【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于从微电子基底清洁光致抗蚀剂和残留物的不含硅酸盐的清洁组合物，所述清洁组合物包含： 选自酰胺、砜、硒代砜和饱和醇的极性有机溶剂；和 强碱； 和任选的一种或多种以下组分： 酸、腐蚀抑制共溶剂、螯合剂或金属络合剂、氧化剂稳定剂、腐蚀抑制剂、金属腐蚀抑制剂、氟化物、表面活性剂和水。
【技术特征摘要】
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