电荷粒子线装置、试样加工方法和观察方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供在需要进行各个装置之间的移动的试样的观察中容易在装置之间移动的电荷粒子线装置、试样加工方法、以及观察方法。在使用电荷粒子线加工试样上的观察对象的电荷粒子线装置中，具备：试样台，其载置上述试样；观察部，其观察上述观察对象；写入部，其向上述试样的写入位置写入上述观察对象的信息。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电荷粒子线装置、试样加工方法和观察方法
本专利技术涉及电荷粒子线装置、试样加工方法和观察方法。
技术介绍
在以半导体领域为首的各种领域中，广泛使用聚焦离子束(FIB)装置、离子研磨装置，进行通过透射电子显微镜(TEM)、扫描透射电子显微镜(STEM)观察的试样的预处理。这时，需要使试样从实施预处理的装置向进行观察的装置移动，希望一种在装置之间容易地共享已实施预处理的部位的位置信息这样的观察对象的信息的方法。作为这样的技术，例如在专利文献1中，公开了以下的方法，即准备能够在装置之间共享的试样架，具备将观察对象的信息记录到该试样架的存储介质，由此共享观察对象的信息。在专利文献2中，公开了一种电荷粒子线装置用试样保持装置，其在支承试样的试样盒中设置存储与试样有关的数据的存储介质。现有技术文献专利文献1：日本特开2006-156263号公报专利文献2：日本特开2001-291483号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题但是，在专利文献1和2记载的方法中，使用能够改写信息的存储介质，因此写入的观察对象的信息有可能会消失。另外，在从试样架或试样盒装卸试样时，有可能引起拿错。进而，在每次装卸试样时，用户必须进行信息的移动或改写，因此十分麻烦。因此，本专利技术提供在需要进行多个装置之间的移动的试样的观察中，容易进行装置之间的移动的电荷粒子线装置、试样加工方法、以及观察方法。解决问题的方案代表性的本专利技术的电荷粒子线装置之一是使用电荷粒子线加工试样上的观察对象的电荷粒子线装置，其特征在于，该电荷粒子线装置具备：试样台，其载置上述试样；观察部，其观察上述观察对象；写入部，其向上述试样的写入位置写入上述观察对象的信息。另外，本专利技术的电荷粒子线装置之一是使用电荷粒子线观察试样上的观察对象的电荷粒子线装置，其特征在于，该电荷粒子线装置具备：试样台，其载置上述试样；观察部，其使用上述电荷粒子线观察上述试样；控制部，其读取上述观察对象的信息，上述观察部观察在上述试样的写入位置写入的上述观察对象的信息，上述控制部从上述观察对象的信息中读取上述观察对象的位置与上述写入位置的位置关系，上述试样台根据上述位置关系，使上述观察对象移动到上述电荷粒子线的照射位置，上述观察部观察上述观察对象。代表性的本专利技术的试样加工方法之一是使用电荷粒子线装置加工试样的方法，其特征在于，该方法包括：将上述试样插入上述电荷粒子线装置的步骤；观察上述试样上的观察对象的步骤；向上述试样的写入位置写入上述观察对象的信息的步骤。代表性的本专利技术的观察方法之一是使用电荷粒子线装置观察试样上的观察对象的观察方法，其特征在于，该观察方法包括：观察向上述试样写入的上述观察对象的信息的步骤；根据上述观察对象的信息，判断上述观察对象的位置的步骤；移动上述试样以便能够观察上述判断出的上述观察对象的位置的步骤；观察上述观察对象的步骤。专利技术效果根据本专利技术，在需要进行多个装置之间的移动的试样的观察中，能够容易地进行装置之间的移动。根据以下的实施方式的说明能够了解上述以外的问题、结构、以及效果。附图说明图1是表示第一实施方式所涉及的电荷粒子线装置的概要图。图2是表示第一实施方式所涉及的试样的加工方法的流程图。图3A是表示试样的加工时的电荷粒子线装置1的动作的概要图。图3B是表示试样的加工时的电荷粒子线装置1的动作的概要图。图3C是表示试样的加工时的电荷粒子线装置1的动作的概要图。图3D是表示试样的加工时的电荷粒子线装置1的动作的概要图。图3E是表示试样的加工时的电荷粒子线装置1的动作的概要图。图3F是表示试样的加工时的电荷粒子线装置1的动作的概要图。图4A是表示向试样写入的图案的一个例子的概要图。图4B是表示向试样写入的图案的一个例子的概要图。图4C是表示向试样写入的图案的一个例子的概要图。图5是表示GUI画面的一个例子的概要图。图6是表示第一实施方式所涉及的TEM装置的概要图。图7是表示第一实施方式所涉及的试样的观察方法的流程图。图8是表示GUI画面的一个例子的概要图。图9是表示第二实施方式所涉及的电荷粒子线装置的概要图。图10是表示第二实施方式所涉及的试样的观察方法的流程图。图11A是表示写入位置的一个例子的概要图。图11B是表示写入位置的一个例子的概要图。图11C是表示写入位置的一个例子的概要图。图11D是表示写入位置的一个例子的概要图。具体实施方式以下，参照附图说明本专利技术的实施方式。此外，附图只是用于理解本专利技术，并不是缩减权利范围。另外，在各图中，对共通的结构附加相同的参照编号。(1)第一实施方式<加工试样的电荷粒子线装置的结构例子>参照图1说明第一实施方式的电荷粒子线装置1的结构。如图1所示，电荷粒子线装置1具备离子束柱(ionbeamcolumn)101a(写入部)、离子束柱控制器131、电子束柱102a、电子束柱控制器132、载置试样103的试样台104、试样台控制器134、试样室105、电荷粒子检测器106(观察部)、电荷粒子检测器107、检测器控制器136和137、X射线检测器109、X射线检测器控制器139、综合计算机130(控制部)、输入设备151、以及显示器152(显示部)。离子束柱101a是包含用于产生离子束101b的离子源、用于使离子束101b聚焦的透镜、用于使离子束101b扫描、偏移的偏转系统等作为FIB装置所需要的全部构成要素的系统。作为离子束101b，一般使用镓离子，但能够与加工、观察的目的对应地适当地变更离子种类。另外，离子束101b不限于聚焦离子束，也可以是宽束离子束。离子束柱控制器131控制离子束柱101a。例如，控制基于离子束柱101a的离子源的离子束101b的产生、偏转系统的驱动等。电子束柱102a是包含用于产生电子束102b的电子源、用于使电子束102b聚焦的透镜、用于使电子束102b扫描、偏移的偏转系统等作为SEM装置所需要的全部构成要素的系统。电子束柱控制器132控制电子束柱102a。例如，控制基于电子束柱102a的电子源的电子束102b的产生、偏转系统的驱动等。穿过离子束柱101a的离子束101b和穿过电子束柱102a的电子束102b主要聚焦于离子束柱的光轴101c与电子束柱的光轴102c的交点即交叉点171。在本实施方式中，如图1所示，垂直配置离子束柱101a，倾斜配置电子束柱102a，但并不限于此，也可以倾斜配置离子束柱101a，垂直配置电子束柱102a。另外，也可以倾斜配置离子束柱101a和电子束柱102a的双方。也可以代替离子束柱101a和电子束柱102a，而为具备镓聚焦离子束柱、氩聚焦离子束柱、以及电子束柱的三柱结构。另外，电荷粒子线装置1既可以只具备离子束柱101a，也可以只具备本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电荷粒子线装置，其使用电荷粒子线加工试样上的观察对象，其特征在于，该电荷粒子线装置具备：/n试样台，其载置上述试样；/n观察部，其观察上述观察对象；/n写入部，其向上述试样的写入位置写入上述观察对象的信息。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种电荷粒子线装置，其使用电荷粒子线加工试样上的观察对象，其特征在于，该电荷粒子线装置具备：
试样台，其载置上述试样；
观察部，其观察上述观察对象；
写入部，其向上述试样的写入位置写入上述观察对象的信息。


2.根据权利要求1所述的电荷粒子线装置，其特征在于，
上述观察对象的信息包含上述观察对象的位置与上述写入位置的位置关系。


3.根据权利要求2所述的电荷粒子线装置，其特征在于，
上述写入位置是上述试样的基准位置。


4.根据权利要求1所述的电荷粒子线装置，其特征在于，
上述写入部通过上述电荷粒子线写入上述观察对象的信息。


5.根据权利要求1所述的电荷粒子线装置，其特征在于，
上述写入部包含冲压机。


6.根据权利要求1所述的电荷粒子线装置，其特征在于，
该电荷粒子线装置还具备控制部，
上述控制部根据上述观察对象的信息，生成向上述试样写入的图案，
上述观察对象的信息作为上述图案被写入。


7.根据权利要求1所述的电荷粒子线装置，其特征在于，
该电荷粒子线装置还具备显示部，
上述显示部显示向上述试样写入的上述观察对象的信息。


8.一种电荷粒子线装置，其使用电荷粒子线观察试样上的观察对象，其特征在于，该电荷粒子线装置具备：
试样台，其载置上述试样；
观察部，其使用上述电荷粒子线观察上述试样；
控制部，其读取上述观察对象的信息，
上述观察部观察在上述试样的写入位置写入的上述观察对象的信息，
上述控制部...

【专利技术属性】
技术研发人员：野间口恒典，三濑大海，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：日本;JP