单孔形标记对准信号处理方法技术

本发明专利技术提供一种单孔形标记对准信号处理方法，过对单孔形标记的对准扫描形成的平顶波形进行卷积滤波处理，对光信息随扫描位置变化的非对称性波形进行非对称模型校正处理，以及对可能出现的旁瓣进行旁瓣滤波处理，减小逼近处理的误差，大幅提高对准精度和捕获精度，提高了单孔形标记的对准扫描状态的适应性，进而提高了对准系统进行对准扫描的效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻设备的对准方法，特别涉及光刻设备的单孔形标记对准方法。
技术介绍
在工业装置中，由于高精度和高产能的需要，分布着大量高速实时测量、 信号采样、数据采集、数据交换和通信传输等的探测装置和控制系统。这些系 统需要我们采用多种方式实现探测、信号釆样控制、数据采集控制、数据交换控制和数据传输通信等的控制。有该探测和控制需求的装置包括集成电路制 造光刻设备、平板显示面板光刻设备、MEMS/MOEMS光刻设备、先进封装光 刻设备、印刷电路板光刻设备、印刷电路板加工装置以及印刷电路板器件贴装 装置等。光刻设备是一种将所需图案应用于工件上的装置。通常是将所需图案应用 于工件上的目标部分上的装置。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造。 在这种情况下，构图部件可用于生产在IC一个单独层上形成的电路图案。该图 案可以传递到工件(如硅晶片)的目标部分(例如包括一部分， 一个或者多个 管芯)上。通常是通过成图案到工件上提供的一层辐射敏感材料(抗蚀剂)上 来按比例复制所需图案。已知的光刻设备还包括所谓扫描器，运用辐射光束沿 给定的方向("扫描"方向)扫描所属图案，并同时沿与该方向平行或本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单孔形标记对准信号处理方法，用于光刻设备的对准系统中，所述对准系统包括：目标构图部件、探测构图部件、置于目标构图部件上的单孔形标记、探测构图部件上的单孔形标记及其下面的探测装置、目标构图部件运动台及其位置测量装置、探测构图部件运动台及其位置测量装置、置于目标构图部件和探测构图部件之间的投影系统以及对准信号处理装置，其特征在于，所述方法包括以下步骤：（１）启动单孔形标记的对准扫描；（２）同步采集位置数据和光信息数据，对采集得到的位置数据进行空间变换，对采集到 的光信息数据进行暗电流过滤和卷积滤波，并进行采样计数；（３）判断是否达到了所需的采样点总数，若达到了则进...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李焕炀，宋海军，陈勇辉，严天宏，周畅，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]