内嵌金属基氮化物材料外延衬底及制备方法技术

本发明专利技术涉及第三代半导体材料制备技术领域，尤指一种内嵌金属基氮化物材料外延衬底及制备方法，该衬底的一表面制有凹坑阵列，凹坑阵列内生长有复合金属层，该复合金属层生长至覆盖衬底；具体制备方法为：在衬底的一表面上进行图形化处理，以形成延伸进衬底内部的凹坑阵列；在衬底的凹坑阵列一面生长出一层复合金属层，该复合金属层生长至覆盖衬底；对衬底背向凹坑阵列的一面进行减薄。本发明专利技术解决第三代氮化物材料及器件散热差的问题，使氮化物材料及器件在工作过程中始终处于较低的结温状态，提高其可靠性及性能。提高其可靠性及性能。提高其可靠性及性能。

【技术实现步骤摘要】
内嵌金属基氮化物材料外延衬底及制备方法


[0001]本专利技术涉及第三代半导体材料制备
，尤指一种内嵌金属基氮化物材料外延衬底及制备方法。

技术介绍

[0002]目前第三代半导体材料材料基本在常规衬底上生长，例如硅、蓝宝石、碳化硅，氮化铝，氮化镓衬等衬底。常规的传统衬底主要缺点为热导率比较差，在高功率大电流领域应用中，器件的结温比较高导致性能恶化，给可靠性带来了不良的影响。由于散热问题，第三代半导体材料与器件的性能远达不到理论值。为了实现较好的器件性能及较高的可靠性，金刚石材料是自然界中导热率最高的材料，尤其是多晶金刚石，其热导率已达2000W/m
·
K，但其大尺寸单晶衬底不好制备。目前多晶金刚石通常采用键合方式将GaN单晶材料与多晶金刚石膜层强行绑定在一块，但键合工艺条件下其散热特性与GaN单晶材料的晶体质量都受到一定的影响；其次，其晶格与氮化物有较大的差异，不利于氮化物外延，没有办法用于材料生长与器件制备。

技术实现思路

[0003]为解决上述问题，本专利技术提供一种内嵌金属基氮化物材料外延衬底及制备方法，解决第三代氮化物材料及器件散热差的问题，使氮化物材料及器件在工作过程中始终处于较低的结温状态，提高其可靠性及性能。
[0004]为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案是：一种内嵌金属基氮化物材料外延衬底及制备方法；
[0005]其中，一种内嵌金属基氮化物材料外延衬底，包括衬底，所述衬底的一表面制有凹坑阵列，所述凹坑阵列内生长有复合金属层，该复合金属层生长至覆盖所述衬底。
[0006]作为一种优选方案，所述复合金属层包括依次生长在凹坑阵列内的第一铜层、第二铜层和第三铜层，所述第一铜层、所述第二铜层及所述第三铜层采用不同方法生长。
[0007]作为一种优选方案，所述第一铜层通过物理沉积的方法在凹坑阵列内沉积生长；所述第二铜层通过化学镀的方法在第一铜层上镀出；所述第三铜层通过化学镀的方法在第二铜层上镀出。
[0008]作为一种优选方案，所述第一铜层的厚度为0.01μm-3μm。
[0009]作为一种优选方案，所述第二铜层的厚度为3μm-30μm。
[0010]作为一种优选方案，所述第三铜层的厚度为50μm-1000μm。
[0011]其中，一种内嵌金属基氮化物材料外延衬底的制备方法，包括以下步骤：
[0012]步骤一、在衬底的一表面上进行图形化处理，以形成延伸进衬底内部的凹坑阵列；
[0013]步骤二、在衬底的凹坑阵列一面生长出一层复合金属层，该复合金属层生长至覆盖衬底；
[0014]步骤三、对衬底背向凹坑阵列的一面进行减薄。
[0015]作为一种优选方案，所述步骤一的在衬底的一表面上进行图形化处理，以形成延伸进衬底内部的凹坑阵列的步骤包括：使用半导体工艺对衬底进行匀胶、显影及蚀刻，使其表面形成深度为3.4μm-34μm的凹坑阵列。
[0016]作为一种优选方案，所述步骤二的在衬底的凹坑阵列一面生长出一层复合金属层，该复合金属层生长至覆盖衬底的步骤包括：
[0017]a1、利用物理沉积的方法沉积出第一铜层；
[0018]a2、利用化学镀的方法在第一铜层上镀出第二铜层；
[0019]a3、利用电镀的方法在第二铜层上镀出第三铜层。
[0020]作为一种优选方案，所述步骤三的对衬底背向凹坑阵列的一面进行减薄的步骤包括：
[0021]b1、对金刚石/硅复合衬底的基础衬底一面进行抛光减薄；
[0022]b2、对抛光减薄后的金刚石/硅复合衬底进行高温退火；
[0023]不断重复步骤b1和步骤b2，直至步骤b1中抛光减薄后衬底的厚度为3.41μm-34.1μm结束。
[0024]本专利技术的有益效果在于：
[0025]本专利技术制备高散热外延所用衬底利用高导热比金属材料与传统氮化物外延衬底结合，其中，金属材料起到导热支撑的作用，能解决第三代氮化物材料及器件散热差的问题，使氮化物材料及器件在工作过程中始终处于较低的结温状态，提高其可靠性及性能。
附图说明
[0026]图1是本专利技术的内嵌金属基氮化物材料外延衬底的结构示意图。
[0027]图2是本专利技术的内嵌金属基氮化物材料外延衬底的制备方法的流程框图。
[0028]图3是本专利技术的内嵌金属基氮化物材料外延衬底的未减薄时的结构示意图。
[0029]附图标号说明：1-衬底；2-凹坑阵列；3-第一铜层；4-第二铜层；5-第三铜层。
具体实施方式
[0030]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及实施例对本专利技术作进一步地详细描述。显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0031]请参阅图1所示，本专利技术关于一种内嵌金属基氮化物材料外延衬底，包括衬底1，所述衬底1的一表面制有凹坑阵列2，所述凹坑阵列2内生长有复合金属层，该复合金属层生长至覆盖所述衬底1。本专利技术利用高导热比金属材料与传统氮化物外延衬底1结合，实现高导热衬底，传统的衬底1起到氮化物成核功能层的作用，金属材料起到导热支撑的作用。
[0032]优选地，所述衬底1为硅、蓝宝石、碳化硅、氮化铝或者氮化镓中的一种，其厚度为3.41μm-34.1μm；所述凹坑阵列2的深度为3.4μm-34μm；所述复合金属层包括依次生长在凹坑阵列内的第一铜层3、第二铜层4和第三铜层5，所述第一铜层3、所述第二铜层4及所述第三铜层5采用不同方法生长；其中，所述第一铜层3的厚度为0.01μm-3μm；所述第二铜层4的厚度为3μm-30μm；所述第三铜层5的厚度为50μm-1000μm。
[0033]请参阅图2所示，本专利技术关于一种内嵌金属基氮化物材料外延衬底的制备方法，包括以下步骤：
[0034]S10、在衬底的一表面上进行图形化处理，以形成延伸进衬底内部的凹坑阵列；
[0035]S20、在衬底的凹坑阵列一面生长出一层复合金属层，该复合金属层生长至覆盖衬底；
[0036]S30、对衬底背向凹坑阵列的一面进行减薄。
[0037]首先，本专利技术在衬底上进行图形化，增加后续复合金属层与衬底的接触面积，更接近外延材料器件的功能层，以最大限度增加导热途径，其次能够很好释放金属介质与传统材料的热失配及晶格失配的应力，粗化表面的尺寸可以从纳米级到微米级尺寸；其次，复合金属层在后续抛光衬底过程中起到支撑的作用；最后利用常规衬底的抛光工艺对衬底进行减薄，衬底的减薄剩余部分的厚度根据氮化物生长要求进行调整，以符合氮化物外延所需的要求。
[0038]具体地，所述S10步骤包括：使用半导体工艺对衬底进行匀胶、显影及蚀刻，使其表面形成深度为3.4μm-34μm的凹坑阵列。此步骤主要是为了增后续金属介质与常规衬底的接触面积，更接近外延材料器件的功能层，以最本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种内嵌金属基氮化物材料外延衬底，包括衬底，其特征在于：所述衬底的一表面制有凹坑阵列，所述凹坑阵列内生长有复合金属层，该复合金属层生长至覆盖所述衬底。2.根据权利要求1所述的内嵌金属基氮化物材料外延衬底，其特征在于：所述复合金属层包括依次生长在凹坑阵列内的第一铜层、第二铜层和第三铜层，所述第一铜层、所述第二铜层及所述第三铜层采用不同方法生长。3.根据权利要求2所述的内嵌金属基氮化物材料外延衬底，其特征在于：所述第一铜层通过物理沉积的方法在凹坑阵列内沉积生长；所述第二铜层通过化学镀的方法在第一铜层上镀出；所述第三铜层通过化学镀的方法在第二铜层上镀出。4.根据权利要求2所述的内嵌金属基氮化物材料外延衬底，其特征在于：所述第一铜层的厚度为0.01μm-3μm。5.根据权利要求2所述的内嵌金属基氮化物材料外延衬底，其特征在于：所述第二铜层的厚度为3μm-30μm。6.根据权利要求2所述的一种内嵌金属基氮化物材料外延衬底，其特征在于：所述第三铜层的厚度为50μm-1000μm。7.一种内嵌金属基氮化物材料外延衬底的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、在衬底的一表面上进行图形化处理，以形成延伸进衬底内部的凹坑阵列...

【专利技术属性】
技术研发人员：王琦，梁智文，刘南柳，汪青，张国义，
申请(专利权)人：北京大学东莞光电研究院，
类型：发明
国别省市：