一种中透低反可钢化双银LOW-E玻璃制造技术

本实用新型专利技术提供了一种中透低反可钢化双银LOW

【技术实现步骤摘要】
一种中透低反可钢化双银LOW-E玻璃


[0001]本技术属于磁控溅射镀膜
，具体涉及一种中透低反可钢化双银LOW-E玻璃。

技术介绍

[0002]作为一种优良的建筑材料，玻璃由于其良好的通透性，具有透光、防紫外线及防风雪的功能，被广泛应用于建筑上。随着现代科技水平的发展，玻璃被赋予各种新的内涵，其中low-E玻璃以其美观大方的颜色、较好的质感以及优良的节能特性，在建筑幕墙领域已受到广泛应用。Low-E玻璃又称低辐射玻璃，常使用磁控溅射法在玻璃基片表面沉积出纳米膜层，进而改变玻璃的光学、电学、机械和化学等方面的性能，达到装饰、节能、环保等目的。
[0003]作为节能建筑材料，low-E玻璃的节能特性与普通玻璃及热反射镀膜玻璃相比，Low-E玻璃对远红外辐射具有极高的反射率。在有效减少室内外的热传递的作用下，保持室内温度稳定，减少建筑加热或制冷的能耗，起到了非常优秀的节能降耗作用。其中可钢膜系由于适于大面积生产，具备目前最高效的生产流程，可以进行后续切、磨、钢夹、等工艺加工，因此广受关注，成为未来low-E玻璃发展的大趋势。随着节能理念的倡导，各项鼓励节能环保的政策出台，LOW-E玻璃作为建筑节能产品，市场竞争愈发激烈，如何研发出新材料的LOW-E产品并达到良好的性能，从而满足客户需求是玻璃深加工企业提高竞争力的关键。现有技术的缺点：
[0004]1)现有可钢透过a型范围较广，透过色偏绿；
[0005]2)现有可钢化大板厚度小。

技术实现思路

[0006]本技术的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种中透低反可钢化双银LOW-E玻璃及制备方法，本技术所要解决的技术问题是如何通过镀膜层的设计，改善可钢化产品透过色偏绿现象，同时避免玻面小角度变色问题。
[0007]本技术的目的可通过下列技术方案来实现：一种中透低反可钢化双银LOW-E玻璃，其特征在于，本镀膜玻璃包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十五个膜层，其中第一层、第二层和第三层为第一电介质组合层，第四层为低辐射功能层，第五层为第一阻挡保护层，第六层和第七层为晶床介质层，第八层为合金层，第九层和第十层为第二电介质组合层，第十一层为低辐射功能层,第十二层为第二阻挡保护层，第十三层为晶床介质层，第十四层为第三电介质层，第十五层为耐磨层。
[0008]在上述一种全景灰色双银低辐射镀膜玻璃中，所述第一层为SiNx层，所述第二层为ZnSnO层,所述第三层ZnO层，所述第四层为Ag层，所述第五层为NiCr层,所述第六层为AZO层,所述第七层为SiNx层,所述第八层为CuNiTi(合金)层，所述第九层为SiNx层，所述第十层为ZnO层，所述第十一层为Ag层，所述第十二层为NiCr层，所述第十三层为AZO层，所述第十四层为SiNx层，所述第十五层为Zr层。
[0009]本产品采用合金作为夹心层，产品颜色范围广泛，可做幕墙产品搭配平弯使用；同时，其最外层为锆(Zr)层，其具有良好的耐磨性能，使得本产品具有优良的抗划伤性。
[0010]一种中透低反可钢化双银LOW-E玻璃的制备方法，其特征在于，本方法包括如下步骤：
[0011]1)、磁控溅射镀膜层；
[0012]A、磁控溅射第一层：
[0013]靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:0.8，溅射气压为3～5
×
10-3
mbar；镀膜厚度为20～30nm；
[0014]B、磁控溅射第二层：
[0015]靶材数量：交流旋转靶1～2个；靶材配置锌锡(ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5
×
10-3
mbar；镀膜厚度为5～7nm；
[0016]C、磁控溅射第三层：
[0017]靶材数量：交流旋转靶1～2个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5
×
10-3
mbar；镀膜厚度为3～5nm；
[0018]D、磁控溅射第四层：
[0019]靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3
×
10-3
mbar；镀膜厚度为2～6nm；
[0020]E、磁控溅射第五层：
[0021]靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体：纯氩气；溅射气压为2～3
×
10-3
mbar；镀膜厚度为0.5～1.5nm；
[0022]F、磁控溅射第六层：
[0023]靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为氧化锌铝(AZO)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3
×
10-3
mbar；镀膜厚度为7～9nm；
[0024]G、磁控溅射第七层：
[0025]靶材数量：交流旋转靶3～5个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:0.8，溅射气压为3～5
×
10-3
mbar；镀膜厚度为5～8nm；
[0026]H、磁控溅射第八层：
[0027]靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为钴镍钛合金(CuNiTi)；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3
×
10-3
mbar；镀膜厚度为2～8nm；
[0028]I、磁控溅射第九层：
[0029]靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:0.8；溅射气压为3～5
×
10-3
mbar；镀膜厚度为30～40nm；
[0030]J、磁控溅射第十层：
[0031]靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:2；溅射气压为3～5
×
10-3
mbar；镀膜厚度为10～15nm；
[0032]K、磁控溅射第十一层：
[0033]靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体：纯氩气；溅射气压为：2～3:
×
10-3
mbar；镀膜厚度为3～5nm；
[0034]L、磁控溅射第十二层：
[0035]靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3
×
10-3
mbar；镀膜厚度为1.5～1.8nm；
[0036]M、磁控溅射第十三层：
[0037]靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为氧化锌铝(AZO)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3
×
10-3
mbar；镀膜厚度为6～8nm本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种中透低反可钢化双银LOW-E玻璃，其特征在于，本镀膜玻璃包括玻璃基片层(G)和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层(G)向外依次复合有十五个膜层，其中第一层(1)、第二层(2)和第三层(3)为第一电介质组合层，第四层(4)为低辐射功能层，第五层(5)为第一阻挡保护层，第六层(6)和第七层(7)为晶床介质层，第八层(8)为合金层，第九层(9)和第十层(10)为第二电介质组合层，第十一层(11)为低辐射功能层,第十二层(12)为第二阻挡保护层，第十三层(13)为晶床介质层，第十四层(14)为第三电介质层，第十五层(15)为耐磨层。2...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋宇，熊建，蒲军，杨清华，江维，
申请(专利权)人：咸宁南玻节能玻璃有限公司，
类型：新型
国别省市：