【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包含有机聚硅氧烷的消泡制剂
[0001]本专利技术涉及包含有机聚硅氧烷的消泡剂制剂及其作为消泡剂的用途,特别是在含水表面活性剂体系中作为消泡剂的用途。
[0002]在包含作为需要或不需要成分的表面活性化合物的许多液体体系,特别是含水体系中,当这些体系与气态物质或多或少地紧密接触时,例如在废水充气期间,在剧烈搅拌液体期间,在蒸馏、涤气或染色过程中,或在填充步骤中,泡沫形成会出现问题。
[0003]该泡沫可通过机械方法或通过添加消泡剂来控制。已经证明硅氧烷基消泡剂特别有用。
[0004]改善硅氧烷基消泡剂的性能是一个持续的过程。许多科学论文(例如Denkov et al.Langmuir,1999,15,8514,Langmuir,1999,15,8530或概括地,P.Garrett,The science of defoaming,CRC Press,2014,Chapter 4.5“Oil Bridges and Antifoam Mechanism”,v.a.pp.152ff.)涉及消泡机制,并且在硅氧烷基消泡剂的情况下,所谓的桥接-拉伸机制是有利的。该机制是基于硅氧烷基消泡剂首先在泡沫薄层中形成桥,然后撕裂其导致泡沫薄层的破坏。因此,消泡剂足够低的粘度以及良好的铺展性是必要的,以便可以在泡沫薄层中形成桥。
[0005]在硅氧烷基消泡剂的改进方法过程中,许多论文专注于提高该消泡剂桥的形成速率,从而提高消泡剂的瞬时性能(也称为泡沫击倒(foam knockdown))。这里,加入疏水性填料,特别是二氧化硅,已经实现了显 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种消泡剂制剂,所述消泡剂制剂包含:(1)有机聚硅氧烷,其每分子含有至少一个以下通式的结构单元O
1/2
R2Si-Y-SiRO
2/2 (I)和至少2个以下通式的单元R1R2SiO
1/2 (II)和以下通式的单元R2SiO
2/2 (III),其中R可以相同或不同,并且表示具有1至30个碳原子的SiC键合的单价烃基,所述SiC键合的单价烃基可以包含一个或多个不相邻的氧原子并且不含脂族碳-碳多重键,以及R1为R或具有2至30个碳原子的烯基,优选甲基或乙烯基,其中每分子存在至少一个烯基,Y表示具有2至30个碳原子的二价烃基,条件是所述有机聚硅氧烷含有下式的结构单元R2Y2SiO-(SiR2O)
x1-SiRY1O-(SiR2O)
x2-SiR2R
1 (IV),其中R和R1如以上所定义,以及Y1表示与具有式SiR2O
1/2
的基团键合的具有2至30个碳原子的二价烃基,Y2表示与具有式SiRO
2/2
的基团键合的具有2至30个碳原子的二价烃基,x1和x2为0或整数,条件是x1+x2的总和为x,其中x平均大于5,优选大于10,并且小于100,优选小于80,优选小于60,(2)填料,(3)包含以下通式的单元的有机聚硅氧烷树脂R
2e
(R3O)
f
SiO
(4-e-f)/2 (V),其中R2可以相同或不同,并且表示氢原子或具有1至30个碳原子的任选取代的SiC键合的单价烃基,R3可以相同或不同,并且表示氢原子或具有1至4个碳原子的任选取代的单价烃基,e为0、1、2或3以及f为0、1、2或3,条件是e+f的总和不大于3,并且在所述有机聚硅氧烷树脂中所有式(V)的单元的少于50%中,e+f的总和为2,和(4)磷酸。2.根据权利要求1所述的消泡剂制剂,其特征在于,Y和Y1和Y2各自为式-CH2CH
2-的基团。3.根据权利要求1所述的消泡剂制剂,其特征在于,所述有机聚硅氧烷(1)在以下情况时生产:
(A)低聚或聚合有机硅化合物,其含有通式R1R2SiO
1/2 (II)的单元,通式R2SiO
2/2 (III)的单元,和通式HRSiO
2/2 (VII)的单元,其中R和R1如权利要求1所定义,条件是每分子存在至少一个烯基R1,所述单元HRSiO
2/2
和R1R2SiO
1/2
的总和平均大于2.0,并且烯基R1的数量平均大于Si键合的氢原子的数量,和任选存在的(B)低聚或聚合有机硅化合物,其含有通式R6R2SiO
1/2 (VIII)的单元,和通式R2SiO
2/2 (III)的单元,其中R如权利要求1所定义,以及R6为具有2至30个碳原子的烯基,优选为乙烯基,在(C)促进Si键合的氢加成到脂族双键上的催化剂的存在下反应,其中所述组分(A)和任选存在的(B)中的脂族双键与所述组分(A)中Si键合的氢的使用比例为1.2-10,优选1.5-5.0,优选1.7-3.0。4.根据权利要求3所述的消泡剂制剂,其特征在于,使用的所述有机硅化合物(A)是下式的那些R1R2SiO-(SiR2O)
x-(HSiR)
y-O-SiR2R
1 (IX),其中R、R1和x如权利要求1所定义,...
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