一侧边上则具有相对的区域60。该些区域58与60由该线的端点55移动至邻接于该些区域中间之处，此外，该线54中的每一条线于其本身相对另一侧边上所具有的区域58的一侧边上具有区域60，该些区域58与60由该端点56移动至邻接于该些区域中间之处。第3与4图是用以显示相同于第1图的视点，但结合第2图所示的监视器50以作为该系统30的一部分。第3图包括该监视器50依据第2图的线3-3所形成的断面图，用以显示该监视器50的上层区域50A的断面图，而第4图包括该监视器50依据第2图的线4-4所形成的断面图，用以显示该监视器50的下层区域50B的断面图。如图所示，参看该监视器50的上层区域50A(如第3图所示)，相对的移动该晶圆32以及镜头44相结合或相分离藉以于该晶圆34的光阻层32上形成该阴影64A、64B、64C(由该不透明线54所形成者)的位移(当该晶圆34与该镜头44相对移动的较为分离时向下移动)。同时，参看该监视器50的下层区域50B(如第4图所示)，相对的移动该晶圆34以及镜头44相结合或相分离藉以于该晶圆34的光阻层32上形成该阴影64D、64E、64F的位移(当该晶圆34与该镜头44相对移动的较为分离时向上移动)。第3与4图中的虚线是用以指示当该晶圆34相对的朝向该镜头44或离开该镜头44移动时该阴影64A、64B、64C、64D、64E、64F的通过路径。此些路径是绘制于第5图中，且该些路径的交叉部分是用以表示该晶圆34影像的最佳聚焦点。第6图包括第6A至6F图，第6A至6F图是沿着第3与4图中的线6A-6A、6B-6B、6C-6C、6D-6D、6E-6E、6F-6F。藉由该晶圆34以及镜头44于第3与4图中所式的相互接近，第6A与6D图用以显示同一时间透过该监视器50个别的区域50A与50B所决定的光阻层32上的阴影64A-64F。藉由该晶圆34与镜头44彼此相应的定位，该光阻层32是曝露于来自该光源36的光线下且该光阻层32接着显影以决定光阻线。光阻线是对应于该阴影64A-64F的位置。如图所示，第6A与6D图中的线是未校准的。当该晶圆34与该镜头36如第3与4图所示地相对移动的较为分离至中间位置，第6B与6E图用以显示同一时间透过该监视器50个别的区域50A与50B所决定的光阻层32上的阴影64A-64F。再次的，该光阻层32是曝露于来自该光源36的光线下且该光阻层32接着显影以决定光阻线。光阻线是对应于该阴影64A-64F的位置。如图所示，第6B与6E图中的线大致上是已校准的。接着，当该晶圆34与该镜头44如第3与4图所示地相对移动的较为分离(如移动到两者最远的距离)至中间位置，第6C与6F图用以显示同一时间透过该监视器50个别的区域50A与50B所决定的光阻层32上的阴影64A-64F。再次的，藉由该晶圆34与镜头44彼此相应的定位，该光阻层32是曝露于来自该光源36的光线下且该光阻层32接着显影以决定光阻线。光阻线是对应于该阴影64A-64F的位置。如图所示，第6A与6D图中的线是未校准的。如图所示的介于该镜头44与晶圆34间距离的改变导致该些阴影64A-64C与该64D-64F作进一步的校准或偏离的移动。伴随着每一次的调整顺着该光阻层32相应的曝光与显影，该镜头44与晶圆34更加接近或更加分离的相对移动，该移动将一再重复直至形成于该光阻层32上的线是成直线为止。此内容是揭露于前述报告的第6图中。因此，目前亟需一种透过镜头与晶圆间极小范围的相对移动即可提供晶圆上的影像适当的聚焦。
技术实现思路
本专利技术是提供一种光学装置，该光学装置是由第一复数条平行、实质上不透明且彼此间具有间隙而相分离的线，以及第二复数条平行、实质上不透明且彼此间具有间隙而相分离的线所组成，且介于该第一复数条线与第二复数条线的间具有相对小的角度。当第一复数条线的影像提供于该半导体本体上时，依据该半导体本体朝向或离开该光学装置相对的移动，该线影像相应的移动至该半导体本体。第二复数条线的影像提供于该半导体本体上时，依据该半导体本体朝向或离开该光学装置以不同于该第一复数条线影像的移动方式的方式相对的移动。于分析前述移动的期间，由该第一与第二复数条线的影像于该半导体本体上形成波纹边缘，藉以实现于该半导体本体上适当的影像聚焦。本专利技术的详细说明在结合所伴随的图式说明下将更容易予以理解。为使熟习该项技术者能藉由以下的详细说明更轻易的了解本专利技术，将透过显示实施本专利技术的最佳模式的方式简要的揭露与描述本专利技术的实施例。需了解者，是本专利技术可具有多种实施例且本专利技术的细节可予以等效的修改或变化，且均不脱本专利技术的范围。据此，该图式与细节描述将以种类而非限定的方式予以描述。图式简单说明本专利技术新颖的技术特征是界定于申请专利范围中。然而，本专利技术的内容、较佳的实施例以及本专利技术的其它目的与优点，将可透过结合参阅所伴随的图式以及实施例中详细的说明予以了解，其中第1图是用以显示典型的用于图案化半导体晶圆的光阻层的光学系统的正视图；第2图是用以显示习知测试焦距监视器的平面图；第3图是为光学系统的正视图，用以显示第2图中的测试聚焦监视器作用；第4图是相同于第3图的正视图，用以再次的显示第2图中的测试聚焦监视器作用；第5图是为一正视图，用以显示当第3与4图中的光学系统作用时该阴影落于该晶圆上的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学装置，其特征在于具有：光学装置本体；第一复数条形成于光学装置本体上实质上平行、不透明且彼此间具有间隙而相分离的线；以及第二复数条形成于光学装置本体上实质上平行、不透明且彼此间具有间隙而相分离的线，其中，且介于 该第一复数条线与第二复数条线的间具有９０度外的角度。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：B拉丰丹，J基，H利维森，
申请(专利权)人：先进微装置公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]