一种激光照排胶片的生产方法技术

本发明专利技术公开了一种激光照排胶片的生产方法，包括双注乳化工序，除杂工序、熟化工序，涂布工序，其特征在于：所述的除杂工序包括ａ）沉降工序、ｂ）水洗工序、ｃ）复溶工序、ｄ）沉降工序、ｅ）水洗工序、ｆ）复溶工序，本发明专利技术与现有技术相比，采用一次以上复溶的方法除去乳剂里面的多种杂质，控制方法比较简单，不增加设备，每批乳剂性能稳定，涂布质量及胶片的稳定性较好。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于激光照排胶片的生产方法，特别属于用高氯乳剂乳化的激光照 排胶片的生产方法。技术背景激光照排胶片包括氦氖激光照排片、红外激光照排片，目前激光照排胶片 的生产方法包括双注乳化工序，除杂工序、熟化工序，涂布工序所述的双注乳化工序在一定温度，高速搅拌的情况下，恒定保持卤离子过 量，将硝酸银(AgN03)溶液和碱金属卤化物溶液同时以恒速加入到明胶水溶液中， 碱金属卣化物为氯化钠、溴化钾或者氯化钠、溴化钾、碘化钾，在碱金属卤化 物中搀杂有铱盐、铑盐。所述的除杂工序包括沉降工序、水洗工序、复溶工序水洗工序水洗至胶片的电导率〈800MS/cm;复溶工序用Na2C03溶液溶解膏体，再用醋酸调节PH二4.7士0.2;所述的涂布工序将熟化工序所制好的膏体用硫、金，感红染料增感后涂样。通常激光照排胶片的涂层比较薄，由于双注乳化工序所制备的乳剂为高氯 乳剂，在涂布工序过程中，当高氯乳剂的杂质元素过多时，会造成胶片表面存在缺陷。通常高氯乳剂的杂质元素主要包括以下几个方面1、在高氯乳剂制备过程中，由于高氯酸对设备的腐蚀，乳剂中会留下大量的铁离子，铁离子直接影响胶片的灰雾和感光度，对胶片的保存和生产非常不利；2、高氯乳剂所用的乳剂基质为明胶，乳剂中的无机盐如硝酸钠，硝酸钾，碱性卤化物容易被明胶所吸附，不易清洗干净；3、各种生产原材料本身就含有微量杂质元素，如Au、Hg、 Fe、 Cr、 Ni、 Mn、 Cu以及硫化物，当使用不同时期、产地的原料时，容易 造成高氯乳剂中杂质元素的不同，使不同批次激光照排胶片的性质产生差异， 用上述方法制备激光照排胶片时，胶片中银的重量损失都在3%以上，印刷成本 较高。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种杂质元素少、成本低的激光照排胶 片的生产方法。本专利技术解决技术问题的技术方案为 ，包括 双注乳化工序，除杂工序、熟化工序，涂布工序，所述的除杂工序包括以下工 序a) 沉降工序沉降工序所用的沉降剂为萘磺酸盐，沉降剂与明胶的重量比 为1: 5-10。萘磺酸盐是目前通用的沉降剂，当沉降剂与明胶的重量比为1: 5-20时， 使高氯乳剂能够沉降为块状固体，有利于清洗，而且清洗过程中银的损失较小， 但当沉降剂与明胶的重量比小于为l: 5时，则使高氯乳剂出现难以复溶的胶状 固体。b) 水洗工序调节膏体的P^3.5士0.2，静置，抽去上层清液，搅拌下使用 纯水进行水洗，水洗至膏体的电导率〈800MS/cm;加入沉降剂的明胶由于氨基与磺酸基络合而失去亲水性，从而达到沉降的效果，当PH值调至明胶的等电点以下时，羧基也失去亲水性，明胶就连同卤化 银颗粒一起沉降，大部分杂质盐类溶解于水中而得以除去，如果PH值过低会出 现银沉现象，对于乳剂系统产生不可逆转的破坏作用。c) 复溶工序加入Na2C03溶液，升温到38—40'C，将膏体溶解即可；d) 沉降工序在C)复溶工序所生成的溶液中加入沉降剂，所用的沉降剂为 萘磺酸盐，沉降剂与明胶的重量比为1: 10-20;本工序的沉降剂的用量比a工序少得多，因为a工序中加入的沉降剂还在乳剂中，增加这个过程是为了清除吸附在明胶中无机盐、及微量的杂质元素。e) 水洗工序调节膏体的PH二3.5士0.2，静置，抽去上层清液，搅拌下使用 纯水进行水洗，水洗至膏体的电导率〈800^S/cm;f) 复溶工序在水洗好的膏体中加入Na2C03溶液，升温到38—40'C，补加 明胶，搅拌溶解。调节膏体的PH二 4.7±0.2，即可；复溶工序后还应补加适量的明胶，补加明胶的量依据不同的配方有不同的 要求，对印刷胶片乳剂而言，胶银比越低越好，这对减薄涂层，提高清晰度有 良好作用。但过低的胶银比会无法保证体系的稳定，出现银沉现象，对生产不 利。为了增强除杂效果，还可进行一次以上的d、 e、 f工序。 乳剂沉降是依靠改变明胶的亲水基团，使明胶不再溶解于水中而达到清洗 的目的，这时候会有一部分杂质包裹于不溶解于水的明胶内，由于杂质外边的 明胶存在，不利于纯水和杂质的接触，传统依靠一次沉降后多次水洗并测定水 洗水电导率来控制水洗程度的方案就对这部分杂质无能为力。水洗后的乳剂复 溶使包裹在明胶内部的杂质溶解于溶液中，沉降后可以较好的除去杂质，使内 部杂质含量进一步降低。本专利技术与现有技术相比，采用一次以上复溶的方法除去乳剂里面的多种杂 质，控制方法比较简单，不增加设备，可以保证每批乳剂性能稳定，涂布质量 及胶片的稳定性较好。具体实施方式下面结合实施例^t本专利技术作详细的说明。 实施例1:一种激光照排乳剂的生产方法，包括双注乳化工序，除杂工序、熟化工序， 涂布工序，所述的除杂工序包括以下工序a) 沉降工序沉降工序所用的沉降剂为萘磺酸盐，沉降剂与明胶的重量比 为l: 10;b) 水洗工序用醋酸调节膏体的PH二3.5士0.2，静置5分钟后，抽去上层清 液，搅拌下使用纯水对沉降乳剂进行水洗，水洗至膏体的电导率〈800W/cm;c) 复溶工序加入Na2C03溶液，升温到38—40。C，将膏体溶解即可；d) 沉降工序在c)复溶工序所生成的溶液中加入沉降剂，所用的沉降剂为萘磺酸盐，沉降剂与明胶的重量比为l: 20。e) 水洗工序；用醋酸调节膏体的P^3.5士0.2,静置5分钟后，抽去上层清 液，搅拌下使用纯水对沉降乳剂进行水洗，水洗至膏体的电导率〈800l^/cm;f) 复溶工序在水洗好的膏体中加入Na2C03溶液，升温到38—4(TC,补加 明胶，搅拌溶解，醋酸调节膏体的P^ 4.7±0.2，即可。实施例2:一种激光照排乳剂的生产方法，包括双注乳化工序，除杂工序、成熟工序， 涂布工序，所述的除杂工序包括以下工序a) 沉降工序:沉降工序所用的沉降剂为萘磺酸盐，沉降剂与明胶的重量比 为l: 8;b) 水洗工序用醋酸调节膏体的^=3.5±0.2，静置5分钟后，抽去上层清 液，搅拌下使用纯水对沉降乳剂进行水洗，水洗至膏体的电导率〈800MS/cm;c) 复溶工序加入Na2C03溶液，升温到38—4(TC，将膏体溶解即可d) 沉降工序在C)复溶工序所生成的溶液中加入沉降剂，所用的沉降剂为 萘磺酸盐，沉降剂与明胶的重量比为l: 20。e) 水洗工序；用醋酸调节膏体的ra^3.5士0.2，静置5分钟后，抽去上层清 液，搅拌下使用纯水对沉降乳剂进行水洗，水洗至膏体的电导率〈800MS/cm;f) 复溶工序在水洗好的膏体中加入Na2C03溶液，升温到38—4(TC，补加 明胶,搅拌溶解，醋酸调节膏体的PH= 4. 7±0. 2，即可。实施例3:一种激光照排乳剂的生产方法，包括双注乳化工序，除杂工序、成熟工序， 涂布工序，所述的除杂工序包括以下工序-a) 沉降工序沉降工序所用的沉降剂为萘磺酸盐，沉降剂与明胶的重量比为1: 9;b) 水洗工序使用醋酸调节膏体的PH二3.5士0.2，静置5分钟后，抽去上层 清液，搅拌下使用纯水对沉降乳剂进行水洗，水洗至膏体的电导率〈800MS/cm;c) 复溶工序加入Na2C03溶液，升温到38—4(TC，将膏体溶解即可；d) 沉降工序在c)复溶工序所生成的溶液中加入沉降剂，所用的沉降剂为萘磺酸盐，沉降剂与明胶的重量比为l: 20。e) 水洗工序；使用醋酸调节膏体的P^3.5士0.2，静置5分本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光照排胶片的生产方法，包括双注乳化工序、除杂工序、熟化工序、涂布工序，其特征在于：所述的除杂工序包括以下工序：ａ）沉降工序：沉降工序所用的沉降剂为萘磺酸盐，沉降剂与明胶的重量比为１∶５－１０；ｂ）水洗工序：调节膏体的ＰＨ＝３．５±０．２，静置，抽去上层清液，搅拌下使用纯水进行水洗，水洗至膏体的电导率＜８００μＳ／ｃｍ；ｃ）复溶工序：加入Ｎａ↓［２］ＣＯ↓［３］溶液，升温到３８－４０℃，将膏体溶解即可；ｄ）沉降工序：在ｃ）复溶工序所生成的溶液中加入沉降剂，所用的沉降剂为萘磺酸盐，沉降剂与明胶的重量比为１∶１０－２０；ｅ）水洗工序：调节膏体的ＰＨ＝３．５±０．２，静置，抽去上层清液，搅拌下使用纯水进行水洗，水洗至膏体的电导率＜８００μＳ／ｃｍ；ｆ）复溶工序：在水洗好的膏体中加入Ｎａ↓［２］ＣＯ↓［３］溶液，升温到３８－４０℃，补加明胶，搅拌溶解。调节膏体的ＰＨ＝４．７±０．２，即可。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：何向明，翁宏飏，陈磊，蒋延宁，
申请(专利权)人：黄山银江科技有限公司，
类型：发明
国别省市：34[中国|安徽]