一种连续沉积金刚石薄膜设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种连续沉积金刚石薄膜设备。包括预沉积室、沉积室、制品待取室及将预沉积室的基片从所述预沉积室依次传输至沉积室、制品待取室的基片传输装置，其中，所述预沉积室、沉积室、制品待取室依次设置且依次连接，预沉积室内充入基片沉积时所需气氛气体，在所述沉积室内当前热丝结构的作用下，依次对进入所述沉积室的多批次基片进行金刚石薄膜沉积，实现了在不更换热丝结构的前提下，多次金刚石膜的沉积，避免了现有技术中由于热丝消耗和中间更换热丝所导致的成本非必要提高问题，有利于金刚石薄膜的推广。

【技术实现步骤摘要】
一种连续沉积金刚石薄膜设备
本技术涉及热丝化学沉积技术,具体涉及一种连续沉积金刚石薄膜设备。
技术介绍
通常热丝CVD技术是通过加热金属丝，使其达到2000℃以上，在沉积环境下，氢气分解为原子态氢，碳氢原料气体也分解为活性碳氢基团，参与金刚石膜的沉积。由于加热用的高温难熔金属丝在反应中被碳化为硬脆的碳化物，通常只能一次性使用，无法继续第二次使用，故HFCVD方法通常是在完成一次沉积后重新装丝，然后再进行下一沉积,但其中更换新丝所需的时间相对较长，故所述热丝消耗及所述中间更换热丝的时间消耗导致了整个沉积工艺成本的提高，这不利于热丝化学沉积技术的发展，大面积金刚石薄膜的推广，该问题急需改进。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本技术的目的在于提供一种连续沉积金刚石薄膜设备。根据本技术的一个方面，提供了一种连续沉积金刚石薄膜设备，包括预沉积室、沉积室、制品待取室及将预沉积室的基片从所述预沉积室依次传输至沉积室、制品待取室的基片传输装置，其中，所述预沉积室、沉积室、制品待取室依次设置且依次连接，预沉积室内充入基片沉积时所需气氛气体，预本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种连续沉积金刚石薄膜设备，其特征是，包括预沉积室、沉积室、制品待取室及将预沉积室的基片从所述预沉积室依次传输至沉积室、制品待取室的基片传输装置，其中，所述预沉积室、沉积室、制品待取室依次设置且依次连接，预沉积室内充入基片沉积时所需气氛气体，预沉积室内的当前批次基片在所述基片传输装置传输下进入所述沉积室内，同时，所述沉积室内已完成金刚石薄膜沉积的基片经所述基片传输装置传输至所述制品待取室，在所述沉积室内当前热丝结构的作用下，依次对进入所述沉积室的多批次基片进行金刚石薄膜沉积。/n

【技术特征摘要】
1.一种连续沉积金刚石薄膜设备，其特征是，包括预沉积室、沉积室、制品待取室及将预沉积室的基片从所述预沉积室依次传输至沉积室、制品待取室的基片传输装置，其中，所述预沉积室、沉积室、制品待取室依次设置且依次连接，预沉积室内充入基片沉积时所需气氛气体，预沉积室内的当前批次基片在所述基片传输装置传输下进入所述沉积室内，同时，所述沉积室内已完成金刚石薄膜沉积的基片经所述基片传输装置传输至所述制品待取室，在所述沉积室内当前热丝结构的作用下，依次对进入所述沉积室的多批次基片进行金刚石薄膜沉积。


2.根据权利要求1所述的连续沉积金刚石薄膜设备，其特征是，所述预沉积室与所述沉积室连通时，所述预沉积室与所述沉积室内的气体气氛一致。


3.根据权利要求1所述的连续沉积金刚石薄膜设备，其特征是，所述热丝结构为热丝阵列结构。


4.根据权利要求1所述的连续沉积金刚石薄膜设备，其特征是，所述预沉积室与所述沉积室之间设置第一隔离门，通过所述第一隔离门的开启与关闭实现所述预沉积室与所述沉积室的连通与隔断；
所述沉积室与所述制品待取室之间设置第二隔离门，通过所述第二隔离门的开启与关闭实现所述沉积室与所述制品待取室的连通与隔断。


5.根据权利要求1-4任一所述的连续沉积金刚石薄膜设备，其特征是，所述基片传输装置包括沉积冷却台，所述沉积冷却台置于所述沉...

【专利技术属性】
技术研发人员：玄真武，李勇，张怡，何敬晖，
申请(专利权)人：中材人工晶体研究院有限公司，北京中材人工晶体研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11