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用于激光照排的微机电加工光栅光阀阵列及其方法技术

技术编号:2745056 阅读:184 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种用于激光照排的微机电加工光栅光阀阵列及其方法。光栅光阀阵列包括硅基底,在硅基底上设有二氧化硅层,在二氧化硅层上等间隔平行设有固定光栅条和可移动光栅条,可移动光栅条为中间悬空的桥梁状,可移动光栅条两端固定在二氧化硅上。方法是采用硅作为基底,上面再生长一层二氧化硅和硅牺牲层。在牺牲层上生长氮化硅、单晶硅或多晶硅作悬臂梁,利用离子刻蚀工艺刻蚀氮化硅、单晶硅或多晶硅,再用化学腐蚀的方法,掏空牺牲层,最后蒸镀金属铝、铂金或金属银作为反射面兼上电极。本发明专利技术作为激光扫描控制器件应用于激光照排系统中。该器件能够实现在激光照排系统上多路并行扫描,大大的提高了激光照排机的打片速度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
激光照排机和激光直接制版机是印刷行业里用到的重要设备,目前国内的照排机大都是采用的第一代技术即声光调制器扫描技术,由于调制器的频率响应带宽的限制,扫描路数受到限制;同时,目前印刷行业正由激光照排机向直接制版机过渡,直接制版机中扫描的激光光强比较高,采用声光调制器技术现在无法满足直接制版即对光能量的要求,同时由于声光调制器响应带宽的限制,采用这种方案设计的照排机对于大幅面胶片输出需要非常长的时间。因此需要研究新的扫描原理使用更多路的扫描,提高扫描速度。采用光栅光阀(Grating Light Valve)作为激光扫描控制器件,由于光栅光阀是由一个个单元组成的,采用微细加工技术可以很容易得到多个单元的阵列,采用这种方法可以达到几百路同时扫描,大大提高速度,而且可以满足直接制版机上对扫描光强的需要。
技术实现思路
本专利技术是为了解决激光照排系统中扫描速度慢和扫描精度低的问题而提出一种。用于激光照排的微机电加工光栅光阀阵列包括硅基底,在硅基底上设有二氧化硅层,在二氧化硅层上等间隔平行设有固定光栅条和可移动光栅条,可移动光栅条为中间悬空的桥梁状,可移动光栅条两本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于激光照排的微机电加工光栅光阀阵列,其特征在于包括硅基底(1),在硅基底(1)上设有二氧化硅层(2),在二氧化硅层(2)上等间隔平行设有固定光栅条(3)和可移动光栅条(4),可移动光栅条(4)为中间悬空的桥梁状,可移动光栅条两端固定在二氧化硅(2)上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张巍侯昌伦杨国光
申请(专利权)人:浙江大学
类型:发明
国别省市:86[中国|杭州]

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