温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种用于投影曝光装置中的位置对准系统以及对准方法，其特征在于：在掩模上设置有通光窗口，位置对准装置所反射出的光线可通过此通光窗口进入光学投影系统；对准过程包括标记摄影装置与承片台基准标记对准，掩模标记与标记摄影装置对准，曝光对象...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。