显示面板及其制作方法技术

本申请公开了一种显示面板及其制作方法。该显示面板的制作方法包括：在衬底上形成金属薄膜层；在该金属薄膜层上形成疏水层及光阻层；对该光阻层进行图案化处理，以形成光阻图案；将未被该光阻图案覆盖的该疏水层去除；对未被该疏水层覆盖的该金属薄膜层进行蚀刻处理，以形成第一电极层。本申请通过在金属薄膜层上设置疏水层，利用相似相溶原理，在图案化金属薄膜层过程中，增强了金属或合金与光阻层之间的粘附力，防止了光阻层意外脱落，提高了图案化金属薄膜层的良率，提高了显示面板的制作质量。作质量。作质量。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制作方法


[0001]本申请涉及显示领域，尤其涉及显示
，具体涉及一种显示面板及其制作方法。

技术介绍

[0002]随着生活水平的提高，人们对显示器尺寸、分辨率和画面刷新速率的追求越来越高，因此采用铜取代铝作为导电金属材料。
[0003]导电层包括铜膜时，与玻璃基板以及含硅介电层的附着力较差，在进行高温制程后，容易出现膜层脱落现象，现有技术中，一般通过在铜膜上下沉积极性较强的金属或合金材料以提高铜膜与介电层的附着力，但在导电层图案化过程中，极性较强的金属或合金与光阻层的粘附力较差，容易出现光阻层意外脱落，导致图案化导电层良率不高的技术问题。
[0004]因此，亟需一种显示面板及其制作方法以解决上述技术问题。

技术实现思路

[0005]本申请提供了一种显示面板及其制作方法，以解决现有技术中，在导电层图案化过程中，金属或合金与光阻层的粘附力较差，容易出现光阻层意外脱落，导致图案化导电层良率不高的技术问题。
[0006]为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：
[0007]一种显示面板的制作方法，包括：
[0008]在衬底上形成金属薄膜层；
[0009]在所述金属薄膜层上形成疏水层及光阻层；
[0010]对所述光阻层进行图案化处理，以形成光阻图案；
[0011]将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除；
[0012]对未被所述疏水层覆盖的所述金属薄膜层进行蚀刻处理，以形成第一电极层。
[0013]在本申请的显示面板的制作方法中，所述第一电极层为栅极层，或所述第一电极层为源漏极层。
[0014]在本申请的显示面板的制作方法中，所述显示面板的制作方法还包括：
[0015]剥离所述光阻层；
[0016]利用等离子气体处理所述疏水层，将所述疏水层剥离。
[0017]在本申请的显示面板的制作方法中，利用等离子气体处理，将所述疏水层剥离的步骤包括：
[0018]利用氢气等离子或氧气等离子处理所述疏水层，使得所述疏水层与氢气等离子或氧气等离子形成碳氢气体或碳氧气体，将所述疏水层剥离。
[0019]在本申请的显示面板的制作方法中，形成第一电极层之后还包括：
[0020]在所述第一电极层上形成钝化层；
[0021]在所述钝化层上形成像素电极层。
[0022]在本申请的显示面板的制作方法中，所述第一电极层包括第一阻挡层、及位于所述第一阻挡层上的第一金属薄膜层。
[0023]在本申请的显示面板的制作方法中，所述第一电极层还包括位于所述第一金属薄膜层上的第二阻挡层。
[0024]在本申请的显示面板的制作方法中，将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除的步骤包括：
[0025]利用等离子气体处理，将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除；
[0026]其中，所述等离子气体包括氢气等离子或氧气等离子。
[0027]在本申请的显示面板的制作方法中，所述疏水层的材料为双层石墨烯、三层石墨烯、碳纤维、碳纳米管中的任意一种或多种的组合。
[0028]本申请还提供了一种显示面板，所述显示面板利用如任一上述的显示面板的制作方法制作形成。
[0029]有益效果：本申请通过在金属薄膜层上设置疏水层，利用相似相溶原理，在图案化金属薄膜层过程中，增强了金属或合金与光阻层之间的粘附力，防止了光阻层意外脱落，提高了图案化金属薄膜层的良率，提高了显示面板的制作质量。
附图说明
[0030]下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0031]图1为本申请的显示面板的制作方法的步骤流程图；
[0032]图2为本申请的显示面板的制作方法中第一种结构示意图；
[0033]图3为本申请的显示面板的制作方法中第二种结构示意图；
[0034]图4为本申请的显示面板的制作方法中第三种结构示意图；
[0035]图5为本申请的显示面板的制作方法中第四种结构示意图；
[0036]图6为本申请的显示面板的制作方法中第五种结构示意图；
[0037]图7为本申请的显示面板的制作方法中第六种结构示意图；
[0038]图8为本申请的显示面板的制作方法中第七种结构示意图；
[0039]图9为本申请的显示面板的制作方法中第八种结构示意图；
[0040]图10为本申请的显示面板的制作方法中第九种结构示意图；
[0041]图11为本申请的显示面板的制作方法中第十种结构示意图；
[0042]图12为本申请的显示面板的制作方法中第十一种结构示意图；
[0043]图13为本申请的显示面板的制作方法中第十二种结构示意图；
[0044]图14为本申请的显示面板的制作方法中第十三种结构示意图；
[0045]图15为本申请的显示面板的制作方法中第十四种结构示意图。
具体实施方式
[0046]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施
例，都属于本申请保护的范围。
[0047]导电层包括铜膜时，与玻璃基板以及含硅介电层的附着力较差，在进行高温制程后，容易出现膜层脱落现象，现有技术中，一般通过在铜膜上下沉积极性较强的金属或合金材料以提高铜膜与介电层的附着力，但在导电层图案化过程中，极性较强的金属或合金与光阻层的粘附力较差，容易出现光阻层意外脱落，导致图案化导电层良率不高的技术问题。
[0048]请参阅图1～图15，本申请还公开了一种显示面板100的制作方法，包括：
[0049]S100、在衬底上形成金属薄膜层。
[0050]S200、在所述金属薄膜层上形成疏水层700及光阻层。
[0051]S300、对所述光阻层进行图案化处理，以形成光阻图案。
[0052]S400、将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层700去除。
[0053]S500、对未被所述疏水层700覆盖的所述金属薄膜层进行蚀刻处理，以形成第一电极层。
[0054]本申请通过在金属薄膜层上设置疏水层，利用相似相溶原理，在图案化金属薄膜层过程中，增强了金属或合金与光阻层之间的粘附力，防止了光阻层意外脱落，提高了图案化金属薄膜层的良率，提高了显示面板的制作质量。
[0055]现结合具体实施例对本申请的技术方案进行描述。
[0056]请参阅图1～图15，所述显示面板100的制作方法，包括：
[0057]S100、在衬底200上形成金属薄膜层601。
[0058]本实施例中，所述金属薄膜层601为栅极层300的材料或源漏极层600的材料，即步骤S500形成的第一电极层为栅极层或源漏极层，在此不本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底上形成金属薄膜层；在所述金属薄膜层上形成疏水层及光阻层；对所述光阻层进行图案化处理，以形成光阻图案；将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除；对未被所述疏水层覆盖的所述金属薄膜层进行蚀刻处理，以形成第一电极层。2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一电极层为栅极层，或所述第一电极层为源漏极层。3.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板的制作方法还包括：剥离所述光阻层；利用等离子气体处理所述疏水层，将所述疏水层剥离。4.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法，其特征在于，利用等离子气体处理，将所述疏水层剥离的步骤包括：利用氢气等离子或氧气等离子处理所述疏水层，使得所述疏水层与氢气等离子或氧气等离子形成碳氢气体或碳氧气体，将所述疏水层剥离。5.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡小波，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：