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本实用新型涉及一种连续沉积金刚石薄膜设备。包括预沉积室、沉积室、制品待取室及将预沉积室的基片从所述预沉积室依次传输至沉积室、制品待取室的基片传输装置，其中，所述预沉积室、沉积室、制品待取室依次设置且依次连接，预沉积室内充入基片沉积时所需气氛...该专利属于中材人工晶体研究院有限公司;北京中材人工晶体研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中材人工晶体研究院有限公司;北京中材人工晶体研究院有限公司授权不得商用。