实现光纤密排线阵列中光点密接的光纤密排模块制造技术

本实用新型专利技术公开了一种实现光纤密排线阵列中光点密接的光纤密排模块。它具有基底和压板，基底上刻蚀有平行等间距的Ｖ形槽，基底和压板表面镀有薄膜，在基底的Ｖ形槽上放有微光纤，在微光纤上放有压板，基底与压板用紫外胶粘接成一体。所述的微光纤的直径为５～２５微米。基底采用硅片，压板采用玻璃片。薄膜为氟化镁薄膜，薄膜的厚度要大于０．３微米。本实用新型专利技术的有益效果：１）实现了光纤密排线阵列中光点密接的光纤密排模块；２）提高了激光照排系统中成像的精度；３）增加了焦深，降低了聚焦透镜的倍率和对胶片曝光时的位置精度的要求。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种实现光纤密排线阵列中光点密接的光纤密排模块。技术背景在激光照排机、激光光绘机以及直接制板机这一类激光扫描设备中，实现 多路光扫描的一个主要方案是采用多个半导体激光器、多路光纤密排构造一个 光点线阵列作为物平面，然后经过成像系统按一定比例成像在像平面(胶片表 面)上，从而实现多路扫描。然而由于普通光纤中光只在中心很小的区域内分布，例如一个典型的多模光纤尺寸是外径125微米，芯径(导光部分)为62.5微米，如果是单模光纤芯 径只有8 10微米。即使光纤无间隙排列，密排阵列发出的光点之间也是分离 的(参见图6)。以光纤阵列出光端面作为物平面，经过成像系统，在像平面上 得到的光点也是分离的，这是不能满足扫描要求的。如果采用离焦的方法扩大 像面光点直径，虽然可以弥和光点之间的间隙，但会牺牲光点的边缘质量。为了解决这个问题，有的采用将光纤密排倾斜一定角度，通过电路上的延 时来控制打点，使光点密排。这种方法是成功的，但是控制电路复杂，不能解 决聚焦光点焦深短的问题。
技术实现思路
本技术的目的是提出一种实现光纤密排线阵列中光点密接的光纤密排 模块。它具有基底和压板,基底上刻蚀有平本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种实现光纤密排线阵列中光点密接的光纤密排模块，其特征在于，它具有基底（１）和压板（２），基底上刻蚀有平行等间距的Ｖ形槽（５），基底和压板表面镀有薄膜（６），在基底的Ｖ形槽上放有微光纤（３），在微光纤上放有压板（２），基底与压板用紫外胶（４）粘接成一体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：侯昌伦，杨国光，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：实用新型
国别省市：86[中国|杭州]