【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】功率半导体模块以及电力变换装置
本专利技术涉及功率半导体模块以及电力变换装置。
技术介绍
国际公开第2014/128899号(专利文献1)公开具备多个半导体元件、搭载多个半导体元件的基板以及密封基板及多个半导体元件的密封树脂的半导体装置。半导体元件以及基板的一部分用含有钒以及碲的玻璃膜覆盖。玻璃膜抑制水分到达半导体元件等。现有技术文献专利文献专利文献1:国际公开第2014/128899号
技术实现思路
但是,在半导体装置的动作时以及半导体装置的周围的温度的变化时,专利文献1公开的半导体装置翘曲。对玻璃膜施加应力,在玻璃膜中发生裂纹。水分以及气体从玻璃膜的裂纹侵入,降低半导体装置的可靠性。本专利技术是鉴于上述课题完成的,其目的在于,提供具有提高的可靠性的功率半导体模块以及电力变换装置。本专利技术的功率半导体模块具备绝缘基板、第1导电电路图案、第2导电电路图案、第1半导体元件、第2半导体元件、密封部件以及第1势垒层。绝缘基板包括第1主面。第1导电电路图案设置于第1主面上。第2导电电路图案设置于第1主面上。第2导电电路图案从第1导电电路图案空开第1间隙而配置。第1半导体元件与第1导电电路图案接合。第2半导体元件与第2导电电路图案接合。密封部件密封第1半导体元件、第2半导体元件、第1导电电路图案以及第2导电电路图案。第1势垒层相对第1半导体元件以及第2半导体元件配置于与绝缘基板相反的一侧。第1势垒层设置于密封部件上或者密封部件中。第1势垒层以及密封部件中的至少1个包括第1应力缓和部 ...
【技术保护点】
1.一种功率半导体模块,具备:/n绝缘基板,包括第1主面;/n第1导电电路图案,设置于所述第1主面上;以及/n第2导电电路图案,设置于所述第1主面上,/n所述第2导电电路图案从所述第1导电电路图案空开第1间隙而配置,所述功率半导体模块还具备:/n第1半导体元件,与所述第1导电电路图案接合;/n第2半导体元件,与所述第2导电电路图案接合;/n密封部件,密封所述第1半导体元件、所述第2半导体元件、所述第1导电电路图案及所述第2导电电路图案;以及/n第1势垒层,相对所述第1半导体元件及所述第2半导体元件配置于与所述绝缘基板相反的一侧,/n所述第1势垒层设置于所述密封部件上或者所述密封部件中,/n所述第1势垒层以及所述密封部件中的至少1个包括第1应力缓和部。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180612 JP 2018-1116981.一种功率半导体模块,具备:
绝缘基板,包括第1主面;
第1导电电路图案,设置于所述第1主面上;以及
第2导电电路图案,设置于所述第1主面上,
所述第2导电电路图案从所述第1导电电路图案空开第1间隙而配置,所述功率半导体模块还具备:
第1半导体元件,与所述第1导电电路图案接合;
第2半导体元件,与所述第2导电电路图案接合;
密封部件,密封所述第1半导体元件、所述第2半导体元件、所述第1导电电路图案及所述第2导电电路图案;以及
第1势垒层,相对所述第1半导体元件及所述第2半导体元件配置于与所述绝缘基板相反的一侧,
所述第1势垒层设置于所述密封部件上或者所述密封部件中,
所述第1势垒层以及所述密封部件中的至少1个包括第1应力缓和部。
2.根据权利要求1所述的功率半导体模块,其中,
所述第1势垒层包括所述第1半导体元件以及所述第2半导体元件侧的第1表面和与所述第1表面相反的一侧的第2表面,
所述第1应力缓和部是形成于所述第1表面以及所述第2表面中的至少1个的第1凹部。
3.根据权利要求2所述的功率半导体模块,其中,
所述第1势垒层设置于所述密封部件上,
所述第1凹部形成于所述第1表面,
所述第1凹部的至少一部分是未被所述密封部件填充的空洞。
4.根据权利要求1所述的功率半导体模块,其中,
所述第1势垒层包括所述第1半导体元件以及所述第2半导体元件侧的第1表面和与所述第1表面相反的一侧的第2表面,
所述第1应力缓和部是连接所述第1表面和所述第2表面的第1贯通部。
5.根据权利要求1所述的功率半导体模块,其中,
所述密封部件包括外表面,
所述第1应力缓和部是形成于所述外表面的第2凹部。
6.根据权利要求1至5中的任意一项所述的功率半导体模块,其中,
在俯视所述第1主面时,所述第1应力缓和部被配置成与所述第1间隙重叠。
7.根据权利要求2至4中的任意一项所述的功率半导体模块,其中,
所述第1应力缓和部与所述第1导电电路图案、所述第2导电电路图案以及所述第1间隙对应地设置于所述第1势垒层,
所述第1势垒层构成为至少在所述第1应力缓和部随着接近所述第1势垒层的第1部分而厚度逐渐减少,所述第1部分在俯视所述第1主面时与所述第1间隙重叠,
所述第1势垒层在所述第1应力缓和部中的所述第1部分具有最小厚度。
8.根据权利要求5所述的功率半导体模块,其中,
所述第1应力缓和部...
【专利技术属性】
技术研发人员:梶勇辅,泷久幸,平松星纪,
申请(专利权)人:三菱电机株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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