本发明专利技术揭示一种用于监视ＬＣＤ生产产生率、预测不同测试方法对ＬＣＤ生产产生率的影响、最佳化生产产生率、及检测ＴＦＴ阵列面板中的缺陷的系统与方法，所述系统与方法在ＬＣＤ测试与装配过程中，可以比较不同测试方法对不同阶段产生率的影响。本发明专利技术也可以用来预测不同测试方法对用户定义参数（如利润）的影响。本发明专利技术也可以提高的缺陷检测精确度来检测ＴＦＴ阵列面板中的缺陷。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术有关LCD制造，更具体而言，有关一种用于监视LCD生产产生率、预测不同测试方法对LCD生产产生率的影响、最佳化生产产生率、及检测TFT阵列面板中的缺陷的系统与方法。
技术介绍
产生率管理对于LCD制造很重要。在LCD制造中，单一的一大片玻璃板只能分割成少数的LCD面板。因为消费者对越来越大的显示器需求增长，所以衬底变得更大，且每片玻璃板的LCD面板数量减少。因此，生产产生率对于LCD制造至关重要。 LCD面板的主要成本在于制造。因此，赢利性与产生率息息相关。产生率的任何改变都会影响财务。 LCD面板生产是包含各种制造阶段的高度自动化制程。各个制造阶段都由许多复杂的步骤组成。例如，这个制程的一个阶段在玻璃衬底上建立了薄膜晶体管阵列，其包括多个过程薄膜沉积、抗蚀层、曝光、显影、蚀刻及剥离。几乎制造过程中每个阶段的每个步骤都有会发生缺陷的可能。 缺陷有几种不同的形式，通常可分成光学、机械及电子缺陷。这些缺陷有些可以修复，但有些属于永久的缺陷，并可能严重到使LCD面板无法使用。 光学缺陷是最常见的缺陷。出现这种类型的缺陷时，像素会“陷”在像素一直传输光的明亮状态或像素永远不会传输光的黑暗状态。这种类型的缺陷最常见的原因是电的问题，例如单元晶体管或信号引线中的短路或断路。在玻璃板之间或LCD面板与背光之间的异物微粒污染也会造成亮点或暗点。 另一种类型的光学缺陷是不均匀性，这是由导致液晶层不同厚度的不均匀单元间隙所造成的。液晶对准层研磨制程中发生的错误、不一致的彩色滤光片厚度或化学残余物去除不完全也会造成均匀性问题。 机械缺陷可以包括损坏的玻璃与损坏的电连接。损坏的电连接起因于不当装配、对准组件时的错误和/或不正确操作。 某些LCD制造商会使用可以在制造过程中间点自动评估面板的测试与检验设备。在某些情况中，可以自动修复缺陷。但是，LCD生产过程中全面的测试却会降低生产的速度。此外，还有与测试设备相关的资金与维护成本。因此，制造商必须尽可能在完善精确的测试需求与避免降低生产速度的需求之间取得平衡。
技术实现思路
本专利技术的目的在于至少解决以上问题和/或缺点并至少提供以下所说明的优点。 为了达成以上目的，并根据本专利技术的目的，如本文所具体化及广泛说明，本专利技术提供一种通过在LCD测试与装配过程中比较不同测试方法对不同阶段产生率的影响，来监视LCD生产产生率、预测不同测试方法对LCD生产产生率的影响及最佳化生产产生率的系统与方法。本专利技术也可以用来预测不同测试方法对用户定义参数(如利润)的影响。 在一个优选实施中，会使用常用的生产运行来评估不同的测试方法。这样减少了测试不同方法所需的LCD面板数，也可以减少应用的测试方法不当时牺牲LCD面板的概率。 本专利技术还提供一种用于检测TFT阵列面板中的缺陷的系统和方法。本专利技术的系统和方法是根据测量像素电压的标准差来调整分类不良像素(defective pixel)所用的阈值参数以提高缺陷检测精确度。 本专利技术尤其适合用来测试含有比TFT阵列测试器的传感器在单次测量中所能测量的像素多的像素的TFT阵列面板。在此情况中，TFT阵列测试器必须执行多次测量，才能测出TFT阵列面板中的所有像素。本专利技术的系统与方法可计算各测量点的测量像素电压标准差，并可根据计算的标准差来调整阈值参数。因此，本专利技术的系统与方法有助于补偿测量点之间测量像素电压因环境因素或其它原因所造成的差异。 在另一优选实施例中，本专利技术的系统与方法可在TFT阵列测试系统所报告的缺陷数超过预定的临界数时，通过调整分类不良像素所用的阈值参数以提高缺陷检测精确度。所述阈值参数最好可以调整直到所报告的缺陷数小于或等于预定的临界数为止。预定的临界数代表用于确定所报告的缺陷数是否异常高的阈值数。 在很多情况下，很难在显微镜下识别因制程不均匀性与制程污染所造成的缺陷，即使可以识别，也无法使用TFT阵列修复设备进行修复。因此，将所报告的缺陷数减少为等于或小于预定临界数的数目将因为需要处理的潜在缺陷数减少，而可减少TFT阵列修复设备的操作时间。 TFT阵列测试系统中的不精确度也会造成报告的缺陷数异常高。在此情况中，将所报告的缺陷数减少为等于或小于预定的临界数的数目将使TFT阵列测试系统报告比较小的潜在缺陷数，且所报告的潜在缺陷成为真正缺陷的概率较高。因此，即使系统的内在性能不精确，本专利技术仍然可以提高TFT阵列测试系统的缺陷检测精确度。 本专利技术的额外优点、目的及特征的一部分将在以下的说明中提出，一部分对于所属领域的技术人员在检查以下内容之后将是显而易见的，或可从本专利技术的实施中获知。可如随附权利要求书中所特别指明的来实现与获得本专利技术的目的与优点。 附图说明 本专利技术已参考以下附图进行详细说明，其中相同参考数字指相同元件。 图1A为根据本专利技术的TFT-LCD制造过程流程的方框图； 图1B为图1A处理器的一个优选实施例的方框图； 图2为图1中所示的过程流程的装配阶段200的方框图； 图3A为根据本专利技术显示当TFT阵列面板的一半像素具有正像素电压而另一半像素具有负像素电压时的像素电压分布的曲线图； 图3B为根据本专利技术的TFT阵列测试系统362的方框图； 图3C为显示正电压驱动像素的测量像素电压分布及使用“相对定阈值”方法所计算的阈值参数的曲线图； 图3D为显示TFT阵列面板上两个测量点的像素电压分布实例的曲线图； 图3E为根据本专利技术显示正电压驱动像素的测量像素电压分布及使用“标准差”方法所计算之阈值参数的曲线图； 图3F为根据本专利技术的一个实施例显示标准差测量过程步骤的流程图； 图3G为根据本专利技术的一个实施例显示弹性定阈值过程步骤的流程图； 图4为显示TFT-LCD制造中所用典型玻璃衬底400的布置的方框图； 图5为根据本专利技术实际生产环境中产生正常像素与不良像素的分布函数的方法的流程图； 图6为根据本专利技术的缺陷区分表； 图7为根据本专利技术区分使用阵列测试阶段、阵列修复阶段、单元检验阶段、和模块检验阶段的结果所发现的不良像素的过程流程图； 图8为根据本专利技术的TFT阵列测试阶段的只有主要测试的修订缺陷区分表； 图9为根据本专利技术的TFT阵列测试阶段的只有新测试的修订缺陷区分表； 图10为根据本专利技术的可通过最佳化阈值参数以达成TFT-LCD生产线的利润最大化的过程流程图； 图11为根据本专利技术初始缺陷区分过程的流程图； 图12为根据本专利技术新的筛选阈值的缺陷重新区分过程的流程图； 图13A到图13D根据本专利技术显示新测试处方与主要测试处方的利润最大化过程的流程图； 图14为根据本专利技术新测试处方较严格的新阈值参数的缺陷区分表； 图15为根据本专利技术的新测试处方较宽松的新阈值参数的缺陷区分表； 图16为根据本专利技术结合图11初始缺陷区分的TFT阵列测试阶段只有主要测试的修订缺陷区分表； 图17为根据本专利技术显示TFT阵列面板中正常像素电压与不良像素电压的分布实例的曲线图； 图18为根据本专利技术显示扫描阈值参数时的高扼杀缺陷与低扼杀缺陷的曲线图； 图19为根据本专利技术显示改变阈值参数对低扼杀缺陷的微分效应的曲线图； 图20为根据本专利技术显示改变阈值参数对高扼杀本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于估计从一当前液晶显示器（ＬＣＤ）制造设定改变为一新的ＬＣＤ制造设定的利润影响的系统，其中所述当前ＬＣＤ制造设定与所述新的ＬＣＤ制造设定各包含一阵列测试阶段和一阵列修复阶段，所述系统包含： 一用于比较数个当前电极阵列面板与数个新 电极阵列面板以产生第一比较数据的比较单元；和 一用于根据所述第一比较数据估计所述新的ＬＣＤ制造设定的利润影响的估计单元； 其中所述当前电极阵列面板数对应于输入到具有所述当前ＬＣＤ制造设定的所述阵列修复阶段的电极阵列面板数，且所述 新电极阵列面板数对应于输入到所述新ＬＣＤ制造设定的所述阵列修复阶段的电极阵列面板数。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：钟相勇，
申请(专利权)人：伊尔德博斯特技术公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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