用于处理基板的设备和方法技术

一种用于处理基板的设备，包括：腔室，其具有供在其中处理基板的处理空间；基板支撑单元，其在处理空间中支撑基板；气体供应单元，其向处理空间内供应气体；排气管线，其连接到腔室；和减压构件，其降低排气管线中的压力并释放在处理空间中产生的工艺副产物。排气管线包括：第一管线，其连接到腔室；第二管线，其配备有减压构件；和过滤管，该过滤管连接第一管线和第二管线，并且，该过滤管具有波纹状侧表面。该过滤管具有波纹状侧表面。该过滤管具有波纹状侧表面。

【技术实现步骤摘要】
用于处理基板的设备和方法


[0001]本文描述的专利技术构思的实施方式涉及用气体处理基板的设备和方法。

技术介绍

[0002]执行各种工艺，例如光刻、蚀刻、薄膜沉积、离子注入、清洁等，以制造半导体元件。这些工艺之中，在蚀刻工艺、薄膜沉积工艺、离子注入工艺以及清洁工艺中采用使用气体的基板处理设备。
[0003]在气体处理过程中，将工艺气体供应到腔室中，并且用工艺气体处理基板。在用工艺气体处理基板的过程中，产生大量的工艺副产物。通过排气管线释放工艺副产物。排气管线配备有减压构件，并且通过由减压构件施加的负压强制地释放工艺副产物。
[0004]通常，工艺副产物在被强制释放的同时附着在排气管线和减压构件上。附着在排气管线和减压构件上的工艺副产物可能流回到供在其中处理基板的空间，或者可能损坏减压构件。特别地，很难除去附着在排气管线上的工艺副产物。
[0005]因此，为了最小化工艺副产物的沉积，排气管线配备有加热器。加热器升高了排气管线的温度，并减少了工艺副产物的沉积。在这种情况下，沉积在减压构件上的工艺副产物的量增加，并且减压构件的更换频率提高。减压构件连接到多个空间，因此不容易更换减压构件。

技术实现思路

[0006]本专利技术构思的实施方式提供一种用于减少附着到排气管线和减压构件上的工艺副产物的设备。
[0007]根据示例性实施方式，一种用于处理基板的设备包括：腔室，其具有供在其中处理基板的处理空间；基板支撑单元，其在处理空间中支撑基板；气体供应单元，其向处理空间内供应气体；排气管线，其连接到腔室；和减压构件，其降低排气管线中的压力并释放在处理空间中产生的工艺副产物。排气管线包括：第一管线，其连接到腔室；第二管线，其配备有减压构件；和过滤管，该过滤管连接第一管线和第二管线，并且，该过滤管具有波纹状侧表面。
[0008]过滤管可以从第一管线和第二管线拆卸。过滤管的外周表面可以具有波纹形状，并且过滤管可以具有比第一管线和第二管线更低的温度。
[0009]过滤管外部的温度可以低于过滤管内部的温度，并且过滤管可以由比第一管线和第二管线具有更高的热导率的材料形成。
[0010]第二管线可以配备有阀，其打开或关闭排气管线。
[0011]过滤管可以具有波纹状外周表面，并且过滤管可包括主体，其具有对置的开口端；和内部突起，其从主体的内表面突出。
[0012]内部突起可以具有围绕主体的中心轴线的螺旋形状。
[0013]内部突起可以包括多个内部突起，所述多个内部突起具有环孔形状并沿着主体的
长度方向布置。
[0014]在通过沿长度方向切割所述过滤管而获得的切割截面中，所述内部突起可以被设置成倾斜，使得从主体的内表面朝向内部突起的内端的方向沿过滤管的上游方向靠近主体的中心轴线定向。
[0015]根据示例性实施方式，一种用于使用该设备处理基板的方法包括：通过将气体供应到位于处理空间中的基板来处理基板，以及在将基板从处理空间卸载之后对设备进行维护。在进行维护期间，将过滤管与第一管线和第二管线分离并进行更换。
[0016]在进行维护期间，清洁泵可以连接至第一管线，以在分离过滤管之后且在更换过滤管之前释放处理空间中的残留颗粒。过滤管可以具有比第一管线和第二管线更大的暴露面积，使得过滤管具有比第一管线和第二管线更低的温度，该暴露面积是过滤管暴露于外部的面积。
[0017]气体可以是用于蚀刻基板的气体。
附图说明
[0018]通过以下参考附图的描述，上述及其他目的和特征将变得显而易见，其中，除非另外指明，否则贯穿各个附图，相同的附图标记表示相同的部分，并且其中：
[0019]图1是示出根据本专利技术构思的实施方式的基板处理设备的示意性平面图；
[0020]图2是示出图1的基板处理设备的截面图；
[0021]图3是示出图2的挡板的平面图；
[0022]图4是示出图2的排气管线的分解立体图；
[0023]图5是示出图4的过滤管的第一实施方式的截面图；
[0024]图6至图8图示出更换过滤管的过程；
[0025]图9是示出图5的过滤管的第二实施方式的截面图；和
[0026]图10是示出图5的过滤管的第三实施方式的截面图。
具体实施方式
[0027]在下文中，将描述根据本专利技术构思的实施方式的用于使用等离子体蚀刻基板的基板处理设备。然而，不限于此，本专利技术构思可应用于用于使用气体处理基板的各种类型的设备。
[0028]图1是示出根据本专利技术构思的实施方式的基板处理设备的示意性平面图。
[0029]参考图1，基板处理设备1具有转位模块10、装载模块30和处理模块20。转位模块10具有装载端口120、传送框架140和缓冲单元2000。装载端口120、传送框架140和处理模块20依次布置成行。在下文中，将装载端口120、传送框架140、装载模块30和处理模块20布置的方向称为第一方向12，将当俯视时垂直于第一方向12的方向称为第二方向14，并且将与包括第一方向12和第二方向14的平面垂直的方向称为第三方向16。
[0030]其中容纳有多个基板W的载体18被放置在装载端口120上。设置多个装载端口120。装载端口120沿第二方向14布置成行。图1示出了转位模块10具有三个装载端口120的一个示例。然而，装载端口120的数量可以根据诸如处理模块20的处理效率和占空的情况而增加或减少。在载体18中形成有支撑基板W的边缘的多个狭槽(未示出)。多个狭槽沿第三方向16
布置，并且基板W位于载体18中从而沿着第三方向16以彼此上下堆叠，其中在基板W之间具有间隔间隙。正面开口标准箱(FOUP)可以用作载体18。
[0031]传送框架140在放置在装载端口120上的载体18、缓冲单元2000和装载模块30之间传送基板W。在传送框架140中设置有转位轨道142和转位机械手144。转位轨道142被布置成使其长度方向平行于第二方向14。转位机械手144被安装在转位轨道142上，并沿第二方向14沿着转位轨道142直线地移动。转位机械手144具有基座144a、主体144b和转位臂144c。基座144a被安装成可沿转位轨道142移动。主体144b联接至基座144a。主体144b可沿第三方向16在基座144a上移动。此外，主体144b可在基座144a上旋转。转位臂144c联接到主体144b，并且可以相对于主体144b向前和向后移动。设置多个转位臂144c。转位臂144c被单独驱动。转位臂144c沿第三方向16彼此上下堆叠，其中在转位臂144c之间具有间隔间隙。转位臂144c中的一些可用于将基板W从处理模块20传送至载体18，而另一些转位臂144c可以将基板W从载体18传送到处理模块20。因此，在转位机械手144在载体18和处理模块20之间传送基板W的过程中，可以防止从待处理的基板W产生的颗粒附着到处理过的基板W上。
[0032]缓冲单元2000临时储存基板W。在缓冲单元200本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于处理基板的设备，所述设备包括：腔室，所述腔室具有供在其中处理基板的处理空间；基板支撑单元，所述基板支撑单元被配置为在所述处理空间中支撑所述基板；气体供应单元，所述气体供应单元被配置为向所述处理空间内供应气体；排气管线，所述排气管线连接到所述腔室；和减压构件，所述减压构件被配置为降低所述排气管线中的压力并释放在所述处理空间中产生的工艺副产物，其中所述排气管线包括：第一管线，所述第一管线连接到所述腔室；第二管线，所述第二管线配备有所述减压构件；和过滤管，所述过滤管被配置为连接所述第一管线和所述第二管线，并且其中，所述过滤管具有波纹状侧表面。2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述过滤管能够从所述第一管线和所述第二管线拆卸。3.根据权利要求2所述的设备，其中，所述过滤管的外周表面具有波纹形状，并且其中所述过滤管具有比所述第一管线和所述第二管线更低的温度。4.根据权利要求3所述的设备，其中，所述过滤管外部的温度低于所述过滤管内部的温度，并且其中，所述过滤管由比所述第一管线和所述第二管线具有更高的热导率的材料形成。5.根据权利要求4所述的设备，其中，所述第二管线配备有阀，所述阀被配置为打开或关闭所述排气管线。6.根据权利要求1至5中任一项所述的设备，其中，所述过滤管具有波纹状外周表面，并且其中，所述过滤管包括：主体，所述主体具有对置的开口端；和内部突起，所述内部突起从所述主体的内表面突出。7.根据权利要求6所述的设备，其中，所述内部突起具有被构造成围绕所述主体的中心轴线的螺旋形状。8.根据权利要求6所述的设备，其中，所述内部突起包括多个内部突起，所述多个内部突起具有环孔形状并且沿所述主体的长度方向布置。9.根据权利要求6所述的设备，其中，在通过沿长度方向切割所述过滤管而获得的切割截面中，所述内部突起被设置成倾斜，使得从所述主体的所述内表面朝向所述内部突起的内端的方向沿所述过滤管的上游方向靠近所述主体的中心轴线定向。10.一种使用根据权利要求2所述的设备处理基板的方法，所述方法包括：通过将气体供应到位于所述处理空间中的所述基板来处理所述基板；和从所述处理空间中卸载所述基板后对所述设备进行维护，其中，在进行...

【专利技术属性】
技术研发人员：金成烨，李石鲁，魏永勋，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：