彩色滤光片的制作方法技术

技术编号:2747548 阅读:147 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本案是指一种彩色滤光片(color  filter)的制作方法,包括下列步骤:提供一基板,并于该基板上形成一介电层;于该介电层上形成一第一光阻,并进行一第一曝光显影制程,使得该第一光阻成为多个第一画素;于该介电层上形成一第二光阻,并进行一第二曝光显影制程,使得该第二光阻成为多个第二画素,在该些第一画素和第二画素的交界处,该些第二画素重叠该些第一画素之上;于该介电层上形成一第三光阻,并进行一第三曝光显影制程,使得该第三光阻覆盖该介电层;以及以一轴体以滚动拉伸方式使得该第三光阻成为多个第三画素,并使得该些第一、第二、及第三画素具有一平坦表面。

【技术实现步骤摘要】

本案是指一种,尤指一种改良平坦化技术的。
技术介绍
随着制造技术的日益进展,液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)已经是一种被广泛应用的显示元件,其工作原理主要是利用电场来控制液晶分子的排列状态,藉由背光源产生的光线可通过液晶分子与否以达成萤幕上明暗的显示效果,特别是应用于液晶面板的彩色滤光片,其制程品质的良窳与否更密切地影响了液晶面板的效能及其给予消费者的观感。传统上制作彩色滤光片的程序,如图1所示,首先是于半导体硅基板101上形成一层透明且平坦化的氧化层102,之后,于氧化层102上覆盖一层蓝色光阻,经过一次曝光显影制程后,形成蓝色画素1031,之后覆盖一层绿色光阻,经过二次曝光显影制程,而每一次曝光的图案比例为25%,再进行显影制程形成绿色画素1032,接着,覆盖一层红色光阻,经过一次曝光显影制程后,形成红色画素1033,最后,再于各画素上形成一层透明且平坦化的氧化层104,以构成整个彩色滤光片100的结构。然而,这种传统制作方法却有以下二个问题(1)由于在制作不同颜色的画素时,容易因制程对不准而造成彩色滤光片100的不同颜色的画素间有重叠或遮蔽不完全、导致影像失真,而画素间的孔洞也会造成干涉现象的干扰,因此绿色画素1032的制备需经二次的曝光,增加了制作成本;以及(2)由于蓝色光阻、绿色光阻和红色光阻的涂布厚度会有差异,使得所形成的蓝色画素1031、绿色画素1032和红色画素1033的表面参差不齐,而导致不同颜色的画素有不同的光传播速度(photo-transmission rate),影响影像的品质。为了解决上述的二个问题,台湾专利公告00533589号提出了一种,其是于氧化层102上各以一次的曝光显影制程依序分别形成蓝色画素1031和红色画素1033之后,再以一回蚀刻制程使得被绿色光阻覆盖的蓝色画素1031和红色画素1033的表面显露出来,使得所形成的蓝色画素1031、红色素1033以及绿色画素1032具有均匀一致的厚度。然而,这种平坦化的制程的改善方法在各色素的厚度控制上仍有未臻理想之处,而且,虽然将绿色画素1032的制程减少了一道曝光显影制程,却在后制程增加了一道蚀刻制程,制造成本降低有限。职是之故,本创作鉴于习知技术的缺失,乃经悉心试验与研究,并一本锲而不舍的精神,终创作出本专利技术“”。以下为本专利技术的简要说明。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提供一种,是使用压延方法去除光阻的互相覆盖处,以达成平坦化的目的。根据本专利技术的一构想,提出一种,包括下列步骤提供一基板,并于该基板上形成一介电层;于该介电层上形成一第一光阻,并进行一第一曝光显影制程,使得该第一光阻成为多个第一画素;于该介电层上形成一第二光阻,并进行一第二曝光显影制程,使得该第二光阻成为多个第二画素,在该些第一画素和第二画素的交界处,该些第二画素重叠该些第一画素之上;于该介电层上形成一第三光阻,并进行一第三曝光显影制程,使得该第三光阻覆盖该介电层;以及以一轴体以滚动拉伸方式使得该第三光阻成为多个第三画素,并使得该些第一、第二、及第三画素具有一平坦表面。根据上述构想,其中该介电层的材质是为氧化硅。根据上述构想,其中该第一光阻是为蓝色光阻,该第一画素是为蓝色画素,该第二光阻是为红色光阻,该第二画素是为红色画素,该第三光阻是为绿色光阻,该第三画素是为绿色画素。根据上述构想,其中该蓝色、红色、及绿色光阻皆是为负光阻。根据上述构想,其中该第一光阻是为红色光阻,该第一画素是为红色画素,该第二光阻是为蓝色光阻,该第二画素是为蓝色画素,该第三光阻是为绿色光阻,该第三画素是为绿色画素。根据上述构想,其中该蓝色、红色、及绿色光阻皆是为负光阻。根据上述构想,其中该轴体是为一辊。根据本专利技术的另外构想,提出一种,包括下列步骤提供一基板,并于该基板上形成一介电层;于该介电层上形成一第一光阻,并进行一第一曝光显影制程,使得该第一光阻成为多个第一画素;于该介电层上形成一第二光阻,并进行一第二曝光显影制程,使得该第二光阻成为多个第二画素,在该些第一画素和第二画素的交界处,该些第二画素重叠该些第一画素之上;于该介电层上形成一第三光阻,并进行一第三曝光显影制程,使得该第三光阻覆盖该介电层;以及以一压延方式使得该第三光阻成为多个第三画素,并使得该些第一、第二、及第三画素具有一平坦表面。根据上述构想,其中该介电层的材质是为氧化硅。根据上述构想,其中该第一光阻是为蓝色光阻,该第一画素是为蓝色画素,该第二光阻是为红色光阻,该第二画素是为红色画素,该第三光阻是为绿色光阻,该第三画素是为绿色画素。根据上述构想,其中该蓝色、红色、及绿色光阻皆是为负光阻。根据上述构想,其中该第一光阻是为红色光阻,该第一画素是为红色画素,该第二光阻是为蓝色光阻,该第二画素是为蓝色画素,该第三光阻是为绿色光阻,该第三画素是为绿色画素。根据上述构想,其中该蓝色、红色、及绿色光阻皆是为负光阻。根据上述构想,其中该压延方式是使用一压延机。附图说明本案得藉由下列图式及详细说明,俾得一更深入的了解图1传统的彩色滤光片的结构侧视图; 图2(a)至(e)本案一较佳实施例的流程图;以及图3(a)~(c)配合图2(a)至(e)中不同颜色画素之上视图。具体实施例方式请参阅图2(a)至(e),其为本案一较佳实施例的流程图。首先,先如图2(a)所示,于一半导体基板201上形成一层透明且平坦化的介电层202,再于介电层202上形成图案比例为25%的一颜色画素,例如蓝色画素2031。其形成方法是于介电层202上涂布一层蓝色光阻,其为一种蓝色染料(pigment)的负光阻,之后进行一次曝光制程和一次显影制程,使已曝光的区块硬化,以使此蓝色光阻转为许多块状的蓝色画素2031,如图3(a)所示。接着再如图2(b)所示,形成图案比例为25%的另一颜色画素,例如红色画素2032。其形成方法是于介电层202和蓝色画素2031上涂布一层红色光阻,此红色光阻为一种含红色染料的负光阻,所形成的厚度会较的前的蓝色光阻厚。然后,再进行一次曝光制程和一次显影制程,使已曝光的区块硬化,以使此红色光阻转为许多块状的红色画素2032,如图3(b)所示。其中在红色画素2032和蓝色画素2031的交界处,红色画素2032会部份重叠在蓝色画素2031上,以避免制程在容许误差范围内的对不准(misalignment)现象,而造成色彩失真。值得注意的是,本案的亦可以先形成红色画素2032,再形成蓝色画素2031。接着,再如图2(C)所示,形成图案比例为50%的绿色画素2033。其形成方法是于介电层202、蓝色画素2031和红色画素2032上涂布一层绿色光阻,此绿色光阻为一种含绿色染料的负光阻,所形成的厚度会较的前的红色光阻厚。然后再进行一次曝光制程和一次显影制程,以使绿色光阻覆盖整个介电层202,如图3(c)所示。最后进行的是压延制程,如图2(d)所示,其是利用一圆柱形的轴体(如图中的辊21)或是一压延机(图中未示出)以滚动拉伸的方式对蓝色画素2031、红色画素2032、以及绿色画素2033进行压延,以暴露出蓝色画素2031和红色画素2032的表面,形成如图2(e)所示的蓝色画素2031、红色画素2032、以及绿色画素2033本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种彩色滤光片(colorfilter)的制作方法,包括下列步骤:提供一基板,并于该基板上形成一介电层;于该介电层上形成一第一光阻,并进行一第一曝光显影制程,使得该第一光阻成为多个第一画素;于该介电层上形成一第二 光阻,并进行一第二曝光显影制程,使得该第二光阻成为多个第二画素,在该些第一画素和第二画素的交界处,该些第二画素重叠该些第一画素之上;于该介电层上形成一第三光阻,并进行一第三曝光显影制程,使得该第三光阻覆盖该介电层;以及以一轴 体以滚动拉伸方式使得该第三光阻成为多个第三画素,并使得该些第一、第二、及第三画素具有一平坦表面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈瑞玺
申请(专利权)人:华生科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]

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