【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于集成电路或印刷电路板制造中的对准技术，尤其涉及一种应。
技术介绍
将描绘在掩模上的电路图案，通过光学投影系统投影成像在涂有光刻胶等感光材料的曝光对象的表面上，之后通过后道刻蚀工艺在曝光对象上形成电路图案。它可被广泛地应用于各种领域，如集成电路和印刷电路板的制造。用投影曝光装置做曝光时，掩模与曝光对象的位置必须对准，通常掩模与曝光对象上均配置有对准位置用的标记，通过一定的位置对准系统和位置对准方法，建立起掩模与曝光对象之间的相对位置关系。目前用于投影曝光装置中的位置对准系统和位置对准方法很多，但由于其需要多套位置对准系统，且其中的照明系统和成像系统不能共用一套光学系统，因此其结构的复杂性不仅增加了装置的设计成本和装校难度，而且使位置对准过程变得复杂，增加位置对准的误差环节，最终影响对准精度。
技术实现思路
本专利技术需要解决的技术问题之一在于提供一种用于投影曝光装置中的位置对准系统，以实现掩模和曝光对象之间的精确位置对准。针对上述技术问题的技术方案为包括位置对准装置，用于建立掩模和曝光对象之间精确的相对位置关系，包括照明单元、标记摄影装置、标记照明成像...
【技术保护点】
一种用于投影曝光装置中的位置对准系统，包括 位置对准装置，用于建立掩模和曝光对象之间的相对位置关系，包括照明单元（１０）、标记摄影装置（１５）和标记照明成像光学单元（１７）； 曝光光源（２０），用于提供投影曝光装置的曝光光源； 标记图像处理单元（１６），用于对掩模标记、承片台基准标记及曝光对象标记在标记摄影装置中所成的像进行处理； 掩模（４０），描绘有电路图案的模版； 承版台（３０），用于支撑掩模； 曝光对象（６０），用于接收掩模上的电路图案通过光学投影系统所成的像； 承片台（７０），用于支撑曝光对象； 掩模标记（４２、４３）...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王鹏程，徐兵，陈勇辉，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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